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排空底座制造技术

技术编号:24425323 阅读:35 留言:0更新日期:2020-06-10 09:16
本发明专利技术涉及一种排空底座(3),所述排空底座(3)构造成承载电烹饪设备,所述排空底座(3)包括排空容座(70)和容座盖(80)并具有控制构件,所述控制构件构造成当所述排空底座(3)承载所述电烹饪设备时移动阀。根据本发明专利技术,所述容座盖(80)设置有通道,所述通道用于使烹饪浴流动到所述排空容座(70)中,所述排空底座(3)包括盖塞(90),所述盖塞(90)封闭所述通道,所述排空容座(70)具有包括容置部(73b)的下表面,并且所述排空容座(70)和所述容座盖(80)可以占据堆叠构造,在所述堆叠构造中,所述排空容座(70)搁置在所述容座盖(80)上,并且在所述堆叠构造中,所述容置部(73b)容置所述盖塞(90)。

Drain the base

【技术实现步骤摘要】
排空底座
本专利技术一般涉及包括适于收纳烹饪浴的容器的电烹饪设备及其附件的
本专利技术尤其是但非排他性地涉及包括适于收纳用于油炸食物的油浴或脂肪浴的容器的电炸锅及其附件。本专利技术更具体地涉及一种排空底座,该排空底座设置用于与电烹饪设备一起使用,该电烹饪设备包括配备有排空装置的容器,所述排空底座构造成在排空操作期间承载所述电烹饪设备。
技术介绍
文献EP1504705公开了一种烹饪设备,该烹饪设备包括配备有排空装置的容器。容器可以设置在排空容座上,用于将容器的内容物排空到排空容座中。排空容座与可移除的盖相关联。然而,应取下盖,以便可以进行容器的内容物的排空。文献EP2103240公开了一种烹饪设备,该烹饪设备包括配备有排空装置的容器。容器与排空容座相关联,该排空容座包括配备有填充孔的盖。然而,排空底座被插入到承载烹饪设备的底座的侧开口中。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是提供一种与电烹饪设备一起使用的使用可靠的排空底座,该电烹饪设备包括配备有排空装置的容器。本专利技术的另一个目的是提供一种包括电烹饪设备和排空容座的结构经济的烹饪组件。本专利技术的另一个目的是提供一种包括电烹饪设备和排空容座的外形尺寸有限的烹饪组件。这些目的是使用一种排空底座来实现的,所述排空底座构造成承载电烹饪设备,所述电烹饪设备包括容器,所述容器配备有排空装置,所述排空装置包括能够占据关闭的稳定返回位置和打开位置的阀,所述排空底座包括排空容座和容座盖,所述排空底座具有控制构件,所述控制构件构造成当所述排空底座承载所述电烹饪设备时将所述阀移动到打开位置,其特征在于,所述容座盖设置有通道,当所述排空底座承载所述电烹饪设备时,所述通道用于使烹饪浴流动到所述排空容座中,并且所述排空底座包括盖塞,当所述排空底座处于容纳在所述排空容座中的所述烹饪浴的贮存构造中时,所述盖塞封闭所述通道,并且所述排空容座具有包括容置部的下表面,并且所述排空容座和所述容座盖可以占据堆叠构造,在所述堆叠构造中,所述排空容座搁置在所述容座盖上,并且在所述堆叠构造中,所述容置部容置所述盖塞,所述盖塞关闭所述容座盖的所述通道。因此,使用者可以通过堆叠这些排空底座来使用多个排空底座以收集并保存不同的烹饪浴,这允许获得特别紧凑的构造。另外有利地,控制构件出自排空容座的下表面,并且容置部在控制构件下方延伸。该设置允许简化排空底座的构造。还有利地,容座盖包括侧向止挡件,所述侧向止挡件构造成限制搁置在容座盖上的排空容座的侧向运动。该设置允许烹饪底座在另一烹饪底座上定位的一定自由度。还有利地,容座盖具有包括凹陷部的上表面,并且侧向止挡件由凹陷部的侧壁形成。该设置允许实现沿多个方向将烹饪底座定位在另一烹饪底座上的自由度。另外有利地,容座盖具有多个主侧部,并且凹陷部中的至少一个布置在由两个相邻的主侧部限定的角形部中。该设置允许减小排空底座的外形尺寸。还有利地,所述容座盖具有四个主侧部,并且凹陷部中的每一个布置在由两个相邻的主侧部限定的角形部中。该设置允许减小排空底座的外形尺寸,同时便于将烹饪底座定位在另一烹饪底座上。还有利地,容座盖具有周边边缘,并且侧向止挡件由所述周边边缘围绕。该设置允许便于将烹饪底座定位在另一烹饪底座上。还有利地,排空容座包括容座脚,所述容座脚彼此间隔开并且构造成当排空容座和容座盖占据堆叠构造时搁置在容座盖上。该设置允许便于操作排空底座。另外有利地,当排空容座和容座盖占据堆叠构造时,容座脚搁置在凹陷部中。该设置允许获得当两个排空底座堆叠时的良好稳定性。还有利地,排空容座包括上支承件,当容座盖关闭排空容座时,所述上支承件在容座盖下方延伸。如果需要,容座盖可以支承在上支承件上。该设置允许提高设置在排空底座上的电烹饪设备的稳定性。另外有利地,上支承件出自排空容座的侧壁。该设置允许简化排空容座的构造。还有利地,上支承件属于支柱,所述支柱从排空容座的容座底部延伸。该设置允许当排空底座承载另一排空底座时加固排空容座的侧壁,这有助于提高由排空底座承载的另一排空底座的稳定性。该设置还允许减小重叠的排空底座的外形尺寸。另外有利地,上支承件布置在凹陷部下方。还有利地,排空容座包括外周壁,所述外周壁围绕排空容座的侧壁,并且所述外周壁与排空容座的侧壁的下部相隔一定距离延伸。该设置可以避免与排空容座的侧壁的直接接触。该设置还允许加固排空容座。另外有利地,当排空容座和容座盖占据堆叠构造时,外周壁围绕容座盖延伸。该设置允许改善堆叠的紧凑性。附图说明通过研究在附图1至图15中以非限制性方式给出的实施例以及变型例,将更好地理解本专利技术。图1示出了根据本专利技术的烹饪组件的实施例,该烹饪组件包括电烹饪设备和排空底座,该排空底座以正视图示出,该电烹饪设备以分解图示出。图2以立体分解图示出了图1所示的烹饪组件的电烹饪设备和排空底座。图3是图1和图2所示的电烹饪设备的侧视图。图4是图1、图2和图3所示的电烹饪设备的仰视立体图。图5是图1和图2所示的排空底座的分解立体图。图6是图1、图2和图5所示的排空底座的组装立体图。图7是属于图1、图2、图5和图6所示的排空底座的排空容座的俯视立体图。图8是属于图1、图2、图5和图6所示的排空底座的容座盖的仰视立体图。图9是图1和图2所示的烹饪组件的正面横剖视图,其排空构造对应于推荐的排空构造,在该推荐的排空构造中,容座盖用于关闭排空容座。图10是图1、图2和图9所示的烹饪组件的仰视图,其排空构造对应于推荐的排空构造。图11是图1、图2、图9和图10所示的烹饪组件的正面横剖视图,其排空构造对应于推荐的排空构造。图12是图1、图2、图9、图10、图11所示的烹饪组件的正面横剖视图,其排空构造对应于替代的排空构造,在该替代的排空构造中不使用容座盖。图13以立体图示出了存放构造,在该存放构造中堆叠了图1、图2、图5和图6所示的两个排空底座。图14是图13所示的堆叠的排空底座的第一纵剖视图。图15是图13和图14所示的堆叠的排空底座的第二纵剖视图。具体实施方式图1和图2所示的烹饪组件1包括电烹饪设备2和排空底座3。排空底座3构造成承载电烹饪设备2。如在图2中最佳可见,排空底座3包括排空容座70和容座盖80。盖塞90安装在容座盖80上。如在图4中可见,电烹饪设备2具有彼此间隔开的下支承件5a、5b、5c、5d。下支承件5a、5b、5c、5d构造成搁置在支承平面上。电烹饪设备2包括适于收纳烹饪浴的容器10。容器10配备有在图1、图2、图4、图9、图11和图12中可见的排空装置60。电烹饪设备2包括电加热装置20。在图1和图2所示的实施例中,电加热装置20设置用于直接加热烹饪浴。为此,电加热装置20包括电阻器21,该电阻器21构造成浸入到容纳在容器10中的烹饪浴中。电加热装置20还本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种排空底座(3),所述排空底座(3)构造成承载电烹饪设备(2),所述电烹饪设备(2)包括容器(10),所述容器(10)配备有排空装置(60),所述排空装置(60)包括能够占据关闭的稳定返回位置和打开位置的阀(61),所述排空底座(3)包括排空容座(70)和容座盖(80),所述排空底座(3)具有控制构件(4),所述控制部件(4)构造成当所述排空底座(3)承载所述电烹饪设备(2)时将所述阀(61)移动到打开位置,其特征在于,所述容座盖(80)设置有通道(80a),当所述排空底座(3)承载所述电烹饪设备(2)时,所述通道(80a)用于使烹饪浴流动到所述排空容座(70)中,并且所述排空底座(3)包括盖塞(90),当所述排空底座(3)处于容纳在所述排空容座(70)中的所述烹饪浴的贮存构造中时,所述盖塞(90)封闭所述通道(80a),并且所述排空容座(70)具有包括容置部(73b)的下表面(73a),并且所述排空容座(70)和所述容座盖(80)可以占据堆叠构造,在所述堆叠构造中,所述排空容座(70)搁置在所述容座盖(80)上,并且在所述堆叠构造中,所述容置部(73b)容置所述盖塞(90),所述盖塞(90)关闭所述容座盖(80)的所述通道(80a)。/n...

【技术特征摘要】
20181130 FR 18721341.一种排空底座(3),所述排空底座(3)构造成承载电烹饪设备(2),所述电烹饪设备(2)包括容器(10),所述容器(10)配备有排空装置(60),所述排空装置(60)包括能够占据关闭的稳定返回位置和打开位置的阀(61),所述排空底座(3)包括排空容座(70)和容座盖(80),所述排空底座(3)具有控制构件(4),所述控制部件(4)构造成当所述排空底座(3)承载所述电烹饪设备(2)时将所述阀(61)移动到打开位置,其特征在于,所述容座盖(80)设置有通道(80a),当所述排空底座(3)承载所述电烹饪设备(2)时,所述通道(80a)用于使烹饪浴流动到所述排空容座(70)中,并且所述排空底座(3)包括盖塞(90),当所述排空底座(3)处于容纳在所述排空容座(70)中的所述烹饪浴的贮存构造中时,所述盖塞(90)封闭所述通道(80a),并且所述排空容座(70)具有包括容置部(73b)的下表面(73a),并且所述排空容座(70)和所述容座盖(80)可以占据堆叠构造,在所述堆叠构造中,所述排空容座(70)搁置在所述容座盖(80)上,并且在所述堆叠构造中,所述容置部(73b)容置所述盖塞(90),所述盖塞(90)关闭所述容座盖(80)的所述通道(80a)。


2.根据权利要求1所述的排空底座(3),其特征在于,所述控制构件(4)出自所述排空容座(70)的所述下表面(73a),并且所述容置部(73b)在所述控制构件(4)下方延伸。


3.根据权利要求1或2中任一项所述的排空底座(3),其特征在于,所述容座盖(80)包括侧向止挡件(81),所述侧向止挡件(81)构造成限制搁置在所述容座盖(80)上的所述排空容座(70)的侧向运动。


4.根据权利要求3所述的排空底座(3),其特征在于,所述容座盖(80)具有包括凹陷部(82a,82b,82c,82d)的上表面,并且所述侧向止挡件(81)由所述凹陷部(82a,82b,82c,82d)的侧壁形成。


5.根据权利要求4所述的排空底座(3),其特征在于,所述容座盖(80)具有多个主侧部(83a,83b,83c,83d),并且所述凹陷部(82a,82b,82c,82d)中的至少一个布置在由两个相邻的主侧部(83a,83b,83c,83d)限定的角形部(84a,84b,84c,84d)中。


6.根据权利要求4或5中任一项所述的排空底座(3),其特征在于,所述容座盖(80)具有四个主侧部(83a,83b,83c,83d),并且所述凹陷部(82a,82b,8...

【专利技术属性】
技术研发人员:戴尔芬·施瓦兹
申请(专利权)人:SEB公司
类型:发明
国别省市:法国;FR

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