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本实用新型涉及一种真空吸附装置，包括：真空吸附盘，所述真空吸附盘的中心设置有第一吸气口；气液分离结构，包括入口和出口，所述入口通过第一管道与所述第一吸气口连通；文丘里管，包括位于相对的两端的第一进气口和第一出气口，以及位于侧面的第二进气口，...
该专利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安奕斯伟硅片技术有限公司授权不得商用。

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