一种溅射镀膜机的辅助冷却系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种溅射镀膜机的辅助冷却系统，包括依次通过管道连接的储气罐、制冷装置、电磁阀、流量调节阀和溅射辅助室，溅射辅助室设置在溅射真空室内的基片运行轨道上，且至少位于第一溅射室的后方。还包括设置在溅射辅助室内的温度传感器，和与温度传感器、电磁阀和流量调节阀连接的控制器。辅助冷却系统包括两个以上的溅射辅助室，两个以上的溅射辅助室间隔设置在多个溅射室之间。本实用新型专利技术能实现对溅射镀膜过程中基片温度的降低，防止基片温度太高导致的氧化或变色现象的发生，提高溅射镀膜产品的外观。还通过多个溅射辅助室的设置，实现对需要多次溅射镀膜基片的多次冷却，能更好的控制溅射镀膜基片的温度，保证溅射镀膜基片的质量。

Auxiliary cooling system of sputtering coater

【技术实现步骤摘要】
一种溅射镀膜机的辅助冷却系统
本技术涉及溅射镀膜
，特别是涉及一种溅射镀膜机的辅助冷却系统。
技术介绍
溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击镀料表面，使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。在溅射镀膜过程中，根据实现镀膜需求，基片可能会通过多次溅射工序才能完成镀膜。在溅射镀膜机中经过两次或多次溅射工序后的基片工件的温度会比较高，如高于200度，很容易发生氧化，有的基片甚至因为温度过高而发生颜色改变，严重影响最终溅射镀膜产品的质量。由此可见，现有的溅射镀膜过程中仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。如何能创设一种新的溅射镀膜机的辅助冷却系统，使其能辅助基片降温，防止基片溅射过程中温度太高导致的氧化、变色现象的发生，提高溅射镀膜产品的质量，成为当前业界极需改进的目标。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种溅射镀膜机的辅助冷却系统，使其能辅助基片降温，防止基片溅射过程中温度太高导致的氧化、变色现象的发生，提高溅射镀膜产品的质量，从而克服现有的溅射镀膜机的不足。为解决上述技术问题，本技术提供一种溅射镀膜机的辅助冷却系统，包括依次通过管道连接的储气罐、制冷装置、电磁阀、流量调节阀和溅射辅助室，所述溅射辅助室设置在溅射真空室内的基片运行轨道上，且至少位于第一溅射室的后方。进一步改进，所述溅射辅助室采用横跨在基片运行轨道上的半封闭式箱体。进一步改进，所述溅射辅助室设置在第三溅射室或第四溅射室后的基片运行轨道上。进一步改进，所述储气罐用于储存氮气、二氧化碳、氩气或其它惰性气体。进一步改进，所述辅助冷却系统还包括设置在所述溅射辅助室内的温度传感器，和与所述温度传感器、电磁阀和流量调节阀连接的控制器。进一步改进，所述储气罐、制冷装置、电磁阀、流量调节阀和控制器均位于所述溅射真空室的外部。进一步改进，所述辅助冷却系统包括两个以上的溅射辅助室，两个以上的所述溅射辅助室间隔设置在多个溅射室之间。采用这样的设计后，本技术至少具有以下优点：1.本技术通过对现有溅射镀膜机进行改进，增设冷却辅助系统，实现对溅射镀膜过程中基片温度的降低，防止基片温度太高，导致的氧化或变色现象的发生，提高溅射镀膜产品的外观。2.通过在溅射辅助室中设置温度传感器，并设置与温度传感器、电磁阀和流量调节阀连接的控制器，能实现对辅助室内温度的实时监测，以及对通入冷却气体的量进行及时控制，实现自动化控制，减少人工干预，提高冷却效率。3.还通过多个溅射辅助室的设置，实现对需要多次溅射镀膜基片的多次冷却，能更好的控制溅射镀膜基片的温度，保证溅射镀膜基片的质量。附图说明上述仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，以下结合附图与具体实施方式对本技术作进一步的详细说明。图1是本技术溅射镀膜机的辅助冷却系统的结构示意图。具体实施方式参照附图1所示，本实施例溅射镀膜机的辅助冷却系统，包括依次通过管道连接的储气罐1、制冷装置2、电磁阀3、流量调节阀4和溅射辅助室5。该储气罐1、制冷装置2、电磁阀3和流量调节阀4均位于溅射真空室的外部。该溅射辅助室5设置在溅射真空室内的基片运行轨道上，且至少位于第一溅射室的后方，如位于第二溅射室、第三溅射室或第四溅射室的后方，目的是用于对从第二溅射室、第三溅射室或第四溅射室出来的基片进行快速降温，防止温度太高导致的基片氧化或变色，影响基片镀膜产品的外观。本实施例中储气罐1中用于储存氮气、二氧化碳、氩气或其它惰性气体，制冷装置2利用本领域现有制冷原理和现有制冷结构，实现对储气罐1输送气体的冷却，然后再通过电磁阀3和流量调节阀4的调节实现向溅射辅助室5内输送冷却气体，达到对通过该溅射辅助室5中基片温度的降低。电磁阀3和流量调节阀4均采用本领域现有装置，实现对冷却气体的通断和流量的控制。该溅射辅助室5采用横跨在基片运行轨道上的半封闭式箱体，能使从溅射室出来的基片通过，同时对其冷却降温。为了更好的控制溅射辅助室内的温度，该辅助冷却系统还包括设置在溅射辅助室5内的温度传感器6，以及与温度传感器6、电磁阀3和流量调节阀4连接的控制器7。该温度传感器6用于实时监测溅射辅助室5内部的温度，并将温度信息发送至控制器7。该控制器7通过接收温度传感器6的温度信号，根据预设的程序，控制该电磁阀3和流量调节阀4的开启与关闭，实现对通入溅射辅助室5冷气的控制。本技术溅射镀膜机的辅助冷却系统可以包括两个溅射辅助室，两个溅射辅助室间隔设置在多个溅射室之间。当然，还可以根据实际镀膜基片性质或溅射室的分布工况，设置多个溅射辅助室，以防止经过多次溅射后基片温度的升高，保证溅射镀膜过程中基片的温度合适，优化溅射镀膜产品的质量。本技术溅射镀膜机的辅助冷却系统通过对现有溅射镀膜机进行改造，实现对溅射镀膜过程中基片温度的降温控制，使基片在高温条件下储存时间变短，降低氧化或变色现象的发生，保持镀膜基片良好的镀膜外观。该系统可以实现自动控制，不需要过多的人工干预，便能达到很好的冷却效果，从而使镀膜产品的质量大大提高。以上所述，仅是本技术的较佳实施例而已，并非对本技术作任何形式上的限制，本领域技术人员利用上述揭示的
技术实现思路
做出些许简单修改、等同变化或修饰，均落在本技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种溅射镀膜机的辅助冷却系统，其特征在于，包括依次通过管道连接的储气罐、制冷装置、电磁阀、流量调节阀和溅射辅助室，所述溅射辅助室设置在溅射真空室内的基片运行轨道上，且至少位于第一溅射室的后方。/n

【技术特征摘要】
1.一种溅射镀膜机的辅助冷却系统，其特征在于，包括依次通过管道连接的储气罐、制冷装置、电磁阀、流量调节阀和溅射辅助室，所述溅射辅助室设置在溅射真空室内的基片运行轨道上，且至少位于第一溅射室的后方。


2.根据权利要求1所述的溅射镀膜机的辅助冷却系统，其特征在于，所述溅射辅助室采用横跨在基片运行轨道上的半封闭式箱体。


3.根据权利要求2所述的溅射镀膜机的辅助冷却系统，其特征在于，所述溅射辅助室设置在第三溅射室或第四溅射室后的基片运行轨道上。


4.根据权利要求1所述的溅射镀膜机的辅助冷却系统，其特征在于，所述储气罐用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐志强，姜钧，
申请(专利权)人：承德奥斯力特电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：河北;13