匀光器及其制作方法、光发射模组、电子设备技术

本发明专利技术公开了一种匀光器及其制作方法、光发射模组、电子设备。匀光器的制作方法包括：将多个基础多边形中每一个的顶点在基准面内随机偏移，以形成与所述多个基础多边形对应的多个随机多边形；根据所述多个随机多边形、多个微透镜中心和基础面型公式，生成匀光器模型；根据所述匀光器模型制作所述匀光器。由于匀光器中的多个微透镜的形状是随机分布的，随机性将打乱其干涉性，故能够有效消除干涉效应造成的光斑波纹不均问题。

Homogenizer and its manufacturing method, optical emission module, electronic equipment

【技术实现步骤摘要】
匀光器及其制作方法、光发射模组、电子设备
本专利技术涉及电子设备领域，特别是涉及匀光器及其制作方法、光发射模组、电子设备。
技术介绍
匀光器是一类能将输入光束变换成特定输出光束的微光学元件，能生成特定需求的光斑形状和能量分布。如图1所示，目前市场上的匀光器大多为规则的微透镜阵列元件，以实现均匀光斑照明，这种规则阵列元件中每个子透镜单元都是一样的形状大小，其特点是排布结构简单，易于设计和加工检测，但周期重复的结构在相干光源通过时干涉效应明显，如图2所示，在实际应用中往往会产生波纹状的光斑不均效果，对实际应用产生不良影响。
技术实现思路
本专利技术提供一种匀光器的制作方法以及电子设备，旨在解决现有的匀光器在实际应用中往往会产生波纹状的光斑不均效果的问题。第一方面，本专利技术提供了一种匀光器的制作方法，所述匀光器包括基底和设置于所述基底的出光面上的多个微透镜，所述匀光器的制作方法包括步骤：将多个基础多边形中每一个的顶点在基准面内随机偏移，以形成与所述多个基础多边形对应的多个随机多边形，其中，所述基准面用于表征所述基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种匀光器的制作方法，所述匀光器包括基底和设置于所述基底的出光面上的多个微透镜，其特征在于，所述匀光器的制作方法包括步骤：/n将多个基础多边形中每一个的顶点在基准面内随机偏移，以形成与所述多个基础多边形对应的多个随机多边形，其中，所述基准面用于表征所述基底的出光面，所述基准面上阵列分布有多个基础多边形区域，每一个基础多边形区域具有相应的基础多边形以及对应基础多边形的顶点，所述随机偏移用于表征顶点偏移的方向、次数和距离中的至少一个为随机，随机偏移后的任意一个基础多边形的顶点用于限定出与所述任意一个基础多边形对应的随机多边形，任意一个随机多边形用于表征对应的所述微透镜于所述基底上投影的边界；/...

【技术特征摘要】
1.一种匀光器的制作方法，所述匀光器包括基底和设置于所述基底的出光面上的多个微透镜，其特征在于，所述匀光器的制作方法包括步骤：
将多个基础多边形中每一个的顶点在基准面内随机偏移，以形成与所述多个基础多边形对应的多个随机多边形，其中，所述基准面用于表征所述基底的出光面，所述基准面上阵列分布有多个基础多边形区域，每一个基础多边形区域具有相应的基础多边形以及对应基础多边形的顶点，所述随机偏移用于表征顶点偏移的方向、次数和距离中的至少一个为随机，随机偏移后的任意一个基础多边形的顶点用于限定出与所述任意一个基础多边形对应的随机多边形，任意一个随机多边形用于表征对应的所述微透镜于所述基底上投影的边界；
根据所述多个随机多边形、多个微透镜中心和基础面型公式，生成匀光器模型，其中，任意一个微透镜中心用于表征对应的所述微透镜于所述基底上投影的中心；
根据所述匀光器模型制作所述匀光器。


2.如权利要求1所述的匀光器的制作方法，其特征在于，所述根据所述匀光器模型制作所述匀光器的步骤，具体为：
模拟检测所述匀光器模型的光学效果；
若所述匀光器模型的光学效果满足预设条件，则根据所述匀光器模型制作所述匀光器；
其中，在所述模拟检测所述匀光器模型的光学效果的步骤之后，所述匀光器的制作方法还包括步骤：
若所述匀光器模型的光学效果不满足所述预设条件，则调整所述多个随机多边形、所述多个微透镜中心和所述基础面型公式中的至少一项，以生成调整后的匀光器模型；
模拟检测所述调整后的匀光器模型的光学效果；
若所述调整后的匀光器模型的光学效果满足所述预设条件，则根据所述调整后的匀光器模型制作所述匀光器。


3.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯坤亮，李宗政，陈冠宏，
申请(专利权)人：南昌欧菲生物识别技术有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36