一种终端的吸附控制方法、终端技术

本发明专利技术实施例提供了一种终端的吸附控制方法、终端，该终端包括MCU、传感器、电流控制器和磁吸组件，MCU与传感器、电流控制器通信，该方法包括：MCU获取传感器采集的传感数据以及传感器检测的终端的摆放状态；MCU根据摆放状态，采用传感数据，确定磁吸组件需要产生的磁力阈值；MCU控制电流控制器调节磁吸组件的通电电流，以使磁吸组件产生大于或等于磁力阈值的磁力。上述方案利用磁吸组件的磁力随通电电流的变化而变化，通过MCU控制电流控制器以调节磁吸组件通电电流的大小，动态地改变磁吸组件产生磁力的大小，从而动态地调节终端对放置表面的吸附力，使得终端在确保吸附牢固的条件下，可以灵活的摆放部署。

A terminal adsorption control method and terminal

【技术实现步骤摘要】
一种终端的吸附控制方法、终端
本专利技术涉及通信
，特别是涉及一种终端的吸附控制方法和一种终端。
技术介绍
会议终端目前应用十分广泛，如可应用在视频会议、可视电话、发布直播、视频监控、远程培训等各个方面，但一般都是桌面式的。如想将会议终端应用于车载场景，则要考虑到车辆经常处于移动中，因此需要对摆放位置进行紧固，以防在车辆移动过程若出现大幅度的振动可能会导致会议终端的磕碰或滑落。传统的固定安装方式有贴双面胶的、有安装支架的、也有磁铁安装的，但都存在不足。例如采用贴双面胶进行固定安装的，若车辆出现大幅度振动则很容易掉落；采用支架进行固定安装的，在安装过程中容易损伤车内设备，且安装和拆卸费时费力；采用磁铁进行固定安装的，只能安装于金属外壳上，且在车辆振动过程中存在滑落的风险。此外，由于大多数会议终端都集成有摄像头，因此还需要满足能够在车内进行灵活安装的要求，而现有的会议终端不满足此种需求。
技术实现思路
鉴于上述问题，提出了本专利技术实施例以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种终端的吸附控制方法和一种终端。为了解决上述问题，本专利技术实施例公开了一种终端的吸附控制方法，所述终端包括微控制单元MCU、传感器、电流控制器和磁吸组件，所述MCU与所述传感器、所述电流控制器通信，所述方法包括：所述MCU获取所述传感器采集的传感数据以及所述传感器检测所述终端的摆放状态；所述MCU根据所述摆放状态，采用所述传感数据，确定所述磁吸组件需要产生的磁力阈值；所述MCU控制所述电流控制器调节所述磁吸组件的通电电流，以使所述磁吸组件产生大于或等于所述磁力阈值的磁力。可选地，所述MCU根据所述摆放状态，采用所述传感数据，确定所述磁吸组件需要产生的磁力阈值的步骤包括：所述MCU根据所述摆放状态，采用所述传感数据，确定所述磁吸组件需要产生的摆放磁力阈值。可选地，所述传感数据包括振动数据，所述MCU根据所述摆放状态，采用所述传感数据，确定所述磁吸组件需要产生的磁力阈值的步骤还包括：所述MCU采用所述振动数据，确定所述磁吸组件需要产生的振动磁力阈值；所述MCU采用所述振动磁力阈值以及所述摆放磁力阀值，确定所述磁吸组件需要产生的总磁力阀值。可选地，所述MCU根据所述摆放状态，采用所述传感数据，确定所述磁吸组件需要产生的摆放磁力阈值的步骤包括：所述MCU获取所述终端放置表面的静摩擦因数；所述MCU根据摆放状态，采用所述传感数据和所述静摩擦因数，确定所述磁吸组件需要产生的摆放磁力阈值。可选地，所述终端还包括磁铁；所述传感数据包括车辆变速时产生的加速度数据、所述终端的质量数据、所述终端的重力数据、所述终端对放置表面的磁力数据；所述加速度数据包括水平方向上产生的水平加速度数据和垂直方向上的垂直加速度数据；所述磁力数据为所述磁铁对所述终端放置表面产生的总磁力；所述摆放状态包括第一摆放状态、第二摆放状态和第三摆放状态。可选地，所述摆放磁力阈值包括第一摆放状态磁力阀值，所述MCU根据摆放状态，采用所述传感数据和所述静摩擦因数，确定所述磁吸组件需要产生的摆放磁力阈值的步骤包括：若所述摆放状态为第一摆放状态，所述MCU采用所述质量数据、所述水平加速度数据和所述垂直加速度数据，确定所述终端水平方向上受到的第一水平外力和所述终端垂直方向上受到的第一垂直外力；所述MCU采用所述重力数据和所述磁力数据，确定所述终端对放置表面的第一压力；所述MCU采用所述第一压力和所述静摩擦因数，确定所述终端的第一摆放状态的最大静摩擦力；所述MCU采用所述第一水平外力、所述第一垂直外力、所述第一压力和所述第一摆放状态的最大静摩擦力，确定所述磁吸组件需要产生的第一摆放状态磁力阈值；所述第一摆放状态磁力阈值为所述终端在所述第一摆放状态下，固定吸附于放置表面时所述磁吸组件需要产生的磁力阀值。可选地，所述摆放磁力阈值包括第二摆放状态磁力阀值，所述MCU根据摆放状态，采用所述传感数据和所述静摩擦因数，确定所述磁吸组件需要产生的摆放磁力阈值的步骤包括：若所述摆放状态为第二摆放状态时，所述MCU采用所述质量数据、所述水平加速度数据和所述垂直加速度数据，确定所述终端水平方向上受到的第二水平外力和所述终端垂直方向上受到的第二垂直外力；所述MCU采用所述重力数据和所述磁力数据，确定所述终端对放置表面的第二压力；所述MCU采用所述第二压力和所述静摩擦因数，确定所述终端的第二摆放状态的最大静摩擦力；所述MCU采用所述第二水平外力、所述第二垂直外力、所述第二压力和所述第二摆放状态的最大静摩擦力，确定所述磁吸组件需要产生的第二摆放状态磁力阈值；所述第二摆放状态磁力阈值为所述终端在所述第二摆放状态下，固定吸附于放置表面时所述磁吸组件需要产生的磁力阀值。可选地，所述摆放磁力阈值包括第三摆放状态磁力阀值，所述MCU根据摆放状态，采用所述传感数据和所述静摩擦因数，确定所述磁吸组件需要产生的摆放磁力阈值的步骤包括：若所述摆放状态为第三摆放状态时，所述MCU采用所述质量数据、所述加速度数据，确定所述终端受到的第三外力；所述MCU采用所述磁力数据，确定所述终端对放置表面的第三压力；所述MCU采用所述第三压力和所述静摩擦因数，确定所述终端的第三摆放状态的最大静摩擦力；所述MCU采用所述第三外力、所述第三压力和所述第三摆放状态的最大静摩擦力，确定所述磁吸组件需要产生的第三摆放状态磁力阈值；所述第三摆放状态磁力阈值为所述终端在所述第三摆放状态下，固定吸附于放置表面时所述磁吸组件需要产生的磁力阀值。可选地，所述终端还包括按键，所述方法还包括：当检测到作用于所述按键的断电操作时，所述MCU控制所述电流控制器对所述磁吸组件进行断电操作。相应的，本专利技术实施例还公开了一种终端，包括微控制单元MCU、传感器、电流控制器和磁吸组件，所述MCU与所述传感器、所述电流控制器通信，所述传感器用于采集传感数据；所述传感器用于检测所述终端的摆放状态；所述MCU用于获取所述传感器采集的传感数据以及所述传感器检测所述终端的摆放状态；根据摆放状态，采用所述传感数据，确定所述磁吸组件需要产生的磁力阈值；控制所述电流控制器调节所述磁吸组件的通电电流，以使所述磁吸组件产生大于或等于所述磁力阈值的磁力；所述电流控制器用于调节所述磁吸组件的通电电流；所述磁吸组件用于根据所述通电电流，产生相应的磁力，以使所述终端对放置表面进行电磁吸附。可选地，所述MCU可用于根据所述摆放状态，采用所述传感数据，确定所述磁吸组件需要产生的摆放磁力阈值。可选地，所述MCU还可用于采用所述振动数据，确定所述磁吸组件需要产生的振动磁力阈值；采用所述振动磁力阈值以及所述摆放磁力阀值，确定所述磁吸组件需要产生的总磁力阀值。可选地，所述MCU可用于获取所述终端放置表面的静本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种终端的吸附控制方法，其特征在于，所述终端包括微控制单元MCU、传感器、电流控制器和磁吸组件，所述MCU与所述传感器、所述电流控制器通信，所述方法包括：/n所述MCU获取所述传感器采集的传感数据以及所述传感器检测所述终端的摆放状态；/n所述MCU根据所述摆放状态，采用所述传感数据，确定所述磁吸组件需要产生的磁力阈值；/n所述MCU控制所述电流控制器调节所述磁吸组件的通电电流，以使所述磁吸组件产生大于或等于所述磁力阈值的磁力。/n

【技术特征摘要】
1.一种终端的吸附控制方法，其特征在于，所述终端包括微控制单元MCU、传感器、电流控制器和磁吸组件，所述MCU与所述传感器、所述电流控制器通信，所述方法包括：
所述MCU获取所述传感器采集的传感数据以及所述传感器检测所述终端的摆放状态；
所述MCU根据所述摆放状态，采用所述传感数据，确定所述磁吸组件需要产生的磁力阈值；
所述MCU控制所述电流控制器调节所述磁吸组件的通电电流，以使所述磁吸组件产生大于或等于所述磁力阈值的磁力。


2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述MCU根据所述摆放状态，采用所述传感数据，确定所述磁吸组件需要产生的磁力阈值的步骤包括：
所述MCU根据所述摆放状态，采用所述传感数据，确定所述磁吸组件需要产生的摆放磁力阈值。


3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述传感数据包括振动数据，所述MCU根据所述摆放状态，采用所述传感数据，确定所述磁吸组件需要产生的磁力阈值的步骤还包括：
所述MCU采用所述振动数据，确定所述磁吸组件需要产生的振动磁力阈值；
所述MCU采用所述振动磁力阈值以及所述摆放磁力阀值，确定所述磁吸组件需要产生的总磁力阀值。


4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述MCU根据所述摆放状态，采用所述传感数据，确定所述磁吸组件需要产生的摆放磁力阈值的步骤包括：
所述MCU获取所述终端放置表面的静摩擦因数；
所述MCU根据摆放状态，采用所述传感数据和所述静摩擦因数，确定所述磁吸组件需要产生的摆放磁力阈值。


5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述终端还包括磁铁；所述传感数据包括车辆变速时产生的加速度数据、所述终端的质量数据、所述终端的重力数据、所述终端对放置表面的磁力数据；所述加速度数据包括水平方向上产生的水平加速度数据和垂直方向上的垂直加速度数据；所述磁力数据为所述磁铁对所述终端放置表面产生的总磁力；所述摆放状态包括第一摆放状态、第二摆放状态和第三摆放状态。


6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述摆放磁力阈值包括第一摆放状态磁力阀值，所述MCU根据摆放状态，采用所述传感数据和所述静摩擦因数，确定所述磁吸组件需要产生的摆放磁力阈值的步骤包括：
若所述摆放状态为第一摆放状态，所述MCU采用所述质量数据、所述水平加速度数据和所述垂直加速度数据，确定所述终端水平方向上受到的第一水平外力和所述终端垂直方向上受到的第一垂直外力；
所述MCU采用所述重力数据和所述磁力数据，确定所述终端对放置表面的第一压力；
所述MCU采用所述第一压力和所述静摩擦因数，确定所述终端的第一摆放状态的最大静摩擦力；
所述MCU采用所述第一水平外力、所述第一垂直外力、所述第一压力和所述第一摆放状态的最大静摩擦力，确定所述磁吸组件需要产生的第一摆放状态磁力阈值；
所述第一摆放状态磁力阈值为所述终端在所述第一摆放状态下，固定吸附于放置表面时所述磁吸组件需要产生的磁力阀值。


7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述摆放磁力阈值包括第二摆放状态磁力阀值，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭宇龙，郭少森，安君超，王艳辉，
申请(专利权)人：视联动力信息技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11