一种负离子自清洁抗菌陶瓷砖制造技术

本实用新型专利技术公开了一种负离子自清洁抗菌陶瓷砖，包括陶瓷本体，所述陶瓷本体的上表面设有一层釉面层，在所述釉面层的表面设有一层电气石负离子层，在所述电气石负离子层上设有抗菌层，所述抗菌层由多层纳米TiO

A negative ion self-cleaning antibacterial ceramic brick

【技术实现步骤摘要】
一种负离子自清洁抗菌陶瓷砖
本技术涉及陶瓷砖领域，具体涉及一种负离子自清洁抗菌陶瓷砖。
技术介绍
陶瓷砖是由粘土和其他无机非金属原料，经成型、高温烧结制得的板状或块状陶瓷制品，用于墙面和地面的装饰与保护。目前，很多的建筑都会用到陶瓷砖，但是在长期使用过程中，受环境的影响陶瓷砖的表面易滋生细菌。现有出现了一些TiO2自清洁抗菌陶瓷砖，TiO2作为光催化抗菌剂，具有消毒快、杀菌能力强、无二次污染、光化学稳定等优点，广泛用于陶瓷抗菌，但是其缺点是，必须有光才能起作用，极大地限制了它的应用范围，而在黑暗中细菌也更易繁殖和生长。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种可释放负离子，且在有光无光条件均具有抗菌能力的负离子自清洁抗菌陶瓷砖。为了解决上述技术问题，本技术的技术方案为：一种负离子自清洁抗菌陶瓷砖，包括陶瓷本体，所述陶瓷本体的上表面设有一层釉面层，在所述釉面层的表面设有一层电气石负离子层，在所述电气石负离子层上设有抗菌层，所述抗菌层由多层纳米TiO2抗菌层、银系抗菌剂层间隔分布设置构成。优选的，所述电气石负离子层的厚度为10-15μm。优选的，所述抗菌层为4-8层。优选的，所述纳米TiO2抗菌层的厚度为2-6μm。优选的，所述银系抗菌剂层为载银磷酸锆抗菌剂。优选的，所述银系抗菌剂层的厚度为3-4μm。优选的，所述釉面层的厚度为30-35μm。与现有技术相比，本技术提供的优点是：通过由纳米TiO2抗菌层、银系抗菌剂层间隔分布设置构成的抗菌层，使得TiO2在有光条件发生光催化作用，起到分解有机物杀菌的作用，在在无光条件下银系抗菌剂层中银离子进入细胞使细胞丧失分裂增殖能力而死亡，起到部分抗菌作用，另外，纳米TiO2抗菌层是负载在电气石层的表面，在光作用下，还表现出对纳米TiO2的光催化的促进作用。附图说明图1为本技术的负离子自清洁抗菌陶瓷砖的结构示意图。图中，1-陶瓷本体，2-釉面层，3-电气石负离子层，4-纳米TiO2抗菌层，5-银系抗菌剂层。具体实施方式下面结合附图对本技术的具体实施方式作进一步说明。在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明用于帮助理解本技术，但并不构成对本技术的限定。此外，下面所描述的本技术各个实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。如图1所示，一种负离子自清洁抗菌陶瓷砖，包括陶瓷本体1，所述陶瓷本体1的上表面设有一层釉面层2，釉面层2的厚度优选30-35μm。在所述釉面层的表面设有一层电气石负离子层3，在所述电气石负离子层3上设有抗菌层，优选抗菌层为4-8层，所述抗菌层由多层纳米TiO2抗菌层4、银系抗菌剂层5间隔分布设置构成，单层纳米TiO2抗菌层4的厚度为2-6μm，单层银系抗菌剂层5的厚度为3-4μm，所述银系抗菌剂层5为载银磷酸锆抗菌剂。本技术中，釉面层覆盖于陶瓷本体表面，再将电气石负离子层、纳米TiO2抗菌层、银系抗菌剂层通过喷涂或者涂布等方式依次覆盖设于釉层面的外表层，经风干后，再将陶瓷本体进行烧结，在陶瓷本体上形成负离子层/光催化/无光催化层。电气石是一种天然硅酸盐矿物，具有自发极化效应，能使周围的空气或水发生微弱的电离产生负离子，具有压电性和热电性性当外界温度、压力变化时，晶体单向极轴两端会产生等量异种电荷，导致电气石表面附近出现电场，使周围的空气发生电离,产生空气负离子。而抗菌层，在有光条件，TiO2在光催化下，产生电子(e-)和空穴(h+)，并与环境中的水和氧气反应，产生过氧化氢和氢氧团，将有机物分解，从而具有杀菌效果，在无光条件下，银系抗菌剂中的银离子使用过程中缓慢释放，并能穿透细胞壁进入细胞内，并与巯基反应，使蛋白质凝固破坏细胞合成酶的活性，细胞丧失分裂增殖能力而死亡，起到抗菌作用，且当细菌被杀灭后，银离子又能游离出来再与其他菌种接触。另外，由于纳米TiO2抗菌层是负载在电气石层的表面，在光作用下，还表现出对纳米TiO2的光催化的促进作用，这是由于电气石两端反向电荷的存在，使电子和空穴可以驱动到不同的位置，从而减少TiO2电子和空穴复合的几率，另外电气石辐射的远红外线能够活化水分子，降低水分子缔结度，有利于TiO2的光催化作用。以上结合附图对本技术的实施方式作了详细说明，但本技术不限于所描述的实施方式。对于本领域的技术人员而言，在不脱离本技术原理和精神的情况下，对这些实施方式进行多种变化、修改、替换和变型，仍落入本技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种负离子自清洁抗菌陶瓷砖，其特征在于：包括陶瓷本体，所述陶瓷本体的上表面设有一层釉面层，在所述釉面层的表面设有一层电气石负离子层，在所述电气石负离子层上设有抗菌层，所述抗菌层由多层纳米TiO

【技术特征摘要】
1.一种负离子自清洁抗菌陶瓷砖，其特征在于：包括陶瓷本体，所述陶瓷本体的上表面设有一层釉面层，在所述釉面层的表面设有一层电气石负离子层，在所述电气石负离子层上设有抗菌层，所述抗菌层由多层纳米TiO2抗菌层、银系抗菌剂层间隔分布设置构成。


2.根据权利要求1所述的负离子自清洁抗菌陶瓷砖，其特征在于：所述电气石负离子层的厚度为10-15μm。


3.根据权利要求1所述的负离子自清洁抗菌陶瓷砖，其特征在于：所述抗菌层为4-8层。
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【专利技术属性】
技术研发人员：郭卫兵，
申请(专利权)人：广东卫兵软件科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44