本实用新型专利技术提出了一种真空等离子清洗机的清洗腔,包括腔体,所述腔体内壁相对设置有两个电极卡合机构,所述电极卡合机构上卡合有至少一组定位第一电极和第二电极,所述电极卡合机构之间的腔体内壁设有至少四根铜排,所述铜排上排列设置有若干卡槽,使用双排的铜排,实测电离效果更稳定,效果更好,并且能够实现同层的电极之间可正负极变化;通过设置的第二电极,能够定位较大的产品,同时相比现有的弹夹式的结构,增加了空间,能够容纳多个产品。
Cleaning chamber of a vacuum plasma cleaning machine
【技术实现步骤摘要】
一种真空等离子清洗机的清洗腔
本技术涉及等离子清洗领域,尤其涉及真空等离子清洗机的清洗腔。
技术介绍
真空等离子清洗系统就是利用高压电源在一定的压力条件下对气体施加足够的能量,然后产生等离子体,等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。工艺部件的表面通过等离子束的物理轰击而被清洗,其表面也可以与特定气体发生化学反应从而使被清洗污染物转化为气相被排出。现有的等离子机的腔体内一般分为水平式或者弹夹式,水平式的是通过水平放置的多个电极,上下电极之间可放置放置架用于承载待清洗的物件,如电路板,但其缺陷是在清洗体积大的非板式产品时,无法放入,若要将中间的电极抽出空出空间,则造成无法电离或者电离效果差的问题,清洗效果变差;进而出现了弹夹式的腔体,就如专利公告号为:CN205529055U公开的一种真空等离子清洗机组合柜式电极是通过在腔体内设置格形电极,用于放置产品,其方格的电极是固定的,并且由于电极的固定方式较为繁琐,导致占用腔体的空间体积较大,导致一般只能放4个产品,并且清洗效果也一般;此外,现有技术中,弹夹式的腔体内电极的正负极是确定的,而实际上正极之间的清洗效果是更好的,所以导致现有的技术中无法控制正极的发生位置,清洗的针对性较差。
技术实现思路
为解决上述技术问题,本技术提出了一种真空等离子清洗机的清洗腔,包括腔体,所述腔体内壁相对设置有两个电极卡合机构,所述电极卡合机构上卡合有至少一组第一电极或第二电极,所述电极卡合机构之间的腔体内壁设有至少四根铜排,所述铜排上排列设置有若干插槽;所述电极卡合机构包括板体,所述板体上设有平行设置的滑槽,所述滑槽的宽度为4-8mm,所述滑槽间的间隔为8-12mm。优选的,所述滑槽的宽度为5mm,所述滑槽间的间隔为10mm。优选的,所述滑槽下部设有滚轮。优选的,所述第一电极包括第一电极本体,所述第一电极本体上设有若干通孔,且端部设有第一卡脚,所述第一卡脚卡于所述插槽内。优选的,所述第二电极包括第二电极本体,所述第二电极本体端部设有第二卡脚,所述第二卡脚卡于所述插槽内,所述第二电极本体上设有若干开槽,所述第一电极本体上固定有定位板,所述定位板上设有若干矩形槽,所述矩形槽位于所述开槽上部,且宽度大于所述开槽。优选的,所述铜排两端通过螺钉固定于所述腔体内壁,且表面设有若干通孔。本技术提出的真空等离子清洗机的清洗腔有以下有益效果:1、使用双排的铜排,实测电离效果更稳定,效果更好,并且能够实现同层的电极之间可正负极变化;2、通过设置的第二电极,能够定位较大的产品,同时相比现有的弹夹式的结构,增加了空间,能够容纳多个产品;3、弹夹式和水平结构可以通过更换和增加减少电极板数量,自由变形且保证处理效果;4、特别设定的滑槽之间的间距以及滑槽宽度,能够满足任何数量电极板的设置,仍保持其电离效果。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。图1为本技术的放置第一电极的结构示意图;图2为本技术的第二电极的示意图;图3为本技术的第一电极的示意图;图4为本技术的第二电极的实施例的示意图;其中,1、腔体;2、板体;3、第一电极;4、第二电极;5、铜排;6、插槽;7、滑槽;8、滚轮;9、第一电极本体;10、通孔;11、第一卡脚;12、第二电极本体;13、第二卡脚;14、开槽;15、定位板;16、矩形槽。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。如图2、图3、图4所示,本技术提出了一种真空等离子清洗机的清洗腔,本腔体1是作为真空等离子清洗机的腔体1,真空等离子清洗机的原理则不再复述,本清洗腔包括腔体1,所述腔体1内壁相对设置有两个电极卡合机构,所述电极卡合机构上卡合有至少一组第一电极3和第二电极4,所述电极卡合机构之间的腔体1内壁设有至少四根铜排5,所述铜排5上排列设置有若干插槽6,第一电极3或第二电极4的数量可根据情况增减,其中,第一电机是所述第一电极3包括第一电极3本体,所述第一电极3本体上设有若干通孔10,通孔10能够减少负载,增加电离效果,且端部设有第一卡脚11,所述第一卡脚11卡于所述插槽6内能够与铜排导通,当使用第一电极时,则实现了传统水平式的功能,实现多层设置。当使用第二电极4时,所述第二电极4包括第二电极本体12,所述第二电极本体12端部设有第二卡脚13,所述第二卡脚12卡于所述插槽6内,所述第二电极本体12上设有若干开槽14,所述第一电极3本体上固定有定位板15,所述定位板15上设有若干矩形槽16,所述矩形槽16位于所述开槽14上部,且宽度大于所述开槽14,当作为弹夹式的腔体1时,则只需要如图所示的状态,设置2-3层的第二电极,产品能够放置矩形槽16内,一次可以放6个,任意调整第二电极4之间的距离,其电离效果依然可行。所述电极卡合机构包括板体2,所述板体2上设有平行设置的滑槽7,所述滑槽7下部设有滚轮8,第一电极3板和第二电极4板通过滑动的方式进行插拔,所述滑槽的宽度为4-8mm,所述滑槽间的间隔为8-12mm,所述滑槽的宽度为5mm,所述滑槽间的间隔为10mm,能够通过上述的设置,在实际操作中,调整电极间的距离,以适应不同高度的产品放置后,其电离效果依然很好。其中要说明的是,所述电极卡合机构之间的腔体1内壁设有至少四根铜排5,所述铜排5上排列设置有若干插槽6,所述铜排5两端通过螺钉固定于所述腔体1内壁,且表面设有若干通孔10,通过四根铜排5的设置,平行竖直放置,调整两两铜排5接的正负极,实现同层正负极自由切换,能够根据需要调整不同层之间的正负极性,针对性的增加清洗效果。对实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本技术的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本技术将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种真空等离子清洗机的清洗腔,其特征在于,包括腔体,所述腔体内壁相对设置有两个电极卡合机构,所述电极卡合机构上卡合有至少一组第一电极或第二电极,所述电极卡合机构之间的腔体内壁设有至少四根铜排,所述铜排上排列设置有若干插槽;所述电极卡合机构包括板体,所述板体上设有平行设置的滑槽,所述滑槽的宽度为4-8mm,所述滑槽间的间隔为8-12mm。/n
【技术特征摘要】
1.一种真空等离子清洗机的清洗腔,其特征在于,包括腔体,所述腔体内壁相对设置有两个电极卡合机构,所述电极卡合机构上卡合有至少一组第一电极或第二电极,所述电极卡合机构之间的腔体内壁设有至少四根铜排,所述铜排上排列设置有若干插槽;所述电极卡合机构包括板体,所述板体上设有平行设置的滑槽,所述滑槽的宽度为4-8mm,所述滑槽间的间隔为8-12mm。
2.根据权利要求1所述的真空等离子清洗机的清洗腔,其特征在于,所述滑槽的宽度为5mm,所述滑槽间的间隔为10mm。
3.根据权利要求1所述的真空等离子清洗机的清洗腔,其特征在于,所述滑槽下部设有滚轮。
4.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:张斌,
申请(专利权)人:昆山国华电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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