阵列基板和显示装置制造方法及图纸

一种阵列基板和显示装置。阵列基板包括：衬底(10)，衬底(10)的上表面划分为像素区域(A)和非像素区域(B)；薄膜晶体管(20)，薄膜晶体管(20)设置在非像素区域(B)；绝缘层(30)，绝缘层(30)设置在薄膜晶体管(20)远离衬底(10)的一侧，且至少一部分由吸光材料形成。由此，当有环境光或紫外光照射薄膜晶体管(20)时，吸光材料就会将光线吸收，防止光线照射到薄膜晶体管(20)，影响薄膜晶体管(20)特性，进而提高薄膜晶体管(20)和阵列基板的稳定性，还可以防止光照射到阵列基板的金属走线后被反射的反射光线的产生以提高环境对比率，环境对比率为亮态光源与暗态光源的比值，进一步的提高使用阵列基板的显示面板的品质。

Array substrate and display device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阵列基板和显示装置
本专利技术涉及显示
，具体的，涉及阵列基板和显示装置。技术背景由于材料本身的缘故，当有环境光或紫外光照射到薄膜晶体管(TFT)时，尤其是有源层，TFT表面会产生额外的电子/电洞对，通道内就会产生额外的载流子,进而导致临界电压飘移，影响器件的稳定性，最终导致显示面板或显示装置的品质降低，影响用户的体验效果。因此，有关薄膜晶体管的研究有待深入。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种可以避免环境光或紫外光照射到薄膜晶体管、提高薄膜晶体管特性的稳定性、成本低或者不影响TFT厚度的阵列基板。在本专利技术的一方面，本专利技术提供了一种阵列基板。根据本专利技术的实施例，该阵列基板包括：衬底，所述衬底的上表面划分为像素区域和非像素区域；薄膜晶体管，所述薄膜晶体管设置在所述非像素区域；绝缘层，所述绝缘层设置在所述薄膜晶体管远离所述衬底的一侧，且至少一部分由吸光材料形成。由此，当有环境光或紫外光照射TFT时，该吸光材料就会将上述光线吸收，防止上述光线照射到TFT，影响TFT特性，进而提高TFT和阵列基板的稳定性，还可以防止光照射到阵列基板的金属走线后被反射的反射光线的产生以提高环境对比率(环境对比率为亮态光源(使用该阵列基板的面板点亮后的最亮画面)与暗态光源(使用该阵列基板的面板点亮后的最暗画面)的比值)，进一步的提高使用该阵列基板的显示面板的品质。根据本专利技术的实施例，所述绝缘层为平坦层和像素界定层中的至少之一。根据本专利技术的实施例，所述平坦层设置在所述非像素区域，且由所述吸光材料形成。根据本专利技术的实施例，所述平坦层设置在所述像素区域和所述非像素区域，与所述非像素区域对应的所述平坦层由所述吸光材料形成，与所述像素区域对应的所述平坦层由透光材料形成。根据本专利技术的实施例，所述平坦层设置在所述像素区域和所述非像素区域，且由所述吸光材料形成。根据本专利技术的实施例，所述吸光材料为吸光度大于2的有机材料。在本专利技术的又一方面，本专利技术提供了一种显示装置。根据本专利技术的实施例，该显示装置包括前面所述的阵列基板。由此，当有环境光或紫外光照该显示装的TFT时，该吸光材料就会将上述光线吸收，防止上述光线照射到TFT，影响TFT特性，进而提高TFT和阵列基板的稳定性，还可以防止光照射到阵列基板的金属走线后被反射的反射光线的产生以提高环境对比率与暗态光源(使用该阵列基板的面板点亮后的最暗画面)的比值)，进一步的提高使用该阵列基板的显示面板的品质，进而提高该显示装置的显示品位、使用性能，以及市场竞争力。附图说明图1显示了本专利技术一个实施例中阵列基板的结构示意图。图2显示了本专利技术另一个实施例中OLED阵列基板的结构示意图。图3显示了本专利技术又一个实施例中阵列基板的结构示意图。图4显示了本专利技术又一个实施例中LCD显示面板的结构示意图。图5显示了本专利技术又一个实施例中LCD显示面板的结构示意图。图6显示了本专利技术又一个实施例中OLED显示面板中阵列基板的结构示意图。具体实施例方式下面详细描述本专利技术的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。在本专利技术的一方面，本专利技术提供了一种阵列基板。根据本专利技术的实施例，参照图1，该阵列基板包括：衬底10，衬底10的上表面划分为像素区域A和非像素区域B；薄膜晶体管20，薄膜晶体管20设置在非像素区域B；绝缘层30，绝缘层30设置在薄膜晶体管20远离衬底10的一侧，且至少一部分由吸光材料形成。由此，当有环境光或紫外光照射TFT时，该吸光材料就会将上述光线吸收，防止上述光线照射到TFT，影响TFT特性，进而提高TFT和阵列基板的稳定性，还可以防止光照射到阵列基板的金属走线后被反射的反射光线的产生以提高环境对比率(环境对比率为亮态光源与暗态光源的比值)，进一步的提高使用该阵列基板的显示面板的品质。根据本专利技术的实施例，衬底的具体种类没有限制要求，本领域技术人员可以根据实际情况灵活选择。在本专利技术的实施例中，衬底的具体种类包括但不限于玻璃衬底、聚合物衬底或金属衬底。由此，选择性广，使用性能好。根据本专利技术的实施例，薄膜晶体管的具体种类也没有限制要求，可以为本领域中任何结构的薄膜晶体管，比如，顶栅结构的薄膜晶体管、底栅结构的薄膜晶体管、背沟道刻蚀型薄膜晶体管或刻蚀阻挡型薄膜晶体管等等，本领域技术人员可以根据实际需求灵活选择。由此，该阵列基板应用范围广泛。根据本专利技术的实施例，吸光材料的具体种类没有限制要求，只要可以将环境光或紫外光吸收，保护TFT不受上述光线的干扰即可。在本专利技术的实施例中，吸光材料为吸光度大于2的有机材料。由此，吸光材料的OD值(吸光度)较高，可以高效吸收环境光或紫外光吸收，保护TFT不受上述光线的干扰，提高TFT特性和稳定性。根据本专利技术的实施例，为了较好的吸收环境光或紫外光，绝缘层为平坦层和像素界定层中的至少之一。由此，可以较好的吸收环境光或紫外光，保护薄膜晶体管特性不受影响，进而提高其使用稳定性。根据本专利技术的实施例，平坦层和像素界定层是阵列基板中的常规设置结构，其设置的位置与现有技术中的相同，其中，平坦层设置于薄膜晶体管远离衬底的一侧，用于提供平坦的表面，利于后续步骤的操作，用于LCD显示面板和OLED显示面板的阵列基板中均设置有平坦层；像素界定层一般设置在平坦层远离衬底的一侧，用于限定出各个像素区域，通常只有用于OLED显示面板的阵列基板上需要设置像素界定层。所以，对于用于OLED显示面板的阵列基板，上述绝缘层可以仅为像素界定层，也可以仅为平坦层，也可以同时为像素界定层和平坦层；对于用于LCD显示面板的阵列基板，上述绝缘层仅仅是指非像素区域的平坦层。下面根据一些具体实施例，详细说明绝缘层的设置位置和要求：根据本专利技术的实施例，当该阵列基板用于OLED显示面板时：参照图2和图3，该阵列基板包括：衬底10，衬底10的上表面设置有薄膜晶体管20，设置在薄膜晶体管上表面的平坦层2，设置在平坦层2上表面、且与像素区域对应设置的OLED器件4、5和6(可用于发出相同或不同颜色的光)，以及设置在平坦层2上表面、且与非像素区域对应设置的像素界定层3。针对上述结构的阵列基板，绝缘层可以单独由平坦层构成、单独由像素界定层构成或由平坦层和像素界定层共同构成。具体的，当该阵列基板用于顶发射OLED显示面板时，由于光线由OLED器件发出后向上射出，并不会穿过平坦层和像素界定层，因此，平坦层和像素界定层中的至少之一可以仅部分由吸光材料形成，也可以全部由吸光材料形成；而当该阵列基板用于底发射OLED显示面板时，由于光线由OLED器件发出后向下射出，会经过与像素区对应设置的平坦层，为了保证正常的显示功能，与像素区对应设置的平坦层(即在基板上的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：/n衬底，所述衬底的上表面划分为像素区域和非像素区域；/n薄膜晶体管，所述薄膜晶体管设置在所述非像素区域；/n绝缘层，所述绝缘层设置在所述薄膜晶体管远离所述衬底的一侧，且至少一部分由吸光材料形成。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】一种阵列基板，其特征在于，包括：
衬底，所述衬底的上表面划分为像素区域和非像素区域；
薄膜晶体管，所述薄膜晶体管设置在所述非像素区域；
绝缘层，所述绝缘层设置在所述薄膜晶体管远离所述衬底的一侧，且至少一部分由吸光材料形成。


根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述绝缘层为平坦层和像素界定层中的至少之一。


根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述平坦层设置在所述非像素区域，且所述平坦层由所述吸光材料形成。


根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡武卫，林致远，陈国峰，
申请(专利权)人：深圳市柔宇科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44