微型光学镜头、取像装置及电子装置制造方法及图纸

本揭示内容是关于一种微型光学镜头、取像装置及电子装置。一种微型光学镜头，包含一光学元件。光学元件包含一低反射层。低反射层位于光学元件的至少一表面，且低反射层包含多个纳米结晶，其位于低反射层的一表面。其中，光学元件是为一遮光元件、一环形间隔元件及一镜筒元件中至少一者。当满足特定条件时，有助于破坏并削弱入射在所述表面的杂散光线强度，有助维持光学元件表面的超低反射率，并明显提升微型光学镜头的光学成像品质。

Micro optical lens, image taking device and electronic device

【技术实现步骤摘要】
微型光学镜头、取像装置及电子装置
本专利技术是关于一种光学镜头，特别是关于一种包含光学元件的微型光学镜头。
技术介绍
近年来日趋流行以移动装置的微型光学镜头进行摄影拍照，但移动装置常因在户外使用而受到强烈阳光光线影响，使得光学镜头被强烈非成像杂散光影响而大幅降低成像品质。已知技术在光学镜头中的不透明光学元件表面进行涂墨、喷砂与镀膜等技术，以达到降低反射率与消除杂散光线效果，虽可提升光学成像品质，但其效果仍不足以消除高强度杂散光线。再者，在非移动装置光学镜头领域仍具有其他降低反射率技术，其通过制造膜层表面以产生具多孔洞的微结构，然其结构支撑性不足，并容易因外力导致膜层变形而大幅降低抗反射效果。此外，虽有已知技术是以多层镀膜方式以期达到更佳的抗反射效果，但多层制作较为过程复杂，且镀膜成本居高不下，使其无法于光学镜头产业广泛应用。
技术实现思路
本专利技术提供的微型光学镜头、取像装置及电子装置，其于光学元件至少一表面设置低反射层，有助维持光学元件表面的超低反射率，以有效提升微型光学镜头的光学成像品质。依据本本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微型光学镜头，其特征在于，包含：/n一光学元件，包含：/n一低反射层，位于该光学元件的至少一表面，且该低反射层包含：/n多个纳米结晶，位于该低反射层的一表面；/n其中，该光学元件是为一遮光元件、一环形间隔元件及一镜筒元件中至少一者；/n其中，所述多个纳米结晶的平均粒径为DC，该低反射层于波长380nm-780nm的反射率为R3878，其满足下列条件：/n5nm≤DC≤200nm；以及/nR3878≤0.50％。/n

【技术特征摘要】
20181130 US 62/773,2501.一种微型光学镜头，其特征在于，包含：
一光学元件，包含：
一低反射层，位于该光学元件的至少一表面，且该低反射层包含：
多个纳米结晶，位于该低反射层的一表面；
其中，该光学元件是为一遮光元件、一环形间隔元件及一镜筒元件中至少一者；
其中，所述多个纳米结晶的平均粒径为DC，该低反射层于波长380nm-780nm的反射率为R3878，其满足下列条件：
5nm≤DC≤200nm；以及
R3878≤0.50％。


2.根据权利要求1所述的微型光学镜头，其特征在于，所述多个纳米结晶的平均粒径为DC，其满足下列条件：
10nm≤DC≤150nm。


3.根据权利要求2所述的微型光学镜头，其特征在于，所述多个纳米结晶的平均粒径为DC，其满足下列条件：
39nm≤DC≤88nm。


4.根据权利要求1所述的微型光学镜头，其特征在于，该低反射层于波长380nm-780nm的反射率为R3878，其满足下列条件：
R3878≤0.30％。


5.根据权利要求4所述的微型光学镜头，其特征在于，该低反射层于波长380nm-780nm的反射率为R3878，其满足下列条件：
R3878≤0.15％。


6.根据权利要求2所述的微型光学镜头，其特征在于，该低反射层于波长380nm-500nm的反射率为R3850，其满足下列条件：
R3850≤0.40％。


7.根据权利要求2所述的微型光学镜头，其特征在于，该低反射层于波长400nm-700nm的反射率为R4070，其满足下列条件：
R4070≤0.50％。


8.根据权利要求2所述的微型光学镜头，其特征在于，该...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱国强，张建邦，邓钧鸿，蔡温祐，
申请(专利权)人：大立光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71