光学扩散器、光发射模组、移动终端和光学扩散器的制造方法技术

本发明专利技术公开了一种光学扩散器、光发射模组、移动终端和光学扩散器的制造方法，所述光学扩散器包括：扩散片；ITO层，所述ITO层设置在所述扩散片的内部。根据本发明专利技术实施例的光学扩散器能够准确判断是否发生破裂，且成本低，利于减小模组体积、降低制程难度、提高模组的生产良率。产良率。产良率。

【技术实现步骤摘要】
光学扩散器、光发射模组、移动终端和光学扩散器的制造方法


[0001]本专利技术涉及成像
，尤其是涉及一种光学扩散器、具有所述光学扩散器的光发射模组、具有所述光发射模组的移动终端和光学扩散器的制造方法。

技术介绍

[0002]相关技术中的TOF(飞行时间)模组1
′
，如图1所示，如果其模组内的光学扩散器(Diffuser)10
′
破裂，则会导致VCSEL(垂直腔面发射激光器)光源20
′
直接打在人眼上，造成人眼损伤。为此，通常在模组内增加光电二极管(PD)30
′
来接收来自光学扩散器10
′
的反射光线，监视其生成的光电流大小以判断光学扩散器10
′
是否发生破裂，但该种方案存在以下问题：
[0003]由于增加了光电二极管30
′
，TOF模组1
′
的成本增加；
[0004]由于模组需要匀出安装光电二极管30
′
的位置，导致模组1
′
的整体体积较大；
[0005]由于光电二极管30
′
是通过反射光线转换生成的电流值间接反应光学扩散器10
′
是否有破裂，所以需要严格控制光电二极管30
′
的电流值的范围来监控。但是反射光在光电二极管30
′
表面的强度受到PD-VCSEL/PD-Diffuser间距的影响较大，部分模组由于制程偏差大而出现PD电流值超出管控范围，使模组误判，这导致了制程难度较大，影响模组1
′
的生产良率。

技术实现思路

[0006]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种光学扩散器，该光学扩散器能够准确判断是否发生破裂，且成本低，利于减小模组体积、降低制程难度、提高模组的生产良率。
[0007]本专利技术还提出一种具有上述光学扩散器的光发射模组。
[0008]本专利技术还提出一种具有上述光发射模组的移动终端。
[0009]本专利技术还提出一种光发射模组的制造方法。
[0010]根据本专利技术的第一方面的实施例提出一种光学扩散器，所述光学扩散器包括：扩散片；ITO层，所述ITO层设置在所述扩散片的内部。
[0011]根据本专利技术实施例的光学扩散器，通过在扩散片的内部设置ITO层，可以根据ITO层的阻值变化来反馈光学扩散器是否破裂，且由于ITO层200置于扩散片的内部，可以防止ITO层在制造和运输过程中发生损伤，从而准确、可靠地反馈光学扩散器是否破裂，降低了误判的可能性。基于此，无需在光发射模组内设置光电二极管，有效降低了成本、且为光发射模组的小型化预留了设计空间。此外，能够降低制程难度，从而提高生产良率。
[0012]根据本专利技术的一些具体实施例，所述扩散片具有光学有效区，所述ITO层环绕所述光学有效区的边缘设置。由此在实现监测的同时，不影响光线的传播。
[0013]根据本专利技术的一些具体实施例，所述扩散片包括基板和扩散层，所述ITO层设置在所述基板和所述扩散层之间。由此，将ITO层内置于扩散片。
[0014]进一步地，所述ITO层镀于所述基板，所述扩散层通过转印胶与所述ITO层结合。这样，扩散片的整体结构稳定，且工艺简单。
[0015]进一步地，所述ITO层包括：开环部，所述开环部沿所述基板的周向延伸且与所述基板的外边沿间隔预定距离；第一检测部和第二检测部，所述第一检测部从所述开环部的一端延伸至所述基板的外边沿处，所述第二检测部从所述开环部的另一端延伸至所述基板的外边沿处，所述第一检测部和所述第二检测部间隔设置且位于所述基板的同一侧。由此，不仅能够在光学扩散器破裂时及时通过阻值的变化来进行反馈，而且能够便于对ITO层的阻值的检测。
[0016]根据本专利技术的一些具体实施例，所述ITO层的厚度小于或等于500nm。这样可以减小对微结构层的压印效果的影响。
[0017]根据本专利技术的第二方面的实施例提出一种光发射模组，所述光发射模组包括：基座；VCSEL光源，所述VCSEL光源设于所述基座；根据本专利技术的第一方面的实施例所述的光学扩散器，所述光学扩散器设于所述基座。
[0018]根据本专利技术实施例的光发射模组，通过利用根据本专利技术的第一方面的实施例所述的光学扩散器，具有安全性高、成本低，体积小、制程难度低、生产良率高等优点。
[0019]根据本专利技术的一些具体实施例，所述光发射模组还包括：电阻检测装置，所述电阻检测装置与所述ITO层相连。由此方便对ITO层的阻值进行监测。
[0020]进一步地，所述基座内设有连接线，所述ITO层通过所述连接线与所述电阻检测装置相连。由此便于对ITO层的阻值进行监测。
[0021]进一步地，所述基座构造有承靠台阶，所述扩散片通过导电焊盘安装于所述承靠台阶，所述ITO层和所述连接线通过所述导电焊盘连通。由此实现扩散片的固定，且便于ITO层阻值的监测。
[0022]进一步地，所述导电焊盘通过导电胶贴附于所述承靠台阶。这样在提高结构稳定性的同时，进一步便于ITO层阻值的监测。
[0023]根据本专利技术的一些具体实施例，所述光发射模组还包括：控制器，所述控制器分别与所述电阻检测装置和所述VCSEL光源相连，当所述电阻检测装置监测到所述ITO层的阻值上升预定值时，所述控制器关闭所述VCSEL光源的电源。由此实现光学扩散器是否破裂的自动判断。
[0024]根据本专利技术的第三方面的实施例提出一种移动终端，所述移动终端包括根据本专利技术的第二方面的实施例所述的光发射模组。
[0025]根据本专利技术实施例的移动终端，通过利用根据本专利技术的第二方面的实施例所述的光发射模组，具有安全性高、成本低，体积小、制程难度低、生产良率高等优点。
[0026]根据本专利技术的第四方面的实施例提出一种光学扩散器的制造方法，所述光学扩散器的制造方法包括：确定所述光学扩散器的尺寸和切割间隔；根据所述光学扩散器的尺寸和切割间隔，在基板的一侧镀ITO层；在所述ITO层涂布转印胶；贴合包含有扩散层的母模；预固化后脱模并进行固化和切割。
[0027]根据本专利技术实施例的光学扩散器的制造方法，能够准确判断是否发生破裂，且成本低，利于减小模组体积、降低制程难度、提高模组的生产良率。
[0028]本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变
得明显，或通过本专利技术的实践了解到。
附图说明
[0029]本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0030]图1是现有技术中光发射模组的结构示意图。
[0031]图2是根据本专利技术实施例的光发射模组的结构示意图。
[0032]图3是根据本专利技术实施例的光学扩散器的结构示意图。
[0033]图4是根据本专利技术实施例的光学扩散器的ITO层分本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学扩散器，其特征在于，包括：扩散片；ITO层，所述ITO层设置在所述扩散片的内部。2.根据权利要求1所述的光学扩散器，其特征在于，所述扩散片具有光学有效区，所述ITO层环绕所述光学有效区的边缘设置。3.根据权利要求1所述的光学扩散器，其特征在于，所述扩散片包括基板和扩散层，所述ITO层设置在所述基板和所述扩散层之间。4.根据权利要求3所述的光学扩散器，其特征在于，所述ITO层镀于所述基板，所述扩散层通过转印胶与所述ITO层结合。5.根据权利要求4所述的光学扩散器，其特征在于，所述ITO层包括：开环部，所述开环部沿所述基板的周向延伸且与所述基板的外边沿间隔预定距离；第一检测部和第二检测部，所述第一检测部从所述开环部的一端延伸至所述基板的外边沿处，所述第二检测部从所述开环部的另一端延伸至所述基板的外边沿处，所述第一检测部和所述第二检测部间隔设置且位于所述基板的同一侧。6.根据权利要求1所述的光学扩散器，其特征在于，所述ITO层的厚度小于或等于500nm。7.一种光发射模组，其特征在于，包括：基座；VCSEL光源，所述VCSEL光源设于所述基座；根据权利要求1-6中任一项所述的光学扩散器，所述光学扩散器设于所述基座。...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁细超，沈培逸，李宗政，
申请(专利权)人：南昌欧菲生物识别技术有限公司，
类型：发明
国别省市：