基于手性电磁场的荧光传感器及系统技术方案

技术编号:24451786 阅读:30 留言:0更新日期:2020-06-10 14:28
本发明专利技术涉及基于手性电磁场的荧光传感器及系统,主要涉及电流测量领域。该荧光传感器包括:光接收器、聚焦透镜、第一金属结构、第二金属结构、荧光分子层、石墨烯层、热敏感层和半圆柱形透镜,当需要对待测电流进行测量的时候,使用圆偏振光通过该半圆柱形透镜对该第二金属结构进行照射,在该第一金属结构和第二金属结构之间产生手性电磁场,并将待测电流的正负极分别与该第一电极和第二电极进行电连接,该石墨烯层通电受热,使得该热敏感层受热产生形变,进而使得第一金属结构和第二金属结构之间的手性电磁场发生改变,进而改变该荧光分子层激发的荧光信号,通过该光接收器荧光信号改变的测量检测准确得到该电流的强度。

Fluorescence sensor and system based on chiral electromagnetic field

【技术实现步骤摘要】
基于手性电磁场的荧光传感器及系统
本专利技术涉及电流测量领域,主要涉及一种基于手性电磁场的荧光传感器及系统。
技术介绍
现有技术中对于电流的测量,一般是采用电学器件,常用的测电流器件有电流表、电压表和功率表,电流表、电压表和功率表均是通过电流、电压、电功率和电阻之间的关系完成对电流、电压和电功率的测量,测量结束后通过电学公式计算,得到所需电流。但是现有技术中的电流表、电压表和功率表中都存在电阻,电阻在使用一段时间之后会氧化,使得电阻的阻值发生改变,从而使得计算得到的电流产生误差,进而使得对电流的测量不准确。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,针对上述现有技术中的不足,提供一种手性电磁场的荧光传感器及系统,以解决现有技术中的电流表、电压表和功率表中都存在电阻,电阻在使用一段时间之后会氧化,使得电阻的阻值发生改变,从而使得计算得到的电流产生误差,进而使得对电流的测量不准确的问题。为实现上述目的,本专利技术实施例采用的技术方案如下:第一方面,本申请提供一种基于手性电磁场的荧光传感器,荧光传感器包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于手性电磁场的荧光传感器,其特征在于,所述荧光传感器包括:光接收器、聚焦透镜、第一金属结构、第二金属结构、荧光分子层、石墨烯层、热敏感层和半圆柱形透镜;所述第一金属结构和所述第二金属结构分部包括多个金属单元;所述半圆柱形透镜层平面一侧紧贴设置有所述热敏感层,所述热敏感层靠近所述半圆柱形透镜层的一侧镶嵌有所述第二金属结构,所述热敏感层远离所述半圆柱形透镜的一侧紧贴设置有所述石墨烯层,所述石墨烯层远离所述半圆柱形透镜的一侧紧贴设置有所述荧光分子层,所述荧光分子层远离所述半圆柱形透镜的一侧紧贴设置有所述第一金属结构,所述第一金属结构远离所述半圆柱形透镜的一侧设置有所述聚焦透镜,所述聚焦透镜...

【技术特征摘要】
1.一种基于手性电磁场的荧光传感器,其特征在于,所述荧光传感器包括:光接收器、聚焦透镜、第一金属结构、第二金属结构、荧光分子层、石墨烯层、热敏感层和半圆柱形透镜;所述第一金属结构和所述第二金属结构分部包括多个金属单元;所述半圆柱形透镜层平面一侧紧贴设置有所述热敏感层,所述热敏感层靠近所述半圆柱形透镜层的一侧镶嵌有所述第二金属结构,所述热敏感层远离所述半圆柱形透镜的一侧紧贴设置有所述石墨烯层,所述石墨烯层远离所述半圆柱形透镜的一侧紧贴设置有所述荧光分子层,所述荧光分子层远离所述半圆柱形透镜的一侧紧贴设置有所述第一金属结构,所述第一金属结构远离所述半圆柱形透镜的一侧设置有所述聚焦透镜,所述聚焦透镜远离所述第一金属结构的一侧设置有所述光接收器,所述石墨烯层两侧分别设置有第一电极和第二电极。


2.根据权利要求1所述的基于手性电磁场的荧光传感器,其特征在于,所述热敏感层的材料为热敏感材料。


3.根据权利要求1所述的基于手性电磁场的荧光传感器,其特征在于,所述第一金属结构和所述第二金属结构的所述金属单元的形状和尺寸均相同。


4.根据权利要求3所述的基于手性电磁场的...

【专利技术属性】
技术研发人员:张中月阿卜杜·外力白瑜李颖
申请(专利权)人:陕西师范大学
类型:发明
国别省市:陕西;61

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