电磁屏蔽膜制造技术

技术编号:24331318 阅读:137 留言:0更新日期:2020-05-29 19:42
本实用新型专利技术公开一种电磁屏蔽膜,其包括屏蔽层;所述屏蔽层内嵌有至少三层导电网格,每层导电网格均为随机网格且任意两层所述导电网格在平行于所述屏蔽层的投影面上不完全重叠;其中,所述屏蔽层中至少有三层所述导电网格为具有不同导电材料的导电网格。不同层具有不同的导电材料从而具有不同的屏蔽波段,从而加长了电磁屏蔽膜的屏蔽波段,更能满足市场需求。

【技术实现步骤摘要】
电磁屏蔽膜
本技术涉及电子技术,更具体地讲,本技术涉及一种电磁屏蔽膜。
技术介绍
近年来,伴随着信息化社会的快速发展,与信息相关联的电子设备急速发展,对航天航空设备、先进光学仪器、通讯设备、医疗诊断仪器等的电磁屏蔽要求越来越高。然而,现有的电磁屏蔽膜的屏蔽波段窄,随着电磁干扰技术的不断更新,容易被干扰信号击透而失去屏蔽效果。鉴于此,本技术通过改善电磁屏蔽膜以解决所存在的技术问题。
技术实现思路
基于此,有必要提供一种电磁屏蔽膜以解决上述的技术问题。本技术的一个技术方案是:一种电磁屏蔽膜,其包括:屏蔽层,所述屏蔽层内嵌有至少三层导电网格,每层导电网格均为随机网格且任意两层所述导电网格在平行于所述屏蔽层的投影面上不完全重叠;其中,所述屏蔽层中至少有三层所述导电网格为具有不同导电材料的导电网格。在其中一实施例中,每层所述导电网格的导电材料均不同。在其中一实施例中,所述屏蔽层包括多层导电层,每层所述导电层具有一层所述导电网格,所述导电层包括在聚合物上形成的网格状沟槽及填充于所述沟槽本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电磁屏蔽膜,其特征在于,其包括:/n屏蔽层,所述屏蔽层内嵌有至少三层导电网格,每层导电网格均为随机网格且任意两层所述导电网格在平行于所述屏蔽层的投影面上不完全重叠;/n其中,所述屏蔽层中至少有三层所述导电网格为具有不同导电材料的导电网格。/n

【技术特征摘要】
1.一种电磁屏蔽膜,其特征在于,其包括:
屏蔽层,所述屏蔽层内嵌有至少三层导电网格,每层导电网格均为随机网格且任意两层所述导电网格在平行于所述屏蔽层的投影面上不完全重叠;
其中,所述屏蔽层中至少有三层所述导电网格为具有不同导电材料的导电网格。


2.根据权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,每层所述导电网格的导电材料均不同。


3.根据权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述屏蔽层包括多层导电层,每层所述导电层具有一层所述导电网格,所述导电层包括在聚合物上形成的网格状沟槽及填充于所述沟槽内的导电材料以形成所述导电网格,相邻两层所述导电层的聚合物之间具有融合部分。


4.根据权利要求3所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述聚合物为UV胶,所述网格状沟...

【专利技术属性】
技术研发人员:张晟
申请(专利权)人:昇印光电昆山股份有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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