光电检测探头制造技术

技术编号:24450651 阅读:16 留言:0更新日期:2020-06-10 14:11
本公开涉及光电检测技术领域,提出了一种光电检测探头,包括本体部、面电阻探头、光源发射部以及光源接收部,面电阻探头设置在本体部上;光源发射部设置在本体部上,面电阻探头与光源发射部间隔设置,且均朝向同一方向;光源接收部用于与光源发射部相对设置。本公开的光电检测探头通过将朝向相同的面电阻探头和光源发射部设置在本体部上,可以避免测量过程中进行探头切换,即可以在一个方向上完成对测量基片的面电阻和光学透光率两项指标的获取,从而提高了测量的效率。

Photoelectric detection probe

【技术实现步骤摘要】
光电检测探头
本公开涉及光电检测
,尤其涉及一种光电检测探头。
技术介绍
石墨烯薄膜是透明导电薄膜的一种,因其具有良好的导电率及透明性,得到了广泛应用。目前石墨烯薄膜材料已经实现了中试级的规模生产,然而市场上石墨烯薄膜材料质量参差不齐,因此针对石墨烯薄膜材料的质量检测非常重要。石墨烯薄膜材料的质量检测手段通常是通过取样的方式制作小尺寸样品,然后在拉曼电镜、原子力显微镜等实验室内做抽样检测。这种测量手段效率比较低,适合实验室级别的微观表征。为满足大批量制备生产线的质量检测要求,现有相关技术利用光学透光率和面电阻两项指标对石墨烯薄膜质量进行宏观评价,并且将这两种测量功能的光学透光率探头和面电阻探头集成到一台设备上,这种技术进一步加快了检测效率,有利于保证薄膜材料的质量。但是上述技术中,光学透光率和面电阻的检测探头实际还是两个独立的探头,针对同一点位置测量两项指标需要配置探头的切换结构。两个探头的切换需要有相应运动机构,会增加成本。另外切换机构会存在测量定位精准度问题及效率问题。
技术实现思路
本公开的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷,提供一种光电检测探头。本专利技术提供了一种光电检测探头,包括:本体部;面电阻探头,面电阻探头设置在本体部上;光源发射部,光源发射部设置在本体部上,面电阻探头与光源发射部间隔设置,且均朝向同一方向;光源接收部,光源接收部用于与光源发射部相对设置。在本专利技术的一个实施例中,光源发射部和光源接收部中的至少之一包括光纤。在本专利技术的一个实施例中,本体部包括:主体,面电阻探头和光源发射部均设置在主体上;保护套,保护套与主体相连接,面电阻探头穿设在保护套的外侧,保护套上设置有透光孔,光源发射部发出的光源通过透光孔后照射到测量基片上;其中,保护套为弹性件。在本专利技术的一个实施例中,保护套与主体可拆卸地相连接,保护套与主体卡接。在本专利技术的一个实施例中,主体包括:探头手柄,探头手柄为中空件,面电阻探头和光源发射部均穿设在探头手柄的腔体内;绝缘体,绝缘体的一端与探头手柄相连接,绝缘体的另一端与保护套相连接,绝缘体上设置有供面电阻探头和光源发射部穿设的通孔。在本专利技术的一个实施例中,光电检测探头还包括连接线缆,光源发射部包括光纤,主体还包括:电气接头,电气接头连接于探头手柄远离绝缘体的一端,电气接头上设置有连接柱和穿设孔;其中,面电阻探头通过连接线缆与电气接头相连接,光纤穿设在穿设孔内。在本专利技术的一个实施例中,光电检测探头还包括:光源及数据处理单元,光纤与光源及数据处理单元相连接,以接收光源及数据处理单元发出的光源,光源及数据处理单元与连接柱和光源接收部均连接,以用于获取测量基片的光学透光率和面电阻。在本专利技术的一个实施例中,面电阻探头、光源发射部以及光源接收部同步运行地设置,以同步获取测量基片的光学透光率和面电阻。在本专利技术的一个实施例中,面电阻探针为非接触式的测量探头。在本专利技术的一个实施例中,面电阻探头为接触式的探头,面电阻探头包括4个探针,4个探针间隔设置,4个探针排成一行或正方形。本专利技术的光电检测探头通过将朝向相同的面电阻探头和光源发射部设置在本体部上,可以避免测量过程中进行探头切换,即可以在一个方向上完成对测量基片的面电阻和光学透光率两项指标的获取,从而提高了测量的效率。附图说明通过结合附图考虑以下对本公开的优选实施方式的详细说明,本公开的各种目标,特征和优点将变得更加显而易见。附图仅为本公开的示范性图解,并非一定是按比例绘制。在附图中,同样的附图标记始终表示相同或类似的部件。其中:图1是根据一示例性实施方式示出的一种光电检测探头的结构示意图;图2是根据一示例性实施方式示出的一种光电检测探头的第一部分剖面结构示意图;图3是根据一示例性实施方式示出的一种光电检测探头的第二部分剖面结构示意图;图4是根据第一个示例性实施方式示出的一种光电检测探头的面电阻探头和光源发射部的分布结构示意图;图5是根据第二个示例性实施方式示出的一种光电检测探头的面电阻探头和光源发射部的分布结构示意图;图6是根据第三个示例性实施方式示出的一种光电检测探头的面电阻探头和光源发射部的分布结构示意图。附图标记说明如下:10、本体部;11、主体;111、探头手柄;112、绝缘体;113、电气接头;114、连接柱;115、穿设孔;12、保护套;121、透光孔;20、面电阻探头;21、电压表;22、恒流源;30、光源发射部;31、光源;40、光源接收部;50、测量基片;60、连接线缆;70、光源及数据处理单元;71、第一连接导线;72、第二连接导线。具体实施方式体现本公开特征与优点的典型实施例将在以下的说明中详细叙述。应理解的是本公开能够在不同的实施例上具有各种的变化,其皆不脱离本公开的范围,且其中的说明及附图在本质上是作说明之用,而非用以限制本公开。在对本公开的不同示例性实施方式的下面描述中,参照附图进行,附图形成本公开的一部分,并且其中以示例方式显示了可实现本公开的多个方面的不同示例性结构,系统和步骤。应理解的是,可以使用部件,结构,示例性装置,系统和步骤的其他特定方案,并且可在不偏离本公开范围的情况下进行结构和功能性修改。而且,虽然本说明书中可使用术语“之上”,“之间”,“之内”等来描述本公开的不同示例性特征和元件,但是这些术语用于本文中仅出于方便,例如根据附图中的示例的方向。本说明书中的任何内容都不应理解为需要结构的特定三维方向才落入本公开的范围内。本专利技术的一个实施例提供了一种光电检测探头,请参考图1至图6,光电检测探头包括:本体部10;面电阻探头20,面电阻探头20设置在本体部10上;光源发射部30,光源发射部30设置在本体部10上,面电阻探头20与光源发射部30间隔设置,且均朝向同一方向;光源接收部40,光源接收部40用于与光源发射部30相对设置。本专利技术一个实施例的光电检测探头通过将朝向相同的面电阻探头20和光源发射部30设置在本体部10上,可以避免测量过程中进行探头切换,即可以在一个方向上完成对测量基片50的面电阻和光学透光率两项指标的获取,从而提高了测量的效率。在一个实施例中,间隔设置的面电阻探头20与光源发射部30均朝向同一方向,即二者的测量头均朝向测量基片50,在具体测量时无需转换本体部10的位置,对于测量基片50的测量可以是面电阻探头20与光源发射部30同步进行测量,也可以有一个启动的先后顺序,但由于无需切换,一定程度上提高了测量的效率。在一个实施例中,光源发射部30和光源接收部40配合使用,光源接收部40可以是一个独立的部件,即其独立于本体部10,光源接收部40与本体部10分离设置,在具体使用时,将测量基片50设置于本体部10和光源接收部40之间,此时,光源接收部40与光源发射部30相对设置本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光电检测探头,其特征在于,包括:/n本体部(10);/n面电阻探头(20),所述面电阻探头(20)设置在所述本体部(10)上;/n光源发射部(30),所述光源发射部(30)设置在所述本体部(10)上,所述面电阻探头(20)与所述光源发射部(30)间隔设置,且均朝向同一方向;/n光源接收部(40),所述光源接收部(40)用于与所述光源发射部(30)相对设置。/n

【技术特征摘要】
1.一种光电检测探头,其特征在于,包括:
本体部(10);
面电阻探头(20),所述面电阻探头(20)设置在所述本体部(10)上;
光源发射部(30),所述光源发射部(30)设置在所述本体部(10)上,所述面电阻探头(20)与所述光源发射部(30)间隔设置,且均朝向同一方向;
光源接收部(40),所述光源接收部(40)用于与所述光源发射部(30)相对设置。


2.根据权利要求1所述的光电检测探头,其特征在于,所述光源发射部(30)和所述光源接收部(40)中的至少之一包括光纤。


3.根据权利要求1所述的光电检测探头,其特征在于,所述本体部(10)包括:
主体(11),所述面电阻探头(20)和所述光源发射部(30)均设置在所述主体(11)上;
保护套(12),所述保护套(12)与所述主体(11)相连接,所述面电阻探头(20)穿设在所述保护套(12)的外侧,所述保护套(12)上设置有透光孔(121),所述光源发射部(30)发出的光源通过所述透光孔(121)后照射到测量基片(50)上;
其中,所述保护套(12)为弹性件。


4.根据权利要求3所述的光电检测探头,其特征在于,所述保护套(12)与所述主体(11)可拆卸地相连接,所述保护套(12)与所述主体(11)卡接。


5.根据权利要求3所述的光电检测探头,其特征在于,所述主体(11)包括:
探头手柄(111),所述探头手柄(111)为中空件,所述面电阻探头(20)和所述光源发射部(30)均穿设在所述探头手柄(111)的腔体内;
绝缘体(112),所述绝缘体(112)的一端与所述探头手柄(111)相连接,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:周竞辉高鹏张风港顾伟
申请(专利权)人:北京石墨烯研究院
类型:发明
国别省市:北京;11

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