【技术实现步骤摘要】
一种含铜蚀刻液除杂质装置
本技术涉及一种蚀刻液处理设备的
，更具体地说，它涉及一种含铜蚀刻液除杂质装置。
技术介绍
蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类，通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果，蚀刻会产生废水，生产完毕的废水，需要对其进行必要的处理后，然后排放。目前，企业一般对蚀刻后产生的蚀刻液采取的处理方式是：在蚀刻工作完成后，蚀刻液统一收集在储液罐中，然后在由储液罐引流至沉淀池中，由于蚀刻液中的杂质下沉，蚀刻液在沉淀池内形成杂质层、悬浮层以及液体层，以将蚀刻液掺杂的杂质去除。上述技术方案存在缺陷：由于沉淀池的占地面积大，沉淀杂质的时间过长，降低了工作效率以及企业经济性，特别是在一些蚀刻液处理量大时，沉淀池难以同时对大量的蚀刻液进行除杂质处理，因此需要改进。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种含铜蚀刻液...
【技术保护点】
1.一种含铜蚀刻液除杂质装置，包括中空的桶体，其特征在于：所述桶体的内壁周向设置有第一凸边，所述第一凸边上放置有过滤网，所述过滤网的底侧设置有多个插接杆，所述插接杆活动插设在所述第一凸边上，所述插接杆上套设有振动弹簧，所述振动弹簧设置在所述第一凸边与所述过滤网之间，所述插接杆远离所述过滤网的一端还设置有限位部件，以用于防止所述过滤网从所述第一凸边中脱落，所述桶体的底部连接有出液通道，所述出液通道的外壁连接有支撑架。/n
【技术特征摘要】
1.一种含铜蚀刻液除杂质装置，包括中空的桶体，其特征在于：所述桶体的内壁周向设置有第一凸边，所述第一凸边上放置有过滤网，所述过滤网的底侧设置有多个插接杆，所述插接杆活动插设在所述第一凸边上，所述插接杆上套设有振动弹簧，所述振动弹簧设置在所述第一凸边与所述过滤网之间，所述插接杆远离所述过滤网的一端还设置有限位部件，以用于防止所述过滤网从所述第一凸边中脱落，所述桶体的底部连接有出液通道，所述出液通道的外壁连接有支撑架。
2.根据权利要求1所述的一种含铜蚀刻液除杂质装置，其特征在于：所述限位部件包括插销以及螺母，所述插销穿设于所述插接杆的外壁，所述螺母螺纹连接于插销的端部。
3.根据权利要求1所述的一种含铜蚀刻液除杂质装置，其特征在于：所述第一凸边的表面均匀开设有多个连接孔，所述插接杆与所述连接孔相对应设置，且所述插接杆活动插接在所述连接孔内。
4.根据权利要求1所述的一种含铜蚀刻液除杂质装置，其特征在于：所述桶体的内壁上还周向设置有第二凸边，所述第二凸边位于所述第一凸边的下方，所述第二凸边相对于所述出液通道的底面上还放置有金属吸附网，且所述金属吸附网与所述第二凸边之间通过螺旋螺纹连接，所述桶体的外侧壁上还固设有中空的安装块，所述安装块安装有电磁...
【专利技术属性】
技术研发人员：曾巍，张姣，
申请(专利权)人：广东中耀环境科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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