【技术实现步骤摘要】
一种可收集碎屑的锗单晶片用切割机构
本技术涉及锗单晶片切割
,具体为一种可收集碎屑的锗单晶片用切割机构。
技术介绍
随着时代的发展,人们生产水平的不断提高,半导体元素的使用也在不断的提高,锗就是其中的一种,为了满足不同产品的需求,需要将锗单晶片进行不同规格的处理,现阶段大都采用锗单晶片切割机构对其进行切割。但是,现有的锗单晶片切割机构存在以下缺点:1、现有的锗单晶片切割机构在使用时,由于结构本身的缺陷,没有相应的碎屑处理装置,进而导致锗单晶片在被切割时产生的碎屑不能被及时的收集,进而导致锗原料的浪费。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种可收集碎屑的锗单晶片用切割机构,解决了现有的锗单晶片切割机构在使用时因结构本身的缺陷不能对切割产生的碎屑进行及时收集的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种可收集碎屑的锗单晶片用切割机构,包括底座以及安装在底座中间位置的碎屑收集机构,所述底座顶部两侧安装有限位杆,所述限位杆设置在碎屑收集机构两侧,所述限位杆顶部设置有横杆,所述横杆中间位置设置有切割组件,所述碎屑收集机构由碎屑收集箱、通孔、碎屑收集通道、收集口、抽风机以及碎屑收集抽屉组成,所述碎屑收集箱安装在底座中间位置,所述碎屑收集箱顶部安装有固定台,所述通孔开设在碎屑收集箱底部,所述收集口设置在碎屑收集箱两侧,所述收集口通过抽风管道与抽风机抽风口相连接,所述碎屑收集通道两侧开设有进口,所述抽风机出风口通过出风管道与进口相连通,所述碎屑收集通道顶部与通孔底部相连接,所述碎屑 ...
【技术保护点】
1.一种可收集碎屑的锗单晶片用切割机构,包括底座(1)以及安装在底座(1)中间位置的碎屑收集机构,其特征在于:所述底座(1)顶部两侧安装有限位杆(2),所述限位杆(2)设置在碎屑收集机构两侧,所述限位杆(2)顶部设置有横杆(3),所述横杆(3)中间位置设置有切割组件(14),所述碎屑收集机构由碎屑收集箱(4)、通孔(5)、碎屑收集通道(6)、收集口(7)、抽风机(8)以及碎屑收集抽屉(9)组成,所述碎屑收集箱(4)安装在底座(1)中间位置,所述碎屑收集箱(4)顶部安装有固定台(10),所述通孔(5)开设在碎屑收集箱(4)底部,所述收集口(7)设置在碎屑收集箱(4)两侧,所述收集口(7)通过抽风管道(11)与抽风机(8)抽风口相连接,所述碎屑收集通道(6)两侧开设有进口(12),所述抽风机(8)出风口通过出风管道(13)与进口(12)相连通,所述碎屑收集通道(6)顶部与通孔(5)底部相连接,所述碎屑收集通道(6)底部与碎屑收集抽屉(9)相连通。/n
【技术特征摘要】
1.一种可收集碎屑的锗单晶片用切割机构,包括底座(1)以及安装在底座(1)中间位置的碎屑收集机构,其特征在于:所述底座(1)顶部两侧安装有限位杆(2),所述限位杆(2)设置在碎屑收集机构两侧,所述限位杆(2)顶部设置有横杆(3),所述横杆(3)中间位置设置有切割组件(14),所述碎屑收集机构由碎屑收集箱(4)、通孔(5)、碎屑收集通道(6)、收集口(7)、抽风机(8)以及碎屑收集抽屉(9)组成,所述碎屑收集箱(4)安装在底座(1)中间位置,所述碎屑收集箱(4)顶部安装有固定台(10),所述通孔(5)开设在碎屑收集箱(4)底部,所述收集口(7)设置在碎屑收集箱(4)两侧,所述收集口(7)通过抽风管道(11)与抽风机(8)抽风口相连接,所述碎屑收集通道(6)两侧开设有进口(12),所述抽风机(8)出风口通过出风管道(13)与进口(12)相连通,所述碎屑收集通道(6)顶部与通孔(5)底部相连接,所述碎屑收集通道(6)底...
【专利技术属性】
技术研发人员:王卿伟,郭友林,陈仕天,陆海凤,雍定琪,
申请(专利权)人:中锗科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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