当前位置: 首页 > 专利查询>浙江大学专利>正文

差动光通量电桥法测量带材微位移的装置和方法制造方法及图纸

技术编号:24404856 阅读:49 留言:0更新日期:2020-06-06 06:44
本发明专利技术公开了一种差动光通量电桥法测量带材微位移的装置和方法。待测对象带材置于第一第二透镜之间,光源发出的光束,经过第一透镜汇聚成平行光束后,再经第二透镜汇聚入射到电桥光电测量电路的光敏电阻上,经第一透镜出射的光束一部分被带材阻挡,另一部分直接入射到第二透镜,电桥光电测量电路再经过转换放大器后输出电压表征微位移,并精确求出电压与微位移的关系式。本发明专利技术将微小位移的变化利用差动光通量的方法实现转变,并通过直流电桥光电转换电路来测量差动光通量,再经过转换放大器后输出电压,准确地测量了带材微小位移,使微小位移的测量精度得到了很大提高。

Device and method for measuring micro displacement of strip by differential luminous flux bridge method

【技术实现步骤摘要】
差动光通量电桥法测量带材微位移的装置和方法
本专利技术涉及了一种测量物体微位移的装置和方法,尤其是涉及了一种差动光通量电桥法测量带材微位移的装置和方法。
技术介绍
物理实验中测量微小形变量的方法较多,主要有光杠杆法、千分表法、单缝衍射法、光干涉法和传感器法等。准确的位移测量系统越来越成为各领域研究的内容,因此,增加微小位移测量方法有着重要的意义。现有的位移测量方法大致有3类:机械测量法,电学测量法,光学测量法等。
技术实现思路
为了解决
技术介绍
中存在的问题,本专利技术所提供了一种差动光通量电桥法测量带材微位移的装置和方法,是一个集光学、电学、力学和计算机技术于一体的测量带材微位移的实验仪器系统。本专利技术采用的技术方案是:本专利技术主要包括光源、透镜组、待测对象、电桥光电测量电路;透镜组包括第一透镜和第二透镜,待测对象为带材,带材置于第一透镜和第二透镜之间,光源发出的光束,经过第一透镜汇聚成平行光束后,再经第二透镜汇聚入射到电桥光电测量电路的光敏电阻上,经第一透镜出射的光束一部分被带材阻挡,另一部分直接入射到本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种差动光通量电桥法测量带材微位移的装置,其特征在于:主要包括光源、透镜组、待测对象、电桥光电测量电路;透镜组包括第一透镜和第二透镜,待测对象为带材,带材置于第一透镜和第二透镜之间,光源发出的光束,经过第一透镜汇聚成平行光束后,再经第二透镜汇聚入射到电桥光电测量电路的光敏电阻上,经第一透镜出射的光束一部分被带材阻挡,另一部分直接入射到第二透镜,电桥光电测量电路的输出端通过转换放大器与外部计算机连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种差动光通量电桥法测量带材微位移的装置,其特征在于:主要包括光源、透镜组、待测对象、电桥光电测量电路;透镜组包括第一透镜和第二透镜,待测对象为带材,带材置于第一透镜和第二透镜之间,光源发出的光束,经过第一透镜汇聚成平行光束后,再经第二透镜汇聚入射到电桥光电测量电路的光敏电阻上,经第一透镜出射的光束一部分被带材阻挡,另一部分直接入射到第二透镜,电桥光电测量电路的输出端通过转换放大器与外部计算机连接。


2.根据权利要求1所述的一种差动光通量电桥法测量带材微位移的装置,其特征在于:所述的电桥光电测量电路包括第一光敏电阻R1、第二光敏电阻R2、电阻R3、电阻R4、电阻R5、电阻R7、电阻R8和转换放大器,来自第二透镜出射的光束照射到第一光敏电阻R1上,第二光敏电阻R2完全被遮光罩遮挡,由第一光敏电阻R1、第二光敏电阻R2、电阻R3、电阻R4构成桥式电路,第一光敏电阻R1和电阻R3串联后分别接电源电压和地,第二光敏电阻R2和电阻R4串联后分别接电源电压和地,第一光敏电阻R1和电阻R2之间引出经电阻R5后连接到放大器的反相输入端,第二光敏电阻R2和电阻R4之间引出经电阻R6后连接到放大器的正相输入端,转换放大器的正相输入端经电阻R6后接地,放大器的反相输入端经电阻R8和输出端连接,将放大器的输出端输出电压发送到Arduino板,最后Arduino板接入计算机。


3.根据权利要求1所述的一种差动光通量电桥法测量带材微位移的装置,其特征在于:所述的带材为不透光的物件。


4.根据权利要求1所述的一种差动光通量电桥法测量带材微位移的装置,其特征在于:所述的带材沿垂直于光轴方向靠近/远离光轴地移动。


5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈水桥厉位阳
申请(专利权)人:浙江大学
类型:发明
国别省市:浙江;33

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1