真空吸附装置制造方法及图纸

技术编号:24365544 阅读:53 留言:0更新日期:2020-06-03 04:41
本实用新型专利技术涉及一种真空吸附装置,包括:真空吸附盘,所述真空吸附盘的中心设置有第一吸气口;气液分离结构,包括入口和出口,所述入口通过第一管道与所述第一吸气口连通;文丘里管,包括位于相对的两端的第一进气口和第一出气口,以及位于侧面的第二进气口,所述第二进气口与所述气液分离结构的所述出口连通。

Vacuum adsorption device

【技术实现步骤摘要】
真空吸附装置
本技术涉及真空吸附
,尤其涉及一种真空吸附装置。
技术介绍
在硅晶圆边缘抛光中,硅晶圆吸附采用的真空发生装置为水环真空泵,由于水环真空泵需要有tapwater(自来水)的供应,并且因为结构的问题,自来水会吸混入随气体被吸入的液体,该液体是不符合水环真空泵的水封用水要求的,可能是具有污染的,导致需要直接排掉水环真空泵内的水,然后重新供水,水环真空泵水封用水量很大,频繁供水、排水,使用成本上升,且能耗高,并且水环真空泵的占地面积较大。
技术实现思路
为了解决上述技术问题,本技术提供一种真空吸附装置,解决采用水环真空泵进行真空吸附造成的能耗高、成本高等的问题。为了达到上述目的,本技术采用的技术方案是:一种真空吸附装置,包括:真空吸附盘,所述真空吸附盘的中心设置有第一吸气口;气液分离结构,包括入口和出口,所述入口通过第一管道与所述第一吸气口连通;文丘里管,包括位于相对的两端的第一进气口和第一出气口,以及位于侧面的第二进气口,所述第二进气口与所述气液分离结构的所述出口连通。可选的,从所述第一进气口到所述第一出气口的方向,所述文丘里管依次包括收缩管、喉管和扩散管,所述第二进气口位于所述喉管。可选的,还包括压缩空气提供结构,通过管道与所述第一进气口连通、以向所述文丘里管提供压缩空气。可选的,所述压缩空气提供结构包括通过管道相互连通的空气干燥部、空气清洁部和空气压缩部。可选的,包括至少一个所述文丘里管,在所述真空吸附装置包括至少两个所述文丘里管时,所述每个所述文丘里管的所述第二进气口连接一个分支管道,所述气液分离结构的所述出口连接一个主管道,每个所述分支管道与所述主管道连通。可选的,所述主管道上设置有第一阀门,和/或每个所述分支管道上设置有第二阀门。可选的,所述气液分离结构包括具有容纳腔体的本体,所述本体的上半部分的侧壁上设有与所述容纳腔体连通的所述入口和所述出口。可选的,还包括储液箱,所述本体的底部设置有出液口,所述出液口通过第二管道与所述储液箱连通。可选的,所述第一管道上设置有第三阀门,所述第三管道上设置有第四阀门。可选的,所述第三阀门和/或所述第四阀门为电磁阀。本技术的有益效果是:采用文丘里管代替水环真空泵提供真空环境,进行真空吸附,并采用气液分离结构将进行真空吸附时、混入气体中的液体分离出来,避免了混入气体中的液体进入文丘里管,彻底解决采用水环真空泵进行真空吸附时、吸入的气体混入液体,而造成的成本上升、能耗重等问题。附图说明图1表示本技术实施例中真空吸附装置结构示意图;图2表示本技术实施例中的文丘里管结构示意图;图3表示本技术实施例中传动部的部分结构示意图。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本技术实施例的附图,对本技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本技术的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。一般情况下,硅晶圆抛光,通过真空吸附对硅晶圆进行吸附固定,而提供真空的是水环真空泵,但是,水环真空泵是需要水进行运行的,真空吸附时,会有液体随着吸入的气体进行到水环真空泵内,这些液体是由污染的,需要直接排出,这样就会造成频繁的排水、供水,造成水资源的浪费、成本的提升,并且水环真空泵的占地面积也较大,浪费空间。针对上述技术问题,本实施例提供一种真空吸附装置,采用文丘里管代替水环真空泵提供真空环境,进行真空吸附,并且文丘里管采用的是气体而不是液体,并且气液分离结构将进行真空吸附时、混入气体中的液体分离出来,避免了混入气体中的液体进入文丘里管,文丘里管和气液分离结构相配合,彻底解决采用水环真空泵进行真空吸附时、吸入的气体混入液体,而造成的成本上升、能耗重等问题。具体的,如图1所示,本实施例提供一种真空吸附装置,包括:真空吸附盘1,所述真空吸附盘1的中心设置有第一吸气口;气液分离结构2,包括入口和出口,所述入口通过第一管道5与所述第一吸气口连通;文丘里管3,包括位于相对的两端的第一进气口34和第一出气口35,以及位于侧面的第二进气口36,所述第二进气口36与所述气液分离结构2的所述出口连通。文丘里效应,也称文氏效应。这种现象以其发现者,意大利物理学家文丘里(GiovanniBattistaVenturi)命名。该效应表现在受限流体在通过缩小的过流断面时,流体出现流速增大的现象,其流速与过流断面成反比。而由伯努利定律知流速的增大伴随流体压力的降低,即常见的文丘里现象。通俗地讲,当流体在文丘里管里面流动,在管道的最窄处,动态压力(速度头)达到最大值,静态压力(静息压力)达到最小值,流体的速度因为通流横截面面积减小而上升。整个涌流都要在同一时间内经历管道缩小过程,因而压力也在同一时间减小,进而产生压力差,这个压力差用于测量或者给流体提供一个外在吸力,从而产生吸附作用。本实施例利用了文丘里管的文丘里效应,实现待固定件的吸附固定,虽然在文丘里管内流动以产生吸附作用的流体采用气体,但是,混入气体内的污染液体同样会造成真空度的不稳定,并且污染液体也会降低文丘里管的使用寿命,所以本实施例设置了气液分离结构,避免液体进入文丘里管,也就是说,本实施例,通过文丘里管和气液分离结构相配合替代水环真空泵、实现真空吸附,彻底解决了由于采用水环真空泵提供真空吸附、用水量大的问题,并解决了由于吸入的气体混入液体、导致水环真空泵水封用水需要直接排出,而造成的频繁供水、排水,降低成本,节约水资源。本实施例中,如图2所示,从所述第一进气口34到所述第一出气口35的方向,所述文丘里管依次包括收缩管31、喉管32和扩散管33,所述第二进气口36位于所述喉管32。气体从所述第一进气口34进入所述文丘里管内部,气体流速在所述喉管32处增大,压力降低,产生吸附作用,即通过所述第二进气口36提供吸附力。本实施例中,所述喉管32处设置有调节所述喉管32大小的调节结构,所述调节结构调节所述喉管32的大小、以调节吸附力的大小。所述调节结构的具体结构形式可以有多种,本实施例中,所述调节结构包括用于监测所述喉管32处的压力大小的压力监测器,设置于所述喉管32处的至少一个阀板,控制至少一个所述阀板移动的传动部、以及驱本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空吸附装置,其特征在于,包括:/n真空吸附盘,所述真空吸附盘的中心设置有第一吸气口;/n气液分离结构,包括入口和出口,所述入口通过第一管道与所述第一吸气口连通;/n文丘里管,包括位于相对的两端的第一进气口和第一出气口,以及位于侧面的第二进气口,所述第二进气口与所述气液分离结构的所述出口连通。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空吸附装置,其特征在于,包括:
真空吸附盘,所述真空吸附盘的中心设置有第一吸气口;
气液分离结构,包括入口和出口,所述入口通过第一管道与所述第一吸气口连通;
文丘里管,包括位于相对的两端的第一进气口和第一出气口,以及位于侧面的第二进气口,所述第二进气口与所述气液分离结构的所述出口连通。


2.根据权利要求1所述的真空吸附装置,其特征在于,从所述第一进气口到所述第一出气口的方向,所述文丘里管依次包括收缩管、喉管和扩散管,所述第二进气口位于所述喉管。


3.根据权利要求1所述的真空吸附装置,其特征在于,还包括压缩空气提供结构,通过管道与所述第一进气口连通、以向所述文丘里管提供压缩空气。


4.根据权利要求3所述的真空吸附装置,其特征在于,所述压缩空气提供结构包括通过管道相互连通的空气干燥部、空气清洁部和空气压缩部。


5.根据权利要求1所述的真空吸附装置,其特征在于,包括至少一个所述文丘里管...

【专利技术属性】
技术研发人员:王建新
申请(专利权)人:西安奕斯伟硅片技术有限公司
类型:新型
国别省市:陕西;61

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