【技术实现步骤摘要】
一种显影装置
本技术涉及站岗装置
,具体来说,涉及一种显影装置。
技术介绍
在晶圆上制作集成电路的过程中,显影是光刻工艺中将曝光后的光刻胶图案化去除的步骤,其动作顺序为喷淋显影液、去离子水冲洗以及甩干三个过程。由于显影液的反应过程是酸碱中和反应,因此当在晶圆上用去离子水清洗时,晶圆中心点的强碱性骤降,酸碱中和反应发生逆反应,从而导致不溶物质析出回粘到晶圆上的问题产生。特别是在晶圆上连接孔的制程工艺中,当不溶物质析出后使连接孔被残留物遮挡住,会导致晶圆后续蚀刻制程失效,蚀刻后的连接孔图形丢失或不完整,使得晶圆产品的良率降低。针对相关技术中的问题,目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
针对相关技术中的上述技术问题,本技术提出一种显影装置,喷出的去离子水中具有声波能量,能够更有效的清洁晶圆表面杂质。为实现上述技术目的,本技术的技术方案是这样实现的:一种显影装置,包括显影管路和冲洗管路,所述显影管路和冲洗管路均连接喷洒管道,所述喷洒管道的两端封堵并且其至少一端设置有超声波装置,所述 ...
【技术保护点】
1.一种显影装置,其特征在于,包括显影管路(1)和冲洗管路(2),所述显影管路(1)和冲洗管路(2)均连接喷洒管道(3),所述喷洒管道(3)的两端封堵并且其至少一端设置有超声波装置(4),所述超声波装置(4)包括超声波振动子,所述喷洒管道(3)包括内壁(5)和外壁(6),所述内壁(5)和所述外壁(6)之间设置有电热丝(7),所述喷洒管道(3)上设置有朝下的电控喷头(8),所述电控喷头(8)的下方设置有承片台(9),所述喷洒管道(3)上还设置有与所述电控喷头(8)相对应的温度传感器(10),所述超声波装置(4)、所述电热丝(7)、所述电控喷头(8)、所述温度传感器(10)均连 ...
【技术特征摘要】
20181218 CN 20182212417451.一种显影装置,其特征在于,包括显影管路(1)和冲洗管路(2),所述显影管路(1)和冲洗管路(2)均连接喷洒管道(3),所述喷洒管道(3)的两端封堵并且其至少一端设置有超声波装置(4),所述超声波装置(4)包括超声波振动子,所述喷洒管道(3)包括内壁(5)和外壁(6),所述内壁(5)和所述外壁(6)之间设置有电热丝(7),所述喷洒管道(3)上设置有朝下的电控喷头(8),所述电控喷头(8)的下方设置有承片台(9),所述喷洒管道(3)上还设置有与所述电控喷头(8)相对应的温度传感器(10),...
【专利技术属性】
技术研发人员:王子民,苏川辉,方楷,
申请(专利权)人:江西齐拓芯片科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江西;36
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