【技术实现步骤摘要】
一种超轻高残余高平滑离型膜及其制备方法
本专利技术涉及膜制造
，具体涉及的是一种超轻高残余高平滑离型膜及其制备方法。
技术介绍
离型膜是指表面具有分离性的薄膜，离型膜与特定的材料在有限的条件下接触后不具有粘性，或轻微的粘性。离型膜一般是由薄膜基材和涂覆于基材上的离型剂构成，目前作为离型膜的离型剂主要是有机硅类离型剂，这种离型剂可以采用加热固化方式，但目前国内生产的这种采用有机硅作为离型剂的离型膜，经常会出现反剥离、涂布不均和出油现象；反剥离就是离型膜上的涂层会被结合力更大的贴膜带走，在贴膜局部形成难以清理掉的离型膜涂层区域，破坏了贴膜整体的纯净、一致性；而出油现象就是离型剂中未反应的小分子渗透出来，导致离型膜的离型面油腻，甚至透过电晕处理后凹孔偏深的薄膜基材，使基材的背面出现油腻；所有这些现象，都是与离型剂的材料体系有关。现有离型剂的材料体系，多是以乙烯基有机硅树脂为主要原料，再根据离型膜应用领域所需的功能配合一些功能性的助剂构成的材料体系，由于乙烯基有机硅树脂是直接采用分子量小、呈液体的树脂，这种分子量小的树脂，交联...
【技术保护点】
1.一种超轻高残余高平滑离型膜，其特征在于：包括薄膜基材和离型层，所述薄膜基材为为PET膜、PBT膜、PENT膜或PBNT膜的一种，离型层包括如下各组分及份数：/n
【技术特征摘要】
1.一种超轻高残余高平滑离型膜，其特征在于：包括薄膜基材和离型层，所述薄膜基材为为PET膜、PBT膜、PENT膜或PBNT膜的一种，离型层包括如下各组分及份数：
2.根据权利要求1所述的超轻高残余高平滑离型膜，其特征在于：所述乙烯基端基有机硅树酯为粘度500-5000mpas、乙烯基摩尔百分比为0.2-1.0％。
3.根据权利要求1所述的超轻高残余高平滑离型膜，其特征在于：所述交联剂为二异氰酸酯与皂荚提取物以20:1的比例混合得到。
4.根据权利要求1所述的超轻高残余高平滑离型膜，其特征在于：所述含氢硅油为粘度为200-500mpas、含氢摩尔比百分比为0.2-1.4％。
5.根据权利要求1所述的超轻高残余高平滑离型膜，其特征在于：所述引发剂为氧化十二酰、过氧化苯甲酰或过氧化二异丙苯中的一种或多种。
6.根据权利要求1所述的超轻高残余高平滑离...
【专利技术属性】
技术研发人员：李刚，
申请(专利权)人：扬州万润光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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