等离子体清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及清洁装置领域，公开了等离子体清洁装置，包括用于握持的握持部，以及与握持部连接且用于产生低温等离子体的工作部，工作部包括第一电极、第二电极与介质层，第一电极与第二电极之间通过介质层进行分隔。本实用新型专利技术结构简单，体积小，操作便捷，可以手持使用，适合于实验室环境、家庭环境以及各类小体积产品的清洗。

Plasma cleaning device

【技术实现步骤摘要】
等离子体清洁装置
本技术涉及清洁装置领域，尤其是涉及等离子体清洁装置。
技术介绍
等离子体是物质的第四态，含有大量的活性成分和带电粒子等，具有很强的氧化活性，能够有效地分解有机物或者灭活微生物组织，因此常用于待处理对象(如电子元件、硅晶圆芯片)等表面氧化和有机物污染的清洗。然而现有技术中的清洁装置体积庞大，操作复杂，不适合于实验室环境、家庭环境以及各类小体积产品的清洗。
技术实现思路
本技术的目的在于至少解决现有技术中存在的技术问题之一，本技术提供了等离子体清洁装置，能够手持使用，适合于实验室环境、家庭环境以及各类小体积产品的清洗。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：提供等离子体清洁装置，包括用于握持的握持部，以及与握持部连接且用于产生低温等离子体的工作部，工作部包括第一电极、第二电极与介质层，第一电极与第二电极之间通过介质层进行分隔。作为上述方案的进一步改进方式，工作部还包括设置在低温等离子体的逸出位置的工作面，工作面上设有凸出部，凸出部用于与待清洁表面抵持，以使工作面与待清洁表面之间形成间隙。作为上述方案的进一步改进方式，工作面设于介质层上背离握持部的一侧，工作面上连接有第二电极。作为上述方案的进一步改进方式，还包括防护层，防护层连接在工作面上且覆盖第二电极，防护层上设有供低温等离子体逸出的通孔。作为上述方案的进一步改进方式，防护层上设有粘接层，防护层通过粘接层可拆卸地连接在工作面上。作为上述方案的进一步改进方式，工作部还包括壳体，壳体上设有供低温等离子体逸出的开口，第二电极设于开口处，工作面设于壳体上且环绕开口。作为上述方案的进一步改进方式，凸出部为转动连接在工作部上的滚轮或者滚珠。作为上述方案的进一步改进方式，凸出部为固定连接在工作部上的凸块，凸块的顶端具有外凸的弧面。作为上述方案的进一步改进方式，握持部向工作部的一侧延伸，且握持部的两端平齐。作为上述方案的进一步改进方式，还包括安装部，安装部的两端分别与握持部、工作部连接，握持部的外侧与安装部的外侧均设有向外凸出的弧面，握持部上的弧面与安装部上的弧面平滑连接。本技术中的一个技术方案的有益效果是：本技术结构简单，体积小，操作便捷，可以手持使用，适合于实验室环境、家庭环境以及各类小体积产品的清洗。附图说明下面结合附图和实施例对本技术进一步说明。图1是本技术第一个实施例第一方向的立体示意图；图2是本技术第一个实施例第二方向的立体示意图；图3是本技术第一实施例局部区域的剖面示意图。具体实施方式本部分将详细描述本技术的具体实施例，本技术的较佳实施例在附图中示出，附图的作用在于用图形补充说明书文字部分的描述，从而能够直观地、形象地理解本技术的每个技术特征和整体技术方案，但其不能理解为对本技术保护范围的限制。在本技术的描述中，如果涉及到方位描述，例如“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。当某一特征被称为“设置”、“固定”、“连接”在另一个特征，它可以直接设置、固定、连接在另一个特征上，也可以间接地设置、固定、连接在另一个特征上。在本技术的描述中，如果涉及到“若干”，其含义是一个或者多个，如果涉及到“多个”，其含义是两个以上，如果涉及到“大于”、“小于”、“超过”，均应理解为不包括本数，如果涉及到“以上”、“以下”、“以内”，均应理解为包括本数。如果涉及到“第一”、“第二”，应当理解为用于区分技术特征，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。此外，除非另有定义，本技术所使用的技术术语和科学术语均与所属
的技术人员通常理解的含义相同。本技术所使用的术语只是为了描述具体的实施例，而不是为了限制本技术。参照图1、图2，图1、图2分别示出了本技术第一个实施例不同方向上的立体示意图。如图所示，本实施例包括握持部1、安装部2与工作部3，握持部1用于供用户握持，便于用户操作清洁装置，安装部2内部具有空腔，用于存放清洁装置的电源等元器件(图中未示出)，工作部3用于产生低温等离子体。本实施例中的握持部1与安装部2为一体结构，安装部2位于工作部3的顶部，握持部1位于安装部2的顶部且向工作部3的一侧延伸，直至握持部1的首端(远离安装部2的一端)与尾端(靠近安装部2的一端)平齐。当用户水平握持该握持部1时，工作部3上的等离子体逸出位置能够大致朝向地面，从而贴合人体的使用习惯，适用于实验室、家庭等需要手持的使用环境。本实施例中，所称的“平齐”既包括首端与尾端等高，也包括首端略低于或者略高于尾端，只需满足用户能够水平握持握持部1即可。此外，握持部1的延伸方向既可以是工作部3长度方向，也可以工作部3的宽度方向。本实施例中，握持部1为开口向下的“C”型弯曲结构，且握持部1的外侧设有向外凸出的弧面11，安装部2的外侧设有向外凸出的弧面21，弧面11与弧面21平滑连接，上述结构一方面可以提升用户的握持手感，另一方面使得清洁装置整体更为美观。参照图3，示出了本专利技术第一实施例的剖面示意图。如图所示，工作部3包括第一电极31、第二电极32与介质层33，第一电极31作为高压电极，第二电极32作为地级，介质层33位于第一电极31与第二电极32之间进行分隔，形成介质阻挡放电装置。第一电极31、第二电极32均接入至清洁装置的电源电路中，当电路处于通电状态时，第二电极32上将产生低温等离子体。本实施例中可以采用空气作为生成等离子体的气源，无需额外的气源设备，有助于减小清洁装置的气体，提高便携性能。本实施例中，工作部3与安装部2为分体式结构，介质层33为板状结构，其下表面(背离安装部2一侧的表面)为工作面331，第二电极32固定在该工作面331上，产生的低温等离子体可以直接逸出以作用于待清洁物体。本实施例中还包括防护层4，防护层4安装工作面331上并覆盖整个第二电极32，从而为第二电极32提供保护。为了避免防护层4对等离子体的逸出造成阻碍，参照图2，防护层4上还设有若干的通孔41。防护层4上设有未示出的粘接层，防护层4通过该粘接层粘接在工作面331上，便于防护层4的清洁与更换。本实施例中，第一电极31内置于介质层33内，防止发生漏电或爬电现象。第二电极32固定在介质层33的工作面331上，便于等离子体的逸出。参照图2与图3，本实施例中，工作面331的相对两侧各设有一个凹槽(未示出)，凹槽内设有与介质层33转动连接的滚轮5，滚轮5的底端从凹槽中伸出，从而形成凸出于工作面331的凸出部。滚轮5用于与待清洁本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.等离子体清洁装置，其特征在于，包括用于握持的握持部，以及与所述握持部连接且用于产生低温等离子体的工作部，所述工作部包括第一电极、第二电极与介质层，所述第一电极与所述第二电极之间通过所述介质层进行分隔。/n

【技术特征摘要】
1.等离子体清洁装置，其特征在于，包括用于握持的握持部，以及与所述握持部连接且用于产生低温等离子体的工作部，所述工作部包括第一电极、第二电极与介质层，所述第一电极与所述第二电极之间通过所述介质层进行分隔。


2.根据权利要求1所述的等离子体清洁装置，其特征在于，所述工作部还包括设置在所述低温等离子体的逸出位置的工作面，所述工作面上设有凸出部，所述凸出部用于与待清洁表面抵持，以使所述工作面与所述待清洁表面之间形成间隙。


3.根据权利要求2所述的等离子体清洁装置，其特征在于，所述工作面设于所述介质层上背离所述握持部的一侧，所述工作面上连接有所述第二电极。


4.根据权利要求3所述的等离子体清洁装置，其特征在于，还包括防护层，所述防护层连接在所述工作面上且覆盖所述第二电极，所述防护层上设有供所述低温等离子体逸出的通孔。


5.根据权利要求4所述的等离子体清洁装置，其特征在于，所述防护层上设有粘接层，所述防护层通过所述粘接层可拆卸地连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄逸凡，江敏，高明，王永刚，易志健，
申请(专利权)人：中国科学院深圳先进技术研究院，
类型：新型
国别省市：广东;44