【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】准分子激光装置和电子器件的制造方法
本公开涉及准分子激光装置和电子器件的制造方法。
技术介绍
近年来，在半导体曝光装置(以下称为“曝光装置”)中，随着半导体集成电路的微细化和高集成化，要求分辨率的提高。因此，从曝光用光源放出的光的短波长化得以发展。一般而言，在曝光用光源中代替现有的汞灯而使用气体激光装置。例如，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长为248nm的紫外线的激光的KrF准分子激光装置、以及输出波长为193nm的紫外线的激光的ArF准分子激光装置。作为新时代的曝光技术，曝光装置侧的曝光用透镜与晶片之间被液体充满的液浸曝光已经实用化。在该液浸曝光中，曝光用透镜与晶片之间的折射率变化，因此，曝光用光源的外观的波长变短。在将ArF准分子激光装置作为曝光用光源进行液浸曝光的情况下，对晶片照射水中的波长为134nm的紫外光。将该技术称为ArF液浸曝光(或ArF液浸光刻)。KrF准分子激光装置和ArF准分子激光装置的自然振荡幅度较宽，大约为350～400pm。因此，当利用如下材料构成投影透镜时，有时产生色像差，...
【技术保护点】
1.一种准分子激光装置，其具有：/n腔，其在内部包含激光气体和一对电极，所述激光气体的气压根据对所述一对电极之间施加的电压被进行控制，由此生成进行脉冲振荡的激光；/n电源，其对所述一对电极之间施加电压；以及/n控制器，其输入所述激光的谱线宽度的目标值，在所述目标值从第1目标值变化为第2目标值的情况下，根据将所述第2目标值作为参数的第1函数对所述气压的控制中使用的电压进行校正，根据校正后的所述电压对所述气压进行控制。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种准分子激光装置，其具有：
腔，其在内部包含激光气体和一对电极，所述激光气体的气压根据对所述一对电极之间施加的电压被进行控制，由此生成进行脉冲振荡的激光；
电源，其对所述一对电极之间施加电压；以及
控制器，其输入所述激光的谱线宽度的目标值，在所述目标值从第1目标值变化为第2目标值的情况下，根据将所述第2目标值作为参数的第1函数对所述气压的控制中使用的电压进行校正，根据校正后的所述电压对所述气压进行控制。
2.根据权利要求1所述的准分子激光装置，其中，
所述准分子激光装置还具有能量计测器，该能量计测器检测所生成的所述激光的能量，
所述控制器根据所述能量计测器的检测值控制对所述一对电极之间施加的电压。
3.根据权利要求2所述的准分子激光装置，其中，
所述准分子激光装置还具有气体排气装置，该气体排气装置进行所述腔内的所述激光气体的排气，
所述控制器在校正后的所述电压小于第1阈值的情况下，驱动所述气体排气装置，从所述腔内排出所述激光气体。
4.根据权利要求3所述的准分子激光装置，其中，
所述准分子激光装置还具有气体供给装置，该气体供给装置向所述腔内供给激光气体，
所述控制器在校正后的所述电压大于第2阈值的情况下，驱动所述气体供给装置，向所述腔内供给所述激光气体。
5.根据权利要求1所述的准分子激光装置，其中，
所述第1函数包含线性函数、多项式函数和指数函数中的任意函数。
6.根据权利要求1所述的准分子激光装置，其中，
所述准分子激光装置还具有：
激光谐振器，其以中间隔着所述腔的方式被配置于所述激光的光路上；以及
波面调节器，其包含载置有光学部件的载置台和对所述载置台的位置进行调节的致动器，所述光学部件对在所述激光谐振器内往复的所述激光的波面进行调节，
所述控制器在所述目标值从所述第1目标值变化为所述第2目标值的情况下，根据将所述第2目标值转换为所述载置台的位置的第2函数求出所述载置台的位置，对所述致动器进行控制，以使所述载置台的位置成为求出的所述位置。
7.根据权利要求6所述的准分子激光装置，其中，
所述第2函数包含线性函数、多项式函数、幂函数和指数函数中的任意函数。
8.根据权利要求1所述的准分子激光装置，其中，
所述准分子激光装置还具有谱波形计测器，该谱波形计测器计测...
【专利技术属性】
技术研发人员：石田启介，小室哲，古里博志，
申请(专利权)人：极光先进雷射株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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