【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】压缩成像方法和系统相关申请本申请要求2017年10月20日提交的澳大利亚专利申请号2017904259的提交和优先权日期的权益，其内容通过引用并入本文。
本专利技术涉及压缩成像方法和系统，该压缩成像方法和系统特别是但绝不意味着排他地应用于放射性源或材料的伽马射线成像中。
技术介绍
WO2015/176115公开了一种用于入射辐射(诸如伽马射线辐射)的压缩感测的掩模装置。该掩模装置包括一个或多个编码掩模，每个掩模具有调制入射辐射的强度的材料的主体。掩模具有多个掩模孔口区域，其相对于一个或多个编码掩模的其他部分允许辐射的更高的透射，该更高的透射足以允许压缩感测测量。WO2015/176115举例说明了一对嵌套的球形、半球形或圆柱形掩模，以及嵌套在半球形掩模内的球形掩模。
技术实现思路
根据本专利技术的第一广泛方面，提供了一种用于入射辐射的压缩感测的掩模，包括：由调制感兴趣的入射辐射的强度(诸如通过衰减入射辐射或通过散射至少一些入射辐射)的材料形成的主体；并且其中主体具有多个掩模...
【技术保护点】
1.一种用于入射辐射的压缩感测的掩模，包括：/n由调制感兴趣的入射辐射的强度的材料形成的主体；并且/n其中所述主体具有多个掩模孔口区域，每个掩模孔口区域包括至少一个掩模孔口，所述至少一个掩模孔口相对于相应掩模孔口区域的其他部分允许所述辐射的更高的透射，相对透射足以允许重建压缩感测测量；/n所述掩模具有关于所述掩模孔口区域的一个或多个旋转对称轴线；/n所述掩模孔口具有在绕着所述一个或多个旋转对称轴线旋转之后提供对称性的形状；并且/n由所述相应掩模孔口区域的所述旋转产生的感测矩阵的互相干小于1。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171020 AU 20179042591.一种用于入射辐射的压缩感测的掩模，包括：
由调制感兴趣的入射辐射的强度的材料形成的主体；并且
其中所述主体具有多个掩模孔口区域，每个掩模孔口区域包括至少一个掩模孔口，所述至少一个掩模孔口相对于相应掩模孔口区域的其他部分允许所述辐射的更高的透射，相对透射足以允许重建压缩感测测量；
所述掩模具有关于所述掩模孔口区域的一个或多个旋转对称轴线；
所述掩模孔口具有在绕着所述一个或多个旋转对称轴线旋转之后提供对称性的形状；并且
由所述相应掩模孔口区域的所述旋转产生的感测矩阵的互相干小于1。
2.根据权利要求1所述的掩模，其中所述互相干表示为其中：
其中是包含M×N2行的感测矩阵的矩阵，其由M次测量和N2个像素图像产生。
3.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述互相干表示为其中：
其中是包含M×N2行的感测矩阵的矩阵，其由M次测量和N2个像素图像产生，和是的列。
4.根据前述权利要求中任一项所述的掩模，其中所述掩模孔口的所述互相干是最小的互相干。
5.根据前述权利要求中任一项所述的掩模，其中所述掩模是(i)立方或其他柏拉图固体，或(ii)截头二十面体或其他阿基米德固体，或(iii)圆柱形。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的掩模，其中所述掩模是球形的，其中所述掩模孔口区域被限定为使得所述掩模具有关于所述掩模孔口区域的所述一个或多个旋转对称轴线。
7.一种用于入射辐射的压缩感测的检测器，所述检测器包括：
根据前述权利要求中任一项所述的掩模；
一个或多个辐射传感器，其在所述掩模内并且对所述入射辐射敏...
【专利技术属性】
技术研发人员：D·博德曼，M·格内特，A·弗林，A·萨布特，L·查蒂尔，J·伊尔特，D·普罗科波维奇，G·瓦特，
申请(专利权)人：澳大利亚核科学和技术组织，
类型：发明
国别省市：澳大利亚;AU
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