隔膜和包含该隔膜的锂二次电池制造技术

技术编号:24421857 阅读:108 留言:0更新日期:2020-06-06 14:31
本发明专利技术涉及能够抑制锂枝晶生长的隔膜和包含所述隔膜的锂二次电池。根据本发明专利技术,可以显著提高锂二次电池的稳定性和寿命周期特性。

Diaphragm and lithium secondary battery containing the diaphragm

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】隔膜和包含该隔膜的锂二次电池
相关申请的交叉引用本申请要求于2018年6月22日和2019年5月16日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请号10-2018-0072319和韩国专利申请号10-2019-0057611的权益,将其公开内容通过引用以其整体并入本文。本专利技术涉及能够抑制锂枝晶生长的隔膜,以及包含所述隔膜的锂二次电池。
技术介绍
随着电气、电子、通信和计算机行业的快速发展,对高容量电池的需求越来越大。为了满足这一要求,使用锂金属或锂合金作为具有高能量密度的负极的锂金属二次电池备受关注。锂金属二次电池是使用锂金属或锂合金作为负极的二次电池。由于锂金属具有0.54g/cm3的低密度和-3.045V的极低标准还原电位(SHE:基于标准氢电极),因此作为高能量密度电池的电极材料,其受到最广泛的关注。不同于现有的锂离子二次电池,这种锂金属二次电池在负极上镀覆锂金属而充电,并随着锂金属的剥离而放电,由此锂枝晶可能在负极中生长。在锂枝晶生长的情况下,可能损坏置于正极和负极之间的隔膜,并且可能导致内部短路,从而可能导致本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种隔膜,所述隔膜包括多孔涂层和在所述多孔涂层的两侧形成的非导电层,/n其中,所述多孔涂层包含无机颗粒、聚合物粘合剂和添加剂,/n所述无机颗粒在电池的工作电压范围内不发生氧化和还原反应,且所述添加剂在相对于锂为大于0V至5V以下的范围内吸着锂离子并被还原,并且/n所述添加剂是选自由TiO

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180622 KR 10-2018-0072319;20190516 KR 10-2019-001.一种隔膜,所述隔膜包括多孔涂层和在所述多孔涂层的两侧形成的非导电层,
其中,所述多孔涂层包含无机颗粒、聚合物粘合剂和添加剂,
所述无机颗粒在电池的工作电压范围内不发生氧化和还原反应,且所述添加剂在相对于锂为大于0V至5V以下的范围内吸着锂离子并被还原,并且
所述添加剂是选自由TiO2、Li4Ti5O12和LixMyOz(其中,M=V、Cr、Mn、Zr、Nb、Mo或Ru,0≤x≤1,0<y≤2,且0<z≤3)表示的化合物组成的组中的一种或多种。


2.如权利要求1所述的隔膜,其中,所述添加剂是TiO2或Li4Ti5O12。


3.如权利要求1所述的隔膜,其中,基于所述多孔涂层的总重量,所述添加剂的含量为1重量%至10重量%。


4.如权利要求1所述的隔膜,其中,所述添加剂的平均粒径为0.001μm至10μm。


5.如权利要求1所述的隔膜,其中,所述添加剂还原后的体积为还原前体积的100%至150%。


6.如权利要求1所述的隔膜,其中,...

【专利技术属性】
技术研发人员:李廷范
申请(专利权)人:株式会社LG化学
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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