【技术实现步骤摘要】
真空吸附装置
本技术涉及真空吸附
，尤其涉及一种真空吸附装置。
技术介绍
在硅晶圆边缘抛光中，硅晶圆吸附采用的真空发生装置为水环真空泵，由于水环真空泵需要有tapwater(自来水)的供应，并且因为结构的问题，自来水会吸混入随气体被吸入的液体，该液体是不符合水环真空泵的水封用水要求的，可能是具有污染的，导致需要直接排掉水环真空泵内的水，然后重新供水，水环真空泵水封用水量很大，频繁供水、排水，使用成本上升，且能耗高，并且水环真空泵的占地面积较大。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本技术提供一种真空吸附装置，解决采用水环真空泵进行真空吸附造成的能耗高、成本高等的问题。为了达到上述目的，本技术采用的技术方案是：一种真空吸附装置，包括：真空吸附盘，所述真空吸附盘的中心设置有第一吸气口；气液分离结构，包括入口和出口，所述入口通过第一管道与所述第一吸气口连通；文丘里管，包括位于相对的两端的第一进气口和第一出气口，以及位于侧面的第二进气口，所述第二进气口与所述气液分离结构的所述出口...
【技术保护点】
1.一种真空吸附装置，其特征在于，包括：/n真空吸附盘，所述真空吸附盘的中心设置有第一吸气口；/n气液分离结构，包括入口和出口，所述入口通过第一管道与所述第一吸气口连通；/n文丘里管，包括位于相对的两端的第一进气口和第一出气口，以及位于侧面的第二进气口，所述第二进气口与所述气液分离结构的所述出口连通。/n
【技术特征摘要】
1.一种真空吸附装置，其特征在于，包括：
真空吸附盘，所述真空吸附盘的中心设置有第一吸气口；
气液分离结构，包括入口和出口，所述入口通过第一管道与所述第一吸气口连通；
文丘里管，包括位于相对的两端的第一进气口和第一出气口，以及位于侧面的第二进气口，所述第二进气口与所述气液分离结构的所述出口连通。
2.根据权利要求1所述的真空吸附装置，其特征在于，从所述第一进气口到所述第一出气口的方向，所述文丘里管依次包括收缩管、喉管和扩散管，所述第二进气口位于所述喉管。
3.根据权利要求1所述的真空吸附装置，其特征在于，还包括压缩空气提供结构，通过管道与所述第一进气口连通、以向所述文丘里管提供压缩空气。
4.根据权利要求3所述的真空吸附装置，其特征在于，所述压缩空气提供结构包括通过管道相互连通的空气干燥部、空气清洁部和空气压缩部。
5.根据权利要求1所述的真空吸附装置，其特征在于，包括至少一个所述文丘里管...
【专利技术属性】
技术研发人员：王建新，
申请(专利权)人：西安奕斯伟硅片技术有限公司，
类型：新型
国别省市：陕西;61
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