一种新型匣钵制造技术

技术编号:24266037 阅读:31 留言:0更新日期:2020-05-23 12:50
一种改善锂离子电池正极粉体材料在高温反应过程中沾钵现象的新型匣钵,匣钵包括钵底、钵壁两部分,钵底设有多个凹槽,凹槽平均分布于钵底各处,凹槽中心线平行于钵壁呈矩阵式分布,凹槽为圆锥形,凹槽深度小于钵底厚度的二分之一。本实用新型专利技术在钵底设有多个矩阵式分布的圆锥形凹槽,粉末物料会在圆锥形凹槽上方形成架桥,造成凹槽内存有空气,减小了物料与钵底的实际接触面积,可以有效避免烧结后的物料沾钵现象,且该实用新型专利技术受匣钵材质,物料性质影响小,可以有效节约人工、物料、匣钵这三方面成本。

A new saggar

【技术实现步骤摘要】
一种新型匣钵
本技术涉及匣钵领域,具体涉及一种新型匣钵。
技术介绍
在锂离子电池正极材料制备过程中,需要对前驱体和锂盐进行干法烧结,粉末状的混合物料盛装于匣钵中通过窑炉进行二次高温焙烧,烧结成型的正极材料为块状或粉状。在高温烧结过程中,物料容易与匣钵底部发生粘连造成物料倒不干净,需要人工再去清理,清理后的物料由于含杂质较多,只能作为副产品使用,既造成了人工的浪费又造成了物料的浪费,与此同时,沾钵现象还影响匣钵使用寿命,增加了匣钵的使用成本。
技术实现思路
本技术需要解决的技术问题是:提供一种设计简单、生产简便,可以有效预防沾钵现象的新型匣钵。为解决上述技术问题,本技术采用的技术方案是:一种改善锂离子电池正极粉体材料在高温反应过程中发生沾钵现象的新型匣钵,匣钵包括钵壁、钵底,所述钵底设有多个凹槽,所述凹槽平均分布于钵底各处,所述凹槽中心线平行于钵壁呈矩阵式分布,所述凹槽为圆锥形,深度小于钵底厚度的二分之一。本技术的有益效果:新型匣钵的钵底设有多个矩阵式分布的圆锥形凹槽,粉末物料会在圆锥形凹槽上方形成架桥,造成凹槽内存有空气,减小了物料与钵底的实际接触面积,这样可以有效避免烧结后的物料沾钵现象。该匣钵结构受匣钵材质,物料性质影响小,可以有效节约人工、物料、匣钵三方面成本,节约资源。附图说明图1为本技术的结构示意图;图2为本技术的正视图;图3为本技术的局部放大图。图中:1-钵壁;2-凹槽;3-钵底。具体实施方式<br>如图1-3所示,一种新型匣钵,包括钵壁1、钵底3,钵底3上设有多个凹槽2,凹槽2平均分布于钵底3各处,凹槽2中心线平行于钵壁1并呈矩阵式分布,凹槽2为圆锥形,深度小于钵底3厚度的二分之一。粉体材料在锥角较大的情况下,容易产生架桥现象,即由于粉末颗粒之间的内摩擦力大于重力,粉末颗粒会在锥斗上方空间形成稳定的拱形物料桥。本技术利用了这一原理,在钵底设有多个矩阵式分布的圆锥形凹槽,粉末物料会在圆锥形凹槽上方形成架桥,造成凹槽内存有空气,减小了物料与钵底的实际接触面积,这样可以有效避免烧结后的物料沾钵现象,该技术改进受匣钵材质,物料性质影响小,可以有效节约人工、物料、匣钵三方面成本,节约资源。以上对本技术的实施例进行了详细说明,但内容仅为本技术的较佳实施例,不能被认为用于限定本技术的实施范围。凡依本技术申请范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本技术的专利涵盖范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型匣钵,其特征在于:包括钵壁(1)、钵底(3),所述钵底(3)上设置有多个凹槽(2),所述凹槽(2)平均分布于钵底(3)各处,凹槽(2)中心线平行于钵壁(1)并呈矩阵式分布,所述凹槽(2)为圆锥形,深度小于钵底(3)厚度的二分之一。/n

【技术特征摘要】
1.一种新型匣钵,其特征在于:包括钵壁(1)、钵底(3),所述钵底(3)上设置有多个凹槽(2),所述凹槽(2)平均分布于...

【专利技术属性】
技术研发人员:吕超徐宁吴孟涛
申请(专利权)人:天津巴莫科技有限责任公司
类型:新型
国别省市:天津;12

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