【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】新型过渡金属化合物、包含其的催化剂组合物以及利用其制备乙烯均聚物或乙烯与α-烯烃的共聚物的方法
本专利技术涉及一种新型过渡金属化合物,包含其的具有高催化活性的用于制备乙烯均聚物或乙烯与至少一种α-烯烃的共聚物的过渡金属催化剂组合物,利用其制备乙烯均聚物或乙烯与α-烯烃的共聚物的方法,以及所制备的乙烯均聚物或乙烯与α-烯烃的共聚物。
技术介绍
由钛化合物或钒化合物的主催化剂成分和烷基铝化合物的共催化剂成分构成的齐格勒-纳塔催化剂体系通常被用来制备乙烯均聚物或乙烯与α-烯烃的共聚物。齐格勒-纳塔催化剂体系对乙烯聚合展现了高活性。但是,其也存在缺陷,由于催化活性位点不均匀,所生成聚合物的分子量分布宽,特别是乙烯与α-烯烃共聚物的组成分布不均匀。由于由钛、锆、铪等周期表上的第四族过渡金属的茂金属化合物和作为共催化剂的甲基铝氧烷组成的茂金属催化剂体系为具有单种催化活性位点的均相催化剂,因此与现有的齐格勒-纳塔催化剂体系相比,其特征在于能够制备分子量分布窄、组成分布均匀的聚乙烯。例如,欧洲公开专利第320,762号、第372,632号,或日本公开专利第S63-092621号、H02-84405号或H03-2347号中公开了可通过共催化剂甲基铝氧烷活化茂金属化合物如Cp2TiCl2、Cp2ZrCl2、Cp2ZrMeCl、Cp2ZrMe2、Et(IndH4)2ZrCl2等,从而以高活性聚合乙烯,进而可制备分子量分布(Mw/Mn)为1.5~2.0范围的聚乙烯。但是通过上述催化剂体系难以获得高分子量的聚合物,特别是,已知 ...
【技术保护点】
1.由以下化学式1所示的过渡金属化合物:/n[化学式1]/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170821 KR 10-2017-01054681.由以下化学式1所示的过渡金属化合物:
[化学式1]
在化学式1中,
M为周期表中第4族的过渡金属;
R1至R5各自独立地为氢、(C1-C20)烷基、(C6-C20)芳基、(C3-C20)环烷基、卤素、(C2-C20)烯基、(C3-C20)杂芳基、(C3-C20)杂环烷基、-ORa1、-SRa2、-NRa3Ra4或-PRa5Ra6,或R2和R4可以通过具有或不具有芳环的(C2-C7)烷叉基或(C3-C7)烯叉基与相邻的取代基连接以形成稠环;
m为1或2的整数,并且当m为整数2时,R1可以彼此相同或不同;
R6和R7各自独立地为氢、(C1-C20)烷基、卤代(C1-C20)烷基、(C3-C20)环烷基、(C6-C20)芳基、(C1-C20)烷基(C6-C20)芳基、(C6-C20)芳基(C1-C20)烷基、(C3-C20)杂芳基、-ORa1、-SRa2、-NRa3Ra4或-PRa5Ra6,或R6和R7可以通过(C4-C7)烷叉基连接形成环;
R8至R10各自独立地为氢、(C1-C20)烷基、卤代(C1-C20)烷基、卤素、(C6-C20)芳基、(C3-C20)环烷基、卤素、(C2-C20)烯基、(C3-C20)杂芳基、(C1-C20)杂环烷基、-ORa1、-SRa2、-NRa3Ra4或-PRa5Ra6,或R8至R10可通过具有或不具有芳环的(C4-C7)烯叉基与相邻的取代基连接以形成稠环;
R11为(C1-C20)烷基,或者R11可以通过具有或不具有芳环的(C4-C7)烯叉基与R10连接形成稠环,并且R11的烷基可以进一步被选自由卤素、(C1-C20)烷基、卤代(C1-C20)烷基、(C6-C12)芳基、(C1-C10)烷基(C6-C12)芳基、(C6-C12)芳基(C1-C10)烷基、-ORa1、-SRa2、-NRa3Ra4和-PRa5Ra6组成的组中的至少一个取代;
Ra1至Ra6各自独立地为(C1-C20)烷基或(C6-C20)芳基;
R1至R5和R8至R10的烷基、芳基、环烷基、杂芳基或杂环烷基以及Ra1至Ra6的烷基或芳基可以进一步被选自由卤素、(C1-C20)烷基、卤代(C1-C20)烷基、(C1-C20)烷氧基、(C6-C20)芳基、(C6-C20)芳氧基、硝基、氰基、-OSiRb1Rb2Rb3、-SRb4、-NRb5Rb6和-PRb7Rb8组成的组中的至少一个取代;
Rb1至Rb8各自独立地为(C1-C20)烷基、(C6-C20)芳基、(C6-C20)芳基(C1-C20)烷基、(C1-C20)烷基(C6-C20)芳基或(C3-C20)环烷基;
X1和X2各自独立地为卤素、(C1-C20)烷基、(C3-C20)环烷基、(C6-C20)芳基、(C6-C20)芳基(C1-C20)烷基、((C1-C20)烷基(C6-C20)芳基)(C1-C20)烷基、(C1-C20)烷氧基、(C6-C20)芳氧基、(C1-C20)烷基(C6-C20)芳氧基、(C1-C20)烷氧基(C6-C20)芳氧基、-OSiRaRbRc、-SRd、-NReRf、-PRgRh或(C1-C20)烷亚基;
Ra至Rd各自独立地为(C1-C20)烷基、(C6-C20)芳基、(C6-C20)芳基(C1-C20)烷基、(C1-C20)烷基(C6-C20)芳基或(C3-C20)环烷基;
Re至Rh各自独立地为(C1-C20)烷基、(C6-C20)芳基、(C6-C20)芳基(C1-C20)烷基、(C1-C20)烷基(C6-C20)芳基、(C3-C20)环烷基、三(C1-C20)烷基甲硅烷基或三(C6-C20)芳基甲硅烷基;
条件是当X1和X2之一为(C1-C20)烷亚基时,另一个被忽略;且
所述杂芳基和杂环烷基包括选自N、O和S的至少一个杂原子。
2.如权利要求1所述的过渡金属化合物,其中,所述的过渡金属化合物由下列化学式2、3或4所示:
[化学式2]
[化学式3]
[化学式4]
在化学式2-4中,M、R6、R7、R8、R9、R10、R11、X1和X2与上述化学式1中的定义相同;
R、R'、R2、R3、R4和R5各自独立地为氢、(C1-C20)烷基、(C6-C20)芳基、(C3-C20)环烷基、卤素、(C2-C20)烯基、(C3-C20)杂芳基、(C3-C20)杂环烷基、-ORa1、-SRa2、-NRa3Ra4或-PRa5Ra6;
Ra1至Ra6各自独立地为(C1-C20)烷基或(C6-C20)芳基;
R、R'、R2、R3、R4和R5的烷基、芳基、环烷基、杂芳基或杂环烷基以及Ra1至Ra6的烷基或芳基可进一步被选自由卤素、(C1-C20)烷基、卤代(C1-C20)烷基、(C1-C20)烷氧基、(C6-C20)芳基、(C6-C20)芳氧基、...
【专利技术属性】
技术研发人员:韩龙圭,金美智,沈春植,张铉民,郑尚倍,咸炯宅,
申请(专利权)人:沙特基础工业爱思开NEXLENE私人有限公司,
类型:发明
国别省市:新加坡;SG
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