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本发明提供一种多次同向刻蚀制备微透镜阵列模具的方法，所述方法包括：在基底上形成刻蚀防护部，所述刻蚀防护部基本对应于所述微透镜阵列中至少部分微透镜的分布；调节刻蚀机的刻蚀参数以获得适当的横向刻蚀速率和纵向刻蚀速率，所述适当的横向刻蚀速率和纵向...
该专利属于嘉兴驭光光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过嘉兴驭光光电科技有限公司授权不得商用。

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