限制任意激光模板投影的激光曝光的系统和方法技术方案

技术编号:24292263 阅读:47 留言:0更新日期:2020-05-26 20:43
本申请涉及限制任意激光模板投影的激光曝光的系统和方法。用于将提供最佳激光能量的激光图像投影到工作表面上的激光投影系统包括激光源和用于调制输出功率水平的电子电路。检流计组件包括扫描镜,该扫描镜由镜控制电路操作,以沿着扫描路径将激光束重定向到工作表面上以生成激光图像。检流计组件电连接到电子电路,用于向电子电路发信号通知扫描镜的角速度。控制器包括扫描路径输入模块,用于生成沿着扫描路径的扫描镜的角速度的模拟,以估计沿着激光束的扫描路径的区域的激光能量的集中度。电子电路响应于估计的激光能量集中度和扫描镜的角速度来调制激光束的能量集中度。

The system and method of laser exposure limiting any laser template projection

【技术实现步骤摘要】
限制任意激光模板投影的激光曝光的系统和方法在先申请本申请要求于2018年11月19日提交的美国临时专利申请No.62/769,303的优先权,该美国临时专利申请的内容通过引用包括在本文中。
本专利技术一般而言涉及使用激光投影仪来投影光学模板的系统和方法。更具体地,本专利技术涉及独立于用于指导组装任务的激光扫描模板的任意性质的低于预定阈值的激光扫描能量。
技术介绍
对于许多手动组装任务(诸如放置一系列预切割的碳纤维片材来组装机身组件),光学模板被投影以指导每个部分的精确放置。通常,为了提供精确放置所需的精度和准确度,通过扫描激光束来显示图案或模板,该激光束穿过一对旋转的检流计镜,以跟踪零件表面上所期望的3D图案轮廓。如果以足够的速度跟踪,路径将显示为稳定、无闪烁的图像,以指导放置任务。然而,激光的使用对操作者构成潜在的危险,因为无意地直接看光束可能在操作者眼睛的视网膜上聚焦到非常小的光点,从而可能造成永久性损害。为了帮助确保操作员安全,激光设备按照特定等级进行评级,该等级表征与特定设备相关联的危害。这些危害分类基于“最大容本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种激光投影系统,用于将提供优化的激光能量的激光图像投影到工作表面上,所述激光投影系统包括:/n激光源,所述激光源生成用于将激光图像投影到工作表面上的激光束;/n电子电路,用于调制所述激光源的输出功率水平;/n包括扫描镜的检流计组件,所述扫描镜能够由镜控制电路操作以将激光束沿着扫描路径重定向到工作表面上,从而生成激光图像,所述检流计组件电连接到所述电子电路,以用于向所述电子电路发信号通知所述扫描镜的角速度;/n控制器,包括扫描路径输入模块,用于生成在生成激光模板时沿所述扫描路径的所述扫描镜的角速度的模拟,从而估计沿激光束的扫描路径的区域的激光能量的集中度;以及/n所述电子电路响应于沿扫描路...

【技术特征摘要】
20181119 US 62/769,3031.一种激光投影系统,用于将提供优化的激光能量的激光图像投影到工作表面上,所述激光投影系统包括:
激光源,所述激光源生成用于将激光图像投影到工作表面上的激光束;
电子电路,用于调制所述激光源的输出功率水平;
包括扫描镜的检流计组件,所述扫描镜能够由镜控制电路操作以将激光束沿着扫描路径重定向到工作表面上,从而生成激光图像,所述检流计组件电连接到所述电子电路,以用于向所述电子电路发信号通知所述扫描镜的角速度;
控制器,包括扫描路径输入模块,用于生成在生成激光模板时沿所述扫描路径的所述扫描镜的角速度的模拟,从而估计沿激光束的扫描路径的区域的激光能量的集中度;以及
所述电子电路响应于沿扫描路径的估计的激光能量的集中度和所述扫描镜的角速度来调制沿扫描路径的区域的激光束的能量集中度,从而将激光能量的集中度保持在预定阈值以下。


2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述检流计组件包括能够由第二镜控制电路操作的第二扫描镜,所述第一镜控制电路能够与所述第二镜控制电路合作以将激光束沿着扫描路径重定向到工作表面上。


3.根据权利要求1所述的系统,包括激光传感器,所述激光传感器用于感测激光能量集中度并且与控制电路电连接,所述控制电路用于当沿着扫描路径的区域的激光束的能量集中度超过预定限制时终止激光束的投影。


4.根据权利要求1所述的系统,其中,所述控制器包括主动监视器,所述主动监视器电连接至所述扫描路径输入模块,所述主动监视器从所述扫描路径输入模块接收功率限制指令,以针对沿着扫描路径的区域的激光能量集中度来限制沿着扫描路径的区域的激光能量,从而将激光能量集中度保持在预定极限。


5.根据权利要求2所述的系统,其中,所述第一镜控制电路和所述第二镜控制电路电连接至功率控制电路,向所述功率控制电路发信号通知所述激光束在扫描路径上的位置,并且所述功率控制电路基于激光束在扫描路径上的位置来控制所述激光投影仪的功率。


6.根据权利要求1所述的系统,其中,所述激光投影仪适于投影任意激光模板,并且所述扫描路径输入模块和所述电子电路响应于估计的激光束的集中度来调制沿扫描路径的区域的激光束的能量集中度。


7.根据权利要求1所述的系统,其中,所述控制器包括主动监视器,所述主动监视器包括功率监视器,所述功率监视器用于基于对沿所述扫描路径的区域的激光束的平均能量曝光量的模拟来将激光器功率调制在预定水平以下。


8.根据权利要求3所述的系统,其中,所述传感器电连接到所述主动监视器,并且所述主动监视器被编程为将实际激光能量集中度与所述模拟激光能量集中度进行比较,以在实际激光能量集中度超过模拟的激光能量集中度时,调制输出功率水平。


9.根据权利要求3所述的系统,其中,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:K·D·鲁博
申请(专利权)人:维蒂克影像国际无限责任公司
类型:发明
国别省市:加拿大;CA

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