【技术实现步骤摘要】
一种低透过率滤光片及包含该滤光片的光学指纹识别模组
本技术属于指纹识别领域，尤其涉及一种低透过率滤光片及包含该滤光片的光学指纹识别模组。
技术介绍
随着科技发展，指纹解锁已经变得十分广泛了，指纹解锁可以说是手机出厂的必备，指纹解锁灵敏度是每一个厂商都需要考虑的一个至关重要的问题。目前市场上通用的屏下光学指纹识别模组的结构示意图如图1所示，由微型镜头（MicrolenN）、滤光片、光电二极管（Photodiode）、硅基板（Nilicon）构成了核心的指纹识别芯片。此处的滤光片为红外截止滤光片。当指纹按到屏幕上，屏幕发光，光穿透盖板到达指纹的纹理上；由于指纹表面有不同纹路导致反射光不同，包含信息的反射光经过MicrolenN聚光，通过滤光片除去红外光，然后进入Photodiode的反射光信号转化成电信号传递到电路板，最终传到影响处理器（INP）。由MicrolenN、滤光片等构成的光学系统，在提高信号的信噪比上发挥着举足轻重的作用。现有的采用电介质多层膜的红外截止滤光片，其光谱特性对入射角的依赖性高：入射角为0...
【技术保护点】
1.一种低透过率滤光片，包括一基板，其特征在于，在基板上依次排布有包括高折射率膜和低折射率膜交替搭配的第一膜堆、金属膜与介电质膜交替搭配的第二膜堆、高折射率膜和低折射率膜交替搭配的第三膜堆；每一膜堆的最外层为二氧化硅膜；所述滤光片的每一层膜厚度为5-300nm。/n
【技术特征摘要】
1.一种低透过率滤光片，包括一基板，其特征在于，在基板上依次排布有包括高折射率膜和低折射率膜交替搭配的第一膜堆、金属膜与介电质膜交替搭配的第二膜堆、高折射率膜和低折射率膜交替搭配的第三膜堆；每一膜堆的最外层为二氧化硅膜；所述滤光片的每一层膜厚度为5-300nm。
2.根据权利要求1所述的低透过率滤光片，其特征在于，所述滤光片的膜系结构为Sub│(H1L1H2L2…HxLxS)(M1N1M2N2…MyNyS)(H1L1H2L2…HzLzS)│Air，其中，Sub为基板，Air为空气，H代表高折射率膜，L代表低折射率膜，M代表金属膜，N代表介电质膜，S代表二氧化硅膜，x、y、z为正整数，10≤x≤40，2≤y≤10，10≤z≤40。
3.根据权利要求1所述的低透过率滤光片，其特征在于，所述滤光片的膜系结构为Sub│(L1H1L2H2…LxHxS)(M1N1M2N2…MyNyS)(L1H1L2H2…LzHzS)│Air，其中，Sub为基板，Air为空气，H代表高折射率膜，L代表低折射率膜，M代表金属膜，N代表介电质膜，S代表二氧化硅膜，x、y、z为正整数，10≤x...
【专利技术属性】
技术研发人员：翁钦盛，葛文志，王懿伟，王刚，江骏楠，
申请(专利权)人：杭州美迪凯光电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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