多次同向刻蚀制备微透镜阵列的模具的方法技术

本发明专利技术提供一种多次同向刻蚀制备微透镜阵列模具的方法，所述方法包括：在基底上形成刻蚀防护部，所述刻蚀防护部基本对应于所述微透镜阵列中至少部分微透镜的分布；调节刻蚀机的刻蚀参数以获得适当的横向刻蚀速率和纵向刻蚀速率，所述适当的横向刻蚀速率和纵向刻蚀速率允许在所述基底中刻蚀出与所述至少部分微透镜的曲面面型基本一致的曲面；将基底置于刻蚀机中，在所述刻蚀参数下对所述基底进行刻蚀，以在所述基底中刻蚀出所述曲面。本发明专利技术还提供由所述方法制备的微透镜阵列，所述微透镜阵列可作为匀光片使用，具有大小不一、随机排布的微透镜，使入射光经衍射后不会产生水波纹图样，达到了很好的匀光效果。

The method of manufacturing microlens array mold by multiple etching in the same direction

【技术实现步骤摘要】
多次同向刻蚀制备微透镜阵列的模具的方法
本专利技术大致涉及衍射光学元件的微细加工
，尤其涉及一种多次同向刻蚀制备微透镜阵列的模具的方法。
技术介绍
微透镜阵列是由通光孔径及浮雕深度为微米级的透镜组成的阵列，它不仅具有传统透镜的聚焦、成像等基本功能，而且具有单元尺寸小、质量轻、集成度高的特点，使得它能够完成传统光学元件无法完成的功能，并能构成许多新型的光学系统。微透镜阵列可分为折射型微透镜阵列与衍射型微透镜阵列两类。衍射型微透镜列阵利用其表面波长量级的三维浮雕结构对光波进行调制、变换，具有轻而薄、设计灵活等特点。作为衍射光学元件，具有波前传感、光聚能、光整形等多种功能，在红外光电探测、图像识别与处理、光通讯、激光医学、空间光学等许多领域都有广泛的应用。阵列式排布的微透镜阵列作为匀光片使用时，当输入激光的相干性较高时，会出现水波纹的图样，影响匀化效果，而要制备随机排布的微透镜阵列，需要采用灰度掩膜技术。灰度掩模技术利用灰度等级掩模版经一次光刻实现多台阶衍射光学元件或连续位相变化的浮雕图形，然后经刻蚀(或薄膜沉积)，将图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微透镜阵列的模具的制造方法，包括：/n在基底上形成刻蚀防护部，所述刻蚀防护部基本对应于所述微透镜阵列中至少部分微透镜的分布；/n调节刻蚀机的刻蚀参数以获得适当的横向刻蚀速率和纵向刻蚀速率，所述适当的横向刻蚀速率和纵向刻蚀速率允许在所述基底中刻蚀出与所述至少部分微透镜的曲面面型基本一致的曲面；/n将基底置于刻蚀机中，在所述刻蚀参数下对所述基底进行刻蚀，以在所述基底中刻蚀出所述曲面。/n

【技术特征摘要】
1.一种微透镜阵列的模具的制造方法，包括：
在基底上形成刻蚀防护部，所述刻蚀防护部基本对应于所述微透镜阵列中至少部分微透镜的分布；
调节刻蚀机的刻蚀参数以获得适当的横向刻蚀速率和纵向刻蚀速率，所述适当的横向刻蚀速率和纵向刻蚀速率允许在所述基底中刻蚀出与所述至少部分微透镜的曲面面型基本一致的曲面；
将基底置于刻蚀机中，在所述刻蚀参数下对所述基底进行刻蚀，以在所述基底中刻蚀出所述曲面。


2.如权利要求1所述的制造方法，其中所述调节刻蚀机的刻蚀参数的步骤包括以下中的一个或多个：
增加或降低所述刻蚀机的刻蚀气体中SF6的含量以增加或降低横向刻蚀速率；
增加或降低所述刻蚀机的电极的功率以增加或降低纵向刻蚀的速率；
降低或增加所述刻蚀机的反应室压力以增加或降低横向刻蚀的速率。


3.如权利要求1或2所述的制造方法，其中所述在基底上形成刻蚀防护部的步骤包括：
在所述基底上涂覆光刻胶；
将掩膜设置在所述光刻胶上；
通过紫外线照射所述掩膜，使得所述光刻胶局部固化；
去除未固化的光刻胶，形成所述具有刻蚀防护部的基底。


4.如权利要求1或2所述的制造方法，其中所述微透镜阵列包括第一组微透镜和第二组微透镜，所述第一组微透镜和第二组微透镜具有不同规格，其中所述至少部分微透镜对应于所述第一组微透镜，
所述制造方法还包括：
在刻蚀出所述曲面的基底上形成第二刻蚀防护部，所述第二刻蚀防护部基本对应于所述第二组微透镜的分布；
调节所述刻蚀机的刻蚀参数以获得适当的横向刻蚀速率和纵向刻蚀速率，所述适当的横向刻蚀速率和...

【专利技术属性】
技术研发人员：王淼，
申请(专利权)人：嘉兴驭光光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33