疏水性二氧化硅粉末及其制造方法以及调色剂树脂颗粒技术

本发明专利技术提供抑制具有带电控制能力的季铵盐等带电控制剂从表面的脱离、并且能够对外加有该疏水性二氧化硅颗粒的调色剂树脂颗粒赋予适当范围的带电性的疏水性二氧化硅粉末、以及外加有该疏水性二氧化硅粉末的调色剂树脂颗粒。本发明专利技术提供一种疏水性二氧化硅粉末，其特征在于，(1)疏水化度为50％以上，(2)利用甲醇和甲磺酸水溶液的混合溶剂提取的选自季铵离子、单偶氮系配位化合物和无机酸离子中的至少1种化合物的提取量X为0.1质量％以上，(3)上述X与利用水提取的上述化合物的提取量Y满足下述式(I)Y/X＜0.15(I)。

Hydrophobic silica powder and its manufacturing method and toner resin particles

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】疏水性二氧化硅粉末及其制造方法以及调色剂树脂颗粒
本专利技术涉及疏水性二氧化硅粉末和调色剂树脂颗粒。
技术介绍
目前，无机氧化物微粒用于各种用途。特别是二氧化硅颗粒在化妆品、橡胶、研磨剂等的多样的用途中，以提高强度、提高粉体的流动性、赋予带电特性等为目的，用作主成分或外加剂等添加成分。将二氧化硅外加在调色剂颗粒时，有时使低温低湿下的带电量过度增大，或者由于在高温高湿下吸附水分而使带电量过度降低。在电子照片用负带电性调色剂(例如，参照专利文献1)中，为了控制外加有二氧化硅的调色剂的带电量，提出了使用经季铵盐系化合物或作为官能团具有季铵盐的聚合物处理后的疏水化度为80％以上的疏水二氧化硅颗粒。然而，专利文献1所记载的疏水二氧化硅颗粒中，使用预先利用硅烷偶联剂等疏水化剂进行疏水化处理的疏水性二氧化硅微粒(参照[0010])，并利用季铵盐系化合物等对上述疏水性二氧化硅微粒的表面进行表面处理(参照[0012])。因此，专利文献1所记载的疏水二氧化硅颗粒中，具有带电控制能力的表面的季铵盐等容易脱离，从而二氧化硅颗粒发生凝集，存在难以附着于调色剂树脂颗粒的问题。另外，对于调色剂树脂颗粒，根据用途，要求带电性不要过高，调整至适当的范围。专利文献1中，未研究将外加有二氧化硅颗粒的调色剂树脂颗粒的带电性调整至适当的范围。因此，需要开发抑制具有带电控制能力的季铵盐等带电控制剂从表面的脱离、并且能够对外加有疏水性二氧化硅颗粒的调色剂树脂颗粒赋予适当范围的带电性的疏水性二氧化硅粉末、以及外加有该疏水性二氧化硅粉末的调色剂树脂颗粒。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平5－1007471号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题本专利技术鉴于上述情形而提出，目的在于提供抑制具有带电控制能力的季铵盐等带电控制剂从表面的脱离、并且能够对外加有该疏水性二氧化硅颗粒的调色剂树脂颗粒赋予适当范围的带电性的疏水性二氧化硅粉末、以及外加有该疏水性二氧化硅粉末的调色剂树脂颗粒。用于解决技术问题的技术方案本专利技术的专利技术人为了实现上述目的进行了反复深入研究，结果发现，通过下述的疏水性二氧化硅粉末，能够实现上述目的，以至完成了本专利技术，其中，(1)疏水化度为50％以上，(2)利用甲醇和甲磺酸水溶液的混合溶剂提取的选自季铵离子、单偶氮系配位化合物和无机酸离子中的至少1种化合物的提取量X为0.1质量％以上，(3)上述X与利用水提取的上述化合物的提取量Y满足下述式(I)：Y/X＜0.15(I)。即，本专利技术涉及下述的疏水性二氧化硅粉末和调色剂树脂颗粒。1.一种疏水性二氧化硅粉末，其特征在于，(1)疏水化度为50％以上，(2)利用甲醇和甲磺酸水溶液的混合溶剂提取的选自季铵离子、单偶氮系配位化合物和无机酸离子中的至少1种化合物的提取量X为0.1质量％以上，(3)上述X与利用水提取的上述化合物的提取量Y满足下述式(I)，Y/X＜0.15(I)。2.如项1所述的疏水性二氧化硅粉末，其中，29Si－固体NMR谱图具有M的峰。3.如项1或2所述的疏水性二氧化硅粉末，其中，疏水化度为60％以上。4.疏水性二氧化硅粉末的制造方法，其特征在于，包括：向二氧化硅颗粒的水分散体添加选自季铵离子、单偶氮系配位化合物和无机酸离子中的至少1种化合物，并利用有机硅氮烷进行处理的工序。5.如项4所述的制造方法，其中，上述二氧化硅颗粒的水分散体中的二次颗粒的平均粒径为5～200nm。6.如项4或5所述的制造方法，其中，上述有机硅氮烷为六甲基二硅氮烷。7.一种调色剂树脂颗粒，其中，将项1～3中任一项记载的疏水性二氧化硅粉末外加在树脂颗粒。专利技术的效果本专利技术的疏水性二氧化硅粉末中，具有带电控制能力的季铵盐等带电控制剂从表面的脱离得到抑制，并且能够对外加有该疏水性二氧化硅颗粒的调色剂树脂颗粒赋予适当范围的带电性。另外，本专利技术的调色剂树脂颗粒由于该疏水性二氧化硅粉末外加在树脂颗粒，因而疏水性的降低得到抑制，并且带电性不过高，能够示出符合用途的带电性。具体实施方式以下，对本专利技术的疏水性二氧化硅粉末和调色剂树脂颗粒详细地进行说明。1.疏水性二氧化硅粉末本专利技术的疏水性二氧化硅粉末为如下的疏水性二氧化硅粉末，(1)疏水化度为50％以上，(2)利用甲醇和甲磺酸水溶液的混合溶剂提取的选自季铵离子、单偶氮系配位化合物和无机酸离子中的至少1种化合物的提取量X为0.1质量％以上，(3)上述X与利用水提取的上述化合物的提取量Y满足下述式(I)，Y/X＜0.15(I)。具有上述特征的本专利技术的疏水性二氧化硅粉末中，利用甲醇和甲磺酸水溶液的混合溶剂提取的选自季铵离子、单偶氮系配位化合物和无机酸离子中的至少1种化合物的提取量X为0.1质量％以上，具有足够的疏水基团，能够示出50％以上的高疏水化度。另外，本专利技术的疏水性二氧化硅粉末由于上述提取量X与利用水提取的上述化合物的提取量Y满足上述式(I)，容易由于水发生脱离的疏水性二氧化硅颗粒的表面的、具有带电控制能力的季铵盐等带电控制剂的脱离被抑制。以下，所谓带电控制剂，意指选自季铵离子、单偶氮系配位化合物和无机酸离子中的至少1种化合物。此外，本专利技术的疏水性二氧化硅粉末由于作为选自季铵离子、单偶氮系配位化合物和无机酸离子中的至少1种化合物提取的特定基团而疏水化，因此，带电量不过高而调整至适当的范围，能够对外加该疏水性二氧化硅颗粒的调色剂树脂颗粒赋予适当范围的带电性。疏水性二氧化硅粉末的疏水化度为50％以上，疏水化度小于50％时，不能对树脂颗粒赋予充分的带电性能。上述疏水化度优选为55％以上、更优选为60％以上。另外，上述疏水化度越高越好，上限值没有特别限定，优选为100％以下、更优选为98％以下、进一步优选为95％以下。其中，在本说明书中，通过以下方法测定上述疏水化度。即，在200mL烧杯中加入纯水50mL，添加疏水性二氧化硅粉末0.2g，利用磁力搅拌器进行搅拌，制备疏水性二氧化硅粉末的分散液。将装入甲醇的滴定管的前端放入分散液中，在搅拌下滴下甲醇，测定直至疏水性二氧化硅粉末完全分散于水所需的甲醇的添加量，将该添加量设为AmL，基于以下的式子计算疏水化度。[疏水化度(％)]＝[A/(50+A)]×100关于疏水性二氧化硅粉末，利用甲醇和甲磺酸水溶液的混合溶剂提取的选自季铵离子、单偶氮系配位化合物和无机酸离子中的至少1种化合物的提取量X为0.1质量％以上。提取量X小于0.1质量％时，向疏水性二氧化硅粉末的添加量少，带电抑制效果不充分。提取量X优选为0.15质量％以上、更优选为0.2质量％以上。另外，提取量X的上限没有特别限定，优选为5质量％左右。下面示出提取量X的测定方法的一例。即，向甲醇20质量份添加2M甲磺酸水溶液10质量份和疏水性二氧化硅粉末1质量份，进行30分钟超声波处理。接下来，添加69质量份本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种疏水性二氧化硅粉末，其特征在于：/n(1)疏水化度为50％以上，/n(2)利用甲醇和甲磺酸水溶液的混合溶剂提取的选自季铵离子、单偶氮系配位化合物和无机酸离子中的至少1种化合物的提取量X为0.1质量％以上，/n(3)所述X与利用水提取的所述化合物的提取量Y满足下述式(I)，/nY/X＜0.15 (I)。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171017 JP 2017-2013151.一种疏水性二氧化硅粉末，其特征在于：
(1)疏水化度为50％以上，
(2)利用甲醇和甲磺酸水溶液的混合溶剂提取的选自季铵离子、单偶氮系配位化合物和无机酸离子中的至少1种化合物的提取量X为0.1质量％以上，
(3)所述X与利用水提取的所述化合物的提取量Y满足下述式(I)，
Y/X＜0.15(I)。


2.如权利要求1所述的疏水性二氧化硅粉末，其特征在于：

29Si－固体NMR谱图具有M的峰。


3.如权利要求1或2所述的疏水性二氧化硅粉末，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：横田浩一，河本宗范，竹内健一，
申请(专利权)人：扶桑化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP