闭环反应制造技术

本发明专利技术涉及一种在合成例如可用作有机半导体材料的稠合芳族或杂芳族环系中有用的闭环反应。

Closed loop reaction

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】闭环反应
本专利技术涉及一种适用于合成可以例如用作有机半导体材料的稠合芳族或杂芳族环系的闭环反应。背景有机电子和光电子应用，例如有机场效应晶体管(OTFT)，有机发光二极管(OLED)，有机光探测器(OPD)或有机光伏电池(OPV)，需要半导体有机化合物，其包含芳族或杂芳族环系，优选稠合(例如多环)的芳族或杂芳族环系。这样的结构的一个示例性类别包含共轭亚芳基和杂亚芳基环，其通过sp3-碳原子互锁或桥连。这样的结构的一个具体实例是1,5-二氢-s-引达省[3,2b；7,6b]二噻吩(IDT)，其是卓越的构建基块，导致具有高电子性能的出色半导体有机材料(X.Zhang等,Nat.Commun.,2013,4,2238)。然而，这种稠合芳族或杂芳族环系的合成可能是更具挑战的。它通常需要多步反应，其中的多个步骤可能必须在苛刻的反应条件下进行和/或可能使用有毒的反应物，并且最重要的，经常导致低的总收率(W.Zhang等,J.Am.Chem.Soc.,2010,132,11437-11439)。尽管在研究阶段通常可以足量合成这种环系，例如以1g至10g本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.使包含两个相邻部分Ar

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170712 EP 17180869.41.使包含两个相邻部分Ar1和Ar2的反应物在强酸的存在下反应以得到产物的方法，其中
(i)Ar1和Ar2通过碳-碳单键连接；
(ii)Ar1和Ar2每次出现独立地选自芳烃，被Rs取代的芳烃，杂芳烃和被Rs取代的杂芳烃，Rs是卤素或碳基；和
(iii)Ar1和Ar2之一在所述碳-碳单键的邻位具有式-CH2-OH的基团，
在产物中，Ar1和Ar2稠合到五或六元环上，其包含所述碳-碳单键和所形成的CH2-桥。


2.根据权利要求1的方法，其中所述强酸是三氟甲磺酸、多磷酸、氟硫酸、SbF5、BF3、或包含上述酸中的一种或多种的混合物，或包含中性溶剂例如二氯甲烷、氯仿、和上述酸的混合物。


3.根据权利要求1的方法，其中所述反应物包含一种或多种式(I)的结构单元





4.根据权利要求1或权利要求2的方法，其中所述反应物选自下式(I-A)、(I-B)和(I-C)






Ar3每次出现独立地如对于Ar1和Ar2的定义，a是选自1,2,3,4和5的整数，且其中相邻的-CH2-OH基团可以彼此呈顺式或反式。


5.根据上述权利要求的任一项或多项的方法，其中所述反应物包含一种或多种独立地选自下式(I-A’)、(I-B’)、(I-C’)、(I-D’)、(I-E’)和(I-F’)的结构单元






Ar3如对于Ar1和Ar2的定义。


6.根据上述权利要求的任一项或多项的...

【专利技术属性】
技术研发人员：王常胜，W·密特彻，
申请(专利权)人：弗莱克因艾伯勒有限公司，
类型：发明
国别省市：英国;GB