一种纳米晶体去毛刺治具制造技术

本实用新型专利技术揭示了一种纳米晶体去毛刺治具，纳米晶体为类圆盘体，类圆盘体上设有通孔，包括基架，基架上设有去毛刺机构和位于去毛刺机构底部的集尘机构，去毛刺机构包括毛刷辊体、用于若干纳米晶体穿接呈纳米晶柱体的穿接杆、及用于夹持纳米晶柱体并旋转驱动的夹持旋转机构，纳米晶柱体与毛刷辊体平行相切抵接。本实用新型专利技术通过对穿接形成的纳米晶柱体进行毛刺去除，使得其结构强度得到较大提升，纳米晶体不易受损，去毛刺外型统一度较高，产品质量得到较大提升。采用自动化旋转去毛刺的设计，且实现单次批量化作业，降低了人力成本、提高了去毛刺效率。具备相配合的吹尘机构与集尘机构，除尘高效，杜绝粉尘污染。

A nano crystal deburring tool

【技术实现步骤摘要】
一种纳米晶体去毛刺治具
本技术涉及一种纳米晶体去毛刺治具，属于纳米晶体去毛刺的

技术介绍
纳米晶体广泛用于无线充电行业，其特性比较脆，而去毛刺作业是采用自旋转毛刷机构，通过人工握持纳米晶体与毛刷相对从而实现毛刺去除。在去毛刺过程中容易纳米晶体容易产生损伤，而且纳米晶体外周修磨形态统一度较差，产品合格率较低且生产效率非常低，需要操作者具备较高地技能水平，操作者培训周期长，导致人力成本非常高昂。
技术实现思路
本技术的目的是解决上述现有技术的不足，针对现有技术中纳米晶片手工去毛刺生产效率低、成品率低、人力成本较高的问题，提出一种纳米晶体去毛刺治具。为了达到上述目的，本技术所采用的技术方案为：一种纳米晶体去毛刺治具，所述纳米晶体为类圆盘体，所述类圆盘体上设有通孔，包括基架，所述基架上设有去毛刺机构和位于所述去毛刺机构底部的集尘机构，所述去毛刺机构包括毛刷辊体、用于若干所述纳米晶体穿接呈纳米晶柱体的穿接杆、及用于夹持所述纳米晶柱体并旋转驱动的夹持旋转机构，所述纳米晶柱体与所述毛刷辊体平行相切抵接。优选地，所述夹持旋转机构包括旋转主轴和旋转从动轴，所述旋转主轴的一端连接有旋转驱动源、另一端设有第一夹持端，所述旋转从动轴上设有与所述第一夹持端相对的第二夹持端，所述纳米晶柱体位于所述第一夹持端与所述第二夹持端之间，并且所述穿接杆与所述第一夹持端、第二夹持端分别固接。优选地，所述类圆盘体的通孔为偏心式矩形通孔，所述穿接杆的横截面与所述偏心式矩形通孔形状相匹配，所述第一夹持端和所述第二夹持端上分别设有供所述穿接杆穿过并夹紧固定的夹紧机构。优选地，所述旋转驱动源包括旋转电机，所述毛刷辊体的辊轴一端与所述旋转电机相连接、另一端设有驱动盘，所述旋转主轴上设有从动盘，所述驱动盘与所述从动盘之间设有传动带。优选地，所述驱动盘的直径小于所述从动盘的直径。优选地，所述旋转电机为调速电机。优选地，所述基架上设有用于所述纳米晶体预装成所述纳米晶柱体的预装盒，所述预装盒沿所述纳米晶柱体轴向的两侧壁上分别设有供所述穿接杆穿接的凹型槽。优选地，所述去毛刺机构的顶部设有吹尘机构。优选地，所述集尘机构包括集尘舱室，所述集尘舱室的底部设有负压抽吸源。优选地，所述基架上设有用于控制所述去毛刺治具作业的控制台，所述控制台包括双手启动机构和暂停触控机构。本技术的有益效果主要体现在：1.通过对穿接形成的纳米晶柱体进行毛刺去除，使得其结构强度得到较大提升，纳米晶体不易受损，去毛刺外型统一度较高，产品质量得到较大提升。2.采用自动化旋转去毛刺的设计，且实现单次批量化作业，降低了人力成本、提高了去毛刺效率。3.具备相配合的吹尘机构与集尘机构，除尘高效，杜绝粉尘污染。附图说明图1是本技术一种纳米晶体去毛刺治具结构示意图。图2是本技术中夹持旋转机构的夹持部结构示意图。图3是本技术中预装盒的结构示意图。具体实施方式本技术提供一种纳米晶体去毛刺治具。以下结合附图对本技术技术方案进行详细描述，以使其更易于理解和掌握。一种纳米晶体去毛刺治具，纳米晶体为类圆盘体，类圆盘体上设有通孔。如图1所示，包括基架1，基架1上设有去毛刺机构2和位于去毛刺机构2底部的集尘机构3。去毛刺机构2包括毛刷辊体4、用于若干纳米晶体穿接呈纳米晶柱体5的穿接杆6、及用于夹持纳米晶柱体5并旋转驱动的夹持旋转机构7。纳米晶柱体5与毛刷辊体4平行相切抵接。具体地实现过程及原理说明：首先通过穿接杆6穿接若干纳米晶体，使之形成纳米晶柱体5，再将该纳米晶柱体5连同穿接杆6固定在夹持旋转机构7的夹持部位。此时夹持部位的纳米晶柱体5与毛刷辊体4平行相切，通过夹持旋转机构7带动纳米晶柱体5旋转，毛刷辊体4对纳米晶柱体5的外周进行整体去毛刺，纳米晶柱体5结构强度较高不易损坏，去毛刺效率高效，且去毛刺后的纳米晶体外型统一度较高，产品合格率得到较大提升。在一个具体实施例中，夹持旋转机构7包括旋转主轴71和旋转从动轴72，旋转主轴71的一端连接有旋转驱动源8、另一端设有第一夹持端，旋转从动轴72上设有与第一夹持端相对的第二夹持端。纳米晶柱体5位于第一夹持端与第二夹持端之间，并且穿接杆6与第一夹持端、第二夹持端分别固接。具体地说明，通过第一夹持端、第二夹持端与穿接杆6的相对固定，且纳米晶柱体5两侧分别与第一夹持端、第二夹持端相抵接，实现连接一体，满足对纳米晶柱体5的旋转驱动需求。在一个具体实施例中，如图2所示，类圆盘体的通孔为偏心式矩形通孔，穿接杆6的横截面与偏心式矩形通孔形状相匹配，第一夹持端和第二夹持端上分别设有供穿接杆穿过并夹紧固定的夹紧机构73。穿接杆6被夹紧机构73夹紧固定，且穿接杆6位置偏心，与旋转主轴71和旋转从动轴72不相干涉，无需在轴体上设置配接内凹槽。在一个优选实施例中，旋转驱动源8包括旋转电机81，毛刷辊体4的辊轴一端与旋转电机81相连接、另一端设有驱动盘41，旋转主轴71上设有从动盘711，驱动盘与从动盘之间设有传动带82。具体地说明，毛刷辊体4与旋转主轴71为联动结构，两者之间同向运行产生绞合运动，提高了毛刺去除效率。在一个具体实施例中，驱动盘的直径小于从动盘的直径。即毛刷辊体4的转速大于纳米晶柱体5的转速，如此设计使得纳米晶柱体5去毛刺更安全不易受损。在一个具体实施例中，旋转电机81为调速电机，便于根据材料特性选择转速。在一个具体实施例中，基架1上设有用于纳米晶体预装成所述纳米晶柱体的预装盒9，预装盒9沿纳米晶柱体轴向的两侧壁上分别设有供穿接杆6穿接的凹型槽91。具体地说明，如图3所述，通过预装盒9能在去毛刺过程中进行下一组纳米晶柱体5的预装，待上一组去毛刺完成卸料后，可进行下组纳米晶柱体5的装载，进一步提高了作业效率。在一个具体实施例中，去毛刺机构2的顶部设有吹尘机构10。通过吹尘机构10能将去毛刺产生的粉尘吹入集尘机构3。在一个具体实施例中，集尘机构3包括集尘舱室31，集尘舱室的底部设有负压抽吸源32。通过负压抽吸源32能及时抽离粉尘，确保作业环境洁净，无粉尘污染。在一个具体实施例中，基架1上设有用于控制去毛刺治具作业的控制台11，控制台包括双手启动机构和暂停触控机构。控制台的电信号控制原理属于现有技术，通过双手启动机构能起到控制保护，防止替换纳米晶柱体5过程中，设备产生运行，作业安全性较高，而暂停触控机构用于紧急情况进行停机控制。通过以上描述可以发现，本技术一种纳米晶体去毛刺治具，通过对穿接形成的纳米晶柱体进行毛刺去除，使得其结构强度得到较大提升，纳米晶体不易受损，去毛刺外型统一度较高，产品质量得到较大提升。采用自动化旋转去毛刺的设计，且本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种纳米晶体去毛刺治具，所述纳米晶体为类圆盘体，所述类圆盘体上设有通孔，其特征在于：/n包括基架，所述基架上设有去毛刺机构和位于所述去毛刺机构底部的集尘机构，/n所述去毛刺机构包括毛刷辊体、用于若干所述纳米晶体穿接呈纳米晶柱体的穿接杆、及用于夹持所述纳米晶柱体并旋转驱动的夹持旋转机构，/n所述纳米晶柱体与所述毛刷辊体平行相切抵接。/n

【技术特征摘要】
1.一种纳米晶体去毛刺治具，所述纳米晶体为类圆盘体，所述类圆盘体上设有通孔，其特征在于：
包括基架，所述基架上设有去毛刺机构和位于所述去毛刺机构底部的集尘机构，
所述去毛刺机构包括毛刷辊体、用于若干所述纳米晶体穿接呈纳米晶柱体的穿接杆、及用于夹持所述纳米晶柱体并旋转驱动的夹持旋转机构，
所述纳米晶柱体与所述毛刷辊体平行相切抵接。


2.根据权利要求1所述一种纳米晶体去毛刺治具，其特征在于：
所述夹持旋转机构包括旋转主轴和旋转从动轴，所述旋转主轴的一端连接有旋转驱动源、另一端设有第一夹持端，所述旋转从动轴上设有与所述第一夹持端相对的第二夹持端，
所述纳米晶柱体位于所述第一夹持端与所述第二夹持端之间，并且所述穿接杆与所述第一夹持端、第二夹持端分别固接。


3.根据权利要求2所述一种纳米晶体去毛刺治具，其特征在于：
所述类圆盘体的通孔为偏心式矩形通孔，所述穿接杆的横截面与所述偏心式矩形通孔形状相匹配，所述第一夹持端和所述第二夹持端上分别设有供所述穿接杆穿过并夹紧固定的夹紧机构。


4.根据权利要求2所述一种纳米晶体去毛刺治具，其特征在于：
所述旋转驱动源包括旋转...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡冬生，
申请(专利权)人：昆山富利瑞电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32