用于高功率激光装置的三倍频增透膜及其制备方法和应用制造方法及图纸

本发明专利技术公开了用于高功率激光装置的三倍频增透膜及其制备方法和应用，制备方法包括以下步骤：将正硅酸乙酯、无水乙醇、水、碱性催化剂混合均匀，常温反应，再将该溶胶在40℃下回流；加入硅烷偶联剂，再加入酸性催化剂，在80‑100℃下继续反应，然后加入引发剂，得到目标溶胶；将该溶胶涂覆于KDP晶体上，依次进行光辐照和烘烤后即得。采用本发明专利技术制备的三倍频增透膜，可大幅提升SiO

Triplex antireflection film for high power laser device and its preparation and Application

【技术实现步骤摘要】
用于高功率激光装置的三倍频增透膜及其制备方法和应用
本专利技术属于光学薄膜
，具体涉及一种用于高功率激光装置的三倍频增透膜及其制备方法和应用。
技术介绍
KDP(磷酸二氢钾)晶体具有优异的非线性光学性质，是大型激光装置中实现倍频激光转换所必需的光学元件，广泛应用于高功率强激光光学领域。由于高功率激光装置输出激光的波长短且能量高，目前只能采用多孔结构的纳米颗粒薄膜才能承受该能量。然而多孔结构纳米薄膜内部的纳米颗粒仅靠微弱的分子键结合，在高能激光的轰击下容易发生膜层脱落，导致膜层受损甚至功能丧失，严重影响其在高功率激光装置中的应用。
技术实现思路
本专利技术的目的在于：为解决现有技术中存在的不足，提供一种用于高功率激光装置的三倍频增透膜及其制备方法和应用，本专利技术方法可大幅提升多孔薄膜内部纳米颗粒间的结合力，从而有效增大膜层的机械强度，且不会破坏原有的多孔结构。本专利技术采用的技术方案如下：一种用于高功率激光装置的三倍频增透膜的制备方法，包括以下步骤：S1.将正硅酸乙酯、无水乙醇、水、碱性本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于高功率激光装置的三倍频增透膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1.将正硅酸乙酯、无水乙醇、水、碱性催化剂混合均匀，常温反应2-6h，然后在40℃下回流得到溶胶；/nS2.将硅烷偶联剂加入S1所得溶胶，再加入酸性催化剂，在80-100℃下继续反应4-8h，然后加入引发剂，得到目标溶胶；/nS3.将S2所得目标溶胶涂覆于KDP晶体上，得到待固化薄膜；/nS4.对S3所得待固化薄膜采用紫外辐照，然后烘烤，即得。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于高功率激光装置的三倍频增透膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1.将正硅酸乙酯、无水乙醇、水、碱性催化剂混合均匀，常温反应2-6h，然后在40℃下回流得到溶胶；
S2.将硅烷偶联剂加入S1所得溶胶，再加入酸性催化剂，在80-100℃下继续反应4-8h，然后加入引发剂，得到目标溶胶；
S3.将S2所得目标溶胶涂覆于KDP晶体上，得到待固化薄膜；
S4.对S3所得待固化薄膜采用紫外辐照，然后烘烤，即得。


2.根据权利要求1所述的用于高功率激光装置的三倍频增透膜的制备方法，其特征在于，所述S1中正硅酸乙酯、无水乙醇、水、碱性催化剂的摩尔比为0.5-1.5：8-12：2-4：0.001-0.003。


3.根据权利要求2所述的用于高功率激光装置的三倍频增透膜的制备方法，其特征在于，所述S1中正硅酸乙酯、无水乙醇、水、碱性催化剂的摩尔比为1：10：3：0.002。


4.根据权利要求1所述的用于高功率激光装置的三倍频增透膜的制备方法，其特征在于，所述S1中碱性催化剂为氨水。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓雪然，雷向阳，杨伟，张清华，惠浩浩，马红菊，王天宇，张帅，高锐，苏文虎，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：四川;51