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一种超轻高残余高平滑离型膜及其制备方法技术
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文档序号:24342442
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本发明公开了一种超轻高残余高平滑离型膜及其制备方法,包括薄膜基材和离型层,离型层包括有机硅预聚体、乙烯基端基有机硅树酯、含氢硅油、引发剂、铂金催化剂、交联剂。本发明制备的离型膜的硅油面平滑,离型力小,易于分离,分离后胶带上无硅油残留物,产品...
该专利属于扬州万润光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过扬州万润光电科技有限公司授权不得商用。
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