防反射玻璃制造技术

提供具备优异的耐擦伤性的防反射玻璃。防反射玻璃(1)具备：玻璃基材(2)、和配置于玻璃基材(2)的上侧的防反射层(3)，防反射玻璃(1)的上表面的表面粗糙度Ra不足2.0nm。

Antireflection glass

【技术实现步骤摘要】
防反射玻璃
本专利技术涉及防反射玻璃、详细而言涉及适合用于光学用途的防反射玻璃。
技术介绍
以往以来，液晶显示器等图像显示装置中，为了防止外部光的反射，在显示器画面的最表面配置有防反射薄膜。防反射薄膜通常在树脂薄膜上形成有包含高折射率层及低折射率层的防反射层。防反射薄膜由于被配置在画面的最表层，因此要求耐擦伤性。具体而言，必须使得防反射层不因来自外部的冲击而从树脂薄膜上剥离。作为这样的防反射薄膜，例如公开了一种依次具备树脂薄膜、密合层、和防反射层的防反射薄膜(参照专利文献1。)。该防反射薄膜通过密合层抑制了防反射层的剥离。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2014-167621号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题对于专利文献1的防反射薄膜，能够抑制防反射层的剥离，但会发生在密合层、树脂薄膜上产生损伤的不良情况。因此，除了设置密合层以外，还研究了在树脂薄膜表面进而设置硬涂层。但是，即使在设置有硬涂层的情况下，也有在硬涂层等各层产生损伤的不良情况，是不充分的。因此，要求耐擦伤性的进一步的提高。本专利技术提供一种耐擦伤性优异的防反射玻璃。用于解决问题的方案本专利技术[1]包含一种防反射玻璃，其具备：玻璃基材、和配置于前述玻璃基材的厚度方向一侧的防反射层，前述防反射玻璃的前述厚度方向一侧的表面的表面粗糙度Ra不足2.0nm。本专利技术[2]包含[1]所述的防反射玻璃，其中，前述玻璃基材的厚度为150μm以下。本专利技术[3]包含[1]或[2]所述的防反射玻璃，其中，还具备配置于前述防反射层的厚度方向一侧的防污层。专利技术的效果本专利技术的防反射玻璃具备玻璃基材和防反射层，厚度方向一侧的表面的表面粗糙度Ra不足2.0nm，因此耐擦伤性优异。附图说明图1示出本专利技术的防反射玻璃的一实施方式的截面图。图2示出图1所示的防反射玻璃的变形例(不具备防污层的形态)。附图标记说明1防反射玻璃2玻璃基材3防反射层4防污层具体实施方式1.防反射玻璃参照图1对作为本专利技术的防反射玻璃的一实施方式的防反射玻璃1进行说明。图1中，纸面上下方向为上下方向(厚度方向、第1方向)，纸面上侧为上侧(厚度方向一侧、第1方向一侧)，纸面下侧为下侧(厚度方向另一侧、第1方向另一侧)。另外，纸面左右方向及深度方向为与上下方向正交的面方向。具体而言，以各图的方向箭头为基准。如图1所示，防反射玻璃1具备具有规定厚度的薄膜形状(包含片形状)，具有沿与厚度方向正交的规定方向(面方向)延伸的、平坦的上表面(厚度方向一面)及平坦的下表面(厚度方向另一面)。具体而言，防反射玻璃1具备：玻璃基材2、配置于玻璃基材2的上侧(厚度方向一侧)的防反射层3、和配置于防反射层3的上侧的防污层4。即，防反射玻璃1在上下方向(厚度方向)依次具备玻璃基材2、防反射层3及防污层4。防反射玻璃1优选由玻璃基材2、防反射层3及防污层4形成。以下，对各层进行详细叙述。(玻璃基材)玻璃基材2为防反射玻璃1的最下层，是确保防反射玻璃1的机械强度并支撑防反射层3及防污层4的支撑材料。玻璃基材2具有薄膜形状(包含片形状)，由透明的玻璃形成。作为玻璃，例如，可列举出无碱玻璃、钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、铝硅酸盐玻璃等。玻璃基材2的总透光率(JISK7375-2008)例如为80％以上，优选为85％以上。玻璃基材2的厚度例如为150μm以下，优选为120μm以下、更优选为100μm以下。另外，玻璃基材2的厚度例如为10μm以上，优选为30μm以上。玻璃基材2的厚度为上述上限以下时，挠性优异、能卷绕成卷状。另外，玻璃基材2的厚度为上述下限以上时，防反射玻璃1的耐擦伤性优异。另外，机械强度优异、能够抑制辊对辊输送时的破损。玻璃基材2的厚度例如可以使用直读式厚度计(dialgauge)(PEACOCK株式会社制、“DG-205”)进行测定。(防反射层)防反射层3为用于防止太阳光、室内光等外部光的反射的层。防反射层3具有薄膜形状。防反射层3以与玻璃基材2的上表面接触的方式配置在玻璃基材2的上表面整面。更具体而言，防反射层3以与玻璃基材2的上表面及防污层4的下表面接触的方式配置于玻璃基材2与防污层4之间。即，防反射层3与玻璃基材2的上表面直接接触。防反射层3具备高折射率层5和低折射率层6，优选为高折射率层与低折射率层的交替层叠体。具体而言，防反射层3为4层层叠体，自下方起依次具备第1高折射率层5a、第1低折射率层6a、第2高折射率层5b及第2低折射率层6b。防反射层3优选由金属氧化物等无机化合物形成。具体而言，作为高折射率层5(第1高折射率层5a或第2高折射率层5b)的材料，分别可列举出例如铌的氧化物、钛的氧化物、锆的氧化物、铟锡氧化物、锑锡复合氧化物等金属氧化物。优选可列举出铌的氧化物(Nb2O5)。高折射率层5的折射率分别例如为1.8以上，另外，例如为2.4以下。折射率为波长550nm下的折射率，例如可以用阿贝折射率计进行测定。高折射率层5的厚度分别为例如5nm以上，优选为10nm以上，例如为200nm以下，优选为150nm以下。优选第2高折射率层5b的厚度比第1高折射率层5a的厚度厚，第2高折射率层5b的厚度相对于第1高折射率层5a的厚度的比(5b/5a)例如为2倍以上，优选为5倍以上，另外，例如为20倍以下，优选为15倍以下。上述比为上述范围时，能够进一步减少在空气界面的反射。作为低折射率层6(第1低折射率层6a或第2低折射率层6b)的材料，分别可列举出例如硅氧化物、氟化镁等。优选可列举出硅氧化物(SiO2)。低折射率层6的折射率分别为例如1.6以下，另外，例如为1.3以上。低折射率层6的厚度分别为例如10nm以上，优选为20nm以上，例如为200nm以下，优选为150nm以下。优选第2低折射率层6b的厚度比第1低折射率层6a的厚度厚，第2低折射率层6b的厚度相对于第1低折射率层6a的厚度的比(6b/6a)例如为1.5倍以上，优选为2倍以上，另外，例如为10倍以下，优选为5倍以下。上述比为上述范围时，能够进一步减少在空气界面的反射。防反射层3的总厚度例如为100nm以上，优选为200nm以上，另外，例如为1000nm以下，优选为500nm以下。防反射层3的厚度例如可以使用透射电子显微镜(日本电子株式会社制、“JEM-2100Plus”)、或扫描型荧光X射线分析装置(RigakuCorporation制、“ZSXPrimusII”)进行测定。(防污层)防污层4为用于抑制指纹、尘土等污染物质附着于防反射玻璃1的上表面的层。防污层4为防反射玻璃1的最上层，具有薄膜形状。防污层4以与防反射层3的上表面接触的方式配置于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防反射玻璃，其特征在于，具备：/n玻璃基材、/n和配置于所述玻璃基材的厚度方向一侧的防反射层，/n所述防反射玻璃的所述厚度方向一侧的表面的表面粗糙度Ra不足2.0nm。/n

【技术特征摘要】
20181009 JP 2018-1911641.一种防反射玻璃，其特征在于，具备：
玻璃基材、
和配置于所述玻璃基材的厚度方向一侧的防反射层，
所述防反射玻璃的所述厚度方向一侧的表面的表面粗...

【专利技术属性】
技术研发人员：西森才将，梨木智刚，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP