一种铜块棕化用的托盘制造技术

技术编号:24423017 阅读:59 留言:0更新日期:2020-06-06 15:34
一种铜块棕化用的托盘,包括托盘本体,托盘本体上设有控深槽,所述的控深槽的深度小于托盘本体的厚度,所述的控深槽上设有贯穿托盘本体的若干个棕化槽,所述的控深槽上放置有铜块,托盘本体的厚度比铜块的厚度大至少0.5mm。本实用新型专利技术的托盘用于小尺寸铜块表面的棕化处理,棕化生产线加工时避免出现卡线、掉缸或不能棕化的问题,结构简单实用,根据不同的铜块尺寸设计不同的棕化槽,以提高棕化的品质;本实用新型专利技术的托盘通用性高,能够提高生产效率。

A tray for browning copper block

【技术实现步骤摘要】
一种铜块棕化用的托盘
本技术涉及PCB板领域,具体的说,尤其涉及一种铜块棕化用的托盘。
技术介绍
PCB板散热的方式通常有风扇散热、硅胶片散热,设计散热孔进行散热等方法,其中在PCB内埋铜块是解决散热的一种高效方式,金属铜块的导热性好,具有散热性强,空间位置小的优点。在埋铜块的PCB板压合之前,需对埋入的金属铜块进行棕化处理,以清洁和粗化铜块表面,提高金属铜块与树脂的结合力。目前PCB厂商的棕化生产线多为水平线滚轮传动设计,对铜块最小加工尺寸为200mm*200mm,对于尺寸较小超出棕化生产线加工能力的铜块,若直接进行棕化,极易卡线、掉缸,甚至不能进行棕化的情况,而且小尺寸铜块棕化时容易出现棕化效果差的问题,导致埋铜块PCB板的压合效果也比较差。
技术实现思路
为了解决小尺寸铜块棕化困难、棕化效果差的问题,本技术提供一种铜块棕化用的托盘。一种铜块棕化用的托盘,包括托盘本体,托盘本体上设有控深槽,所述的控深槽的深度小于托盘本体的厚度,所述的控深槽上设有贯穿托盘本体的若干个棕化槽,所述的控深槽上放置有铜块,托盘的厚度比铜块的厚度大至少0.5mm。在其中一个实施例中,所述的铜块长度和宽度都≤20mm或者铜块的厚度≤1mm,棕化槽的横截面为圆孔状,棕化槽的孔径为2.0mm,相邻棕化槽之间的间距为7mm。在其中一个实施例中,所述的铜块长度和宽度都>20mm或者铜块的厚度>1mm,棕化槽的横截面为栅格状,棕化槽的宽度为1mm,相邻棕化槽之间的间距为2mm。在其中一个实施例中,所述的控深槽的深度比铜块的厚度大0.2mm以上,所述的棕化槽的深度比铜块的厚度大0.3mm以上。在其中一个实施例中,所述的控深槽距离托盘边缘的距离在20mm以上。在其中一个实施例中,控深槽的数量在2个以上,相邻控深槽之间的间距至少为15mm。本技术提供一种铜块棕化用的托盘,用于小尺寸铜块表面的棕化处理,棕化生产线加工时避免出现卡线、掉缸或不能棕化的问题,结构简单实用;根据不同的铜块尺寸设计不同的棕化槽,以提高棕化的品质。本技术的托盘通用性高,能够提高生产效率。附图说明图1为本技术的整体结构纵向剖面图;图2为本技术实施例1的剖面图;图3为本技术实施例2的剖面图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步的说明。实施例1:参考附图1~2,一种铜块棕化用的托盘,包括托盘本体1,托盘本体1上设有控深槽2,控深槽2的深度小于托盘本体的厚度,控深槽上设有贯穿托盘本体的若干个棕化槽3,控深槽2上放置有铜块,托盘本体的厚度比铜块的厚度大至少0.5mm。其中控深槽2的深度比铜块的厚度大0.2mm以上,棕化槽3的深度比铜块的厚度大0.3mm以上;控深槽2的数量在2个以上,相邻控深槽2之间的间距至少为15mm,控深槽2距离托盘本体1边缘的距离在20mm以上,本实施例中托盘本体1尺寸为18*24inch,控深槽2采用锣机铣槽的方式制作,控深槽2的长度和宽度比铜块相应的长度和宽度都大2mm以上。当铜块长度和宽度都≤20mm或者铜块的厚度≤1mm时,棕化槽3的横截面为圆孔状,棕化槽3的孔径为2.0mm,相邻棕化槽之间的间距为7mm;实施例2:参考附图3,本实施例与实施例1基本相同,不同之处在于:当铜块长度和宽度都>20mm或者铜块的厚度>1mm时,棕化槽3的横截面为栅格状,棕化槽3的宽度为1mm,相邻棕化槽3之间的间距为2mm,以提高铜块棕化的品质。本技术提供一种铜块棕化用的托盘,用于小尺寸铜块表面的棕化处理,棕化生产线避免出现卡线、掉缸或不能棕化的问题,结构简单实用;根据不同的铜块尺寸设计不同的棕化槽,以提高棕化的品质和效果。本技术的托盘通用性高,能够提高生产效率。以上所述仅为本技术的优选实施例而已,并不用于限制本技术,尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明,对于本领域技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实施的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均包含在本技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种铜块棕化用的托盘,其特征在于:包括托盘本体(1),托盘本体(1)上设有控深槽(2),所述的控深槽(2)的深度小于托盘本体(1)的厚度,所述的控深槽(2)上设有贯穿托盘本体的若干个棕化槽(3),所述的控深槽(2)上放置有铜块,托盘本体(1)的厚度比铜块的厚度大至少0.5mm。/n

【技术特征摘要】
1.一种铜块棕化用的托盘,其特征在于:包括托盘本体(1),托盘本体(1)上设有控深槽(2),所述的控深槽(2)的深度小于托盘本体(1)的厚度,所述的控深槽(2)上设有贯穿托盘本体的若干个棕化槽(3),所述的控深槽(2)上放置有铜块,托盘本体(1)的厚度比铜块的厚度大至少0.5mm。


2.根据权利要求1所述的一种铜块棕化用的托盘,其特征在于:所述的铜块长度和宽度都≤20mm或者铜块的厚度≤1mm,棕化槽(3)的横截面为圆孔状,棕化槽(3)的孔径为2.0mm,相邻棕化槽之间的间距为7mm。


3.根据权利要求1所述的一种铜块棕化用的托盘,其特征在于:所述的铜块长度和宽度都>...

【专利技术属性】
技术研发人员:赖光强胡协斌王忱程云娜黄仁芝
申请(专利权)人:胜宏科技惠州股份有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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