一种显示基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本申请实施例公开了一种显示基板及其制备方法、显示装置，该显示基板包括：基底、设置在所述基底上的驱动结构层，设置在所述驱动结构层上的发光结构层，所述发光结构层包括第一发光结构和第二发光结构，从靠近所述驱动结构层向远离所述驱动结构层的方向上，所述第一发光结构包括层叠的第一透明阳极、第一发光层、第一阴极，所述第二发光结构包括层叠的第二反射阳极、第二发光层和第二阴极。本实施例提供的显示基板，通过在基底的同侧设置不同出光方向的发光结构，实现双面显示，且厚度与单面显示厚度差别不大，小于将两个单面显示的显示面板贴合得到的双面显示面板。

A display substrate and its preparation method and display device

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板及其制备方法、显示装置
本申请实施例涉及显示技术，尤指一种显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)具有自发光、驱动电压低、发光效率高等优点，是近年来发展迅猛的显示照光技术，且由于其具有高响应、高对比度、可柔性化等优点，被视为有广泛的应用前景。双面OLED显示器除了具备普通OLED显示器的各种特性外，还可以延伸画面空间，快速切换与处理多个显示画面，不仅节约了显示器的制作成本，更可以节省装置的空间。目前，双面显示的显示面板是将两个单面显示的显示面板贴合在一起。此种方法得到的显示面板的厚度较大，不利于显示面板的轻薄化发展。
技术实现思路
本申请实施例提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置，实现双面显示，降低双面显示面板厚度。一方面，本申请实施例提供了一种显示基板，包括：基底、设置在所述基底上的驱动结构层，设置在所述驱动结构层上的发光结构层，所述发光结构层包括第一发光结构和第二发光结构，从靠近所述驱动结构层向远离所述驱动结构层的方向上，所述第一发光结构包括层叠的第一透明阳极、第一发光层、第一阴极，所述第二发光结构包括层叠的第二反射阳极、第二发光层和第二阴极。在一示例性实施例中，所述第二阴极的厚度小于所述第一阴极的厚度。在一示例性实施例中，所述第二发光结构还包括设置在所述第二反射阳极靠近驱动结构层一侧的第二透明阳极，且所述第一透明阳极和所述第二透明阳极同层设置。在一示例性实施例中，所述第一发光层和所述第二发光层同层设置，所述第一阴极和所述第二阴极同层设置。在一示例性实施例中，所述第一阴极的厚度为80nm到150nm，所述第二阴极的厚度为10nm到20nm。在一示例性实施例中，所述第二反射阳极包括叠设的第一反射层、第二反射层和第三反射层，所述第一反射层和所述第三反射层使用氧化铟锡制成，所述第一反射层的厚度为60nm到80nm，所述第三反射层的厚度为60nm到80nm，所述第二反射层使用银制成，所述第二反射层的厚度为80nm到120nm。在一示例性实施例中，所述显示基板包括多个发光单元构成的阵列，每个发光单元包括所述第一发光结构和所述第二发光结构。又一方面，本申请实施例提供一种显示装置，包括上述显示基板。又一方面，本申请实施例提供一种显示基板的制备方法，包括：形成基底，在所述基底上形成驱动结构层；在所述驱动结构层上形成发光结构层，所述发光结构层包括第一发光结构和第二发光结构，从靠近所述驱动结构层向远离所述驱动结构层的方向上，所述第一发光结构包括层叠的第一透明阳极、第一发光层、第一阴极，所述第二发光结构包括层叠的第二反射阳极、第二发光层和第二阴极。在一示例性实施例中，所述第二阴极的厚度小于所述第一阴极的厚度。在一示例性实施例中，所述在所述驱动结构层上形成发光结构层包括：在所述驱动结构层上通过一次构图工艺形成所述第一透明阳极和第二透明阳极；在所述第二透明阳极上形成所述第二反射阳极；在所述第一透明阳极和所述第二反射阳极上通过一次构图工艺形成所述第一发光层和所述第二发光层；在所述第一发光层和所述第二发光层上通过一次构图工艺形成所述第一阴极和所述第二阴极。在一示例性实施例中，在所述第二透明阳极上形成所述第二反射阳极包括：在所述第一透明阳极和所述第二透明阳极上形成像素定义层；在所述像素定义层上涂覆光刻胶，并暴露出所述第二透明阳极；在上述形成的结构上沉积反射阳极薄膜，剥离所述光刻胶，形成所述第二反射阳极。与相关技术相比，本申请实施例包括一种显示基板，包括：基底、设置在所述基底上的驱动结构层，设置在所述驱动结构层上的发光结构层，所述发光结构层包括第一发光结构和第二发光结构，从靠近所述驱动结构层向远离所述驱动结构层的方向上，所述第一发光结构包括层叠的第一透明阳极、第一发光层、第一阴极，所述第二发光结构包括层叠的第二反射阳极、第二发光层和第二阴极。本实施例提供的显示基板，通过在基底的同侧设置不同出光方向的发光结构，实现双面显示，且厚度与单面显示厚度差别不大，小于将两个单面显示的显示面板贴合得到的双面显示面板。本专利技术的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点可通过在说明书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。附图说明附图用来提供对本专利技术技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本专利技术的技术方案，并不构成对本专利技术技术方案的限制。图1为本申请实施例提供的显示基板示意图；图2为本申请实施例提供的形成驱动结构后的示意图；图3为本申请实施例提供的形成透明阳极图案后的示意图；图4为本申请实施例提供的形成像素定义层图案后的示意图；图5为本申请实施例提供的涂覆光刻胶后的示意图；图6为本申请实施例提供的沉积反射阳极薄膜后的示意图；图7为本申请实施例提供反射阳极示意图；图8为本申请实施例提供的剥离光刻胶后的示意图；图9为本申请实施例提供的形成发光层图案后的示意图；图10为本申请实施例提供的形成阴极图案后的示意图；图11为本申请实施例提供的显示基板示意图(俯视图)；图12为本申请另一实施例提供的显示基板示意图；图13为本申请实施例提供的显示基板的制备方法流程图。10—基底；11—阻挡层；12—有源层；13—第一绝缘层；14—第一栅电极；15—第二栅电极；16—第二绝缘层；17—电容电极；18—第三绝缘层；19a—源电极；20a—漏电极；21—第四绝缘层；19b—源电极；20b—漏电极；31—第一透明阳极；32—像素定义层；33—第一发光层；34—第一阴极；35—封装层；36—第二透明阳极；37—第二反射阳极；38—第二发光层；39—第二阴极；40—光刻胶；41—反射阳极材料；42—第三反射阳极；51—第一发光结构52—第二发光结构371—第一反射层；372—第二反射层；373—第三反射层；101—第一薄膜晶体管；102—第二薄膜晶体管；具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本专利技术的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行。并且，虽然在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本专利技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，包括：基底、设置在所述基底上的驱动结构层，设置在所述驱动结构层上的发光结构层，所述发光结构层包括第一发光结构和第二发光结构，从靠近所述驱动结构层向远离所述驱动结构层的方向上，所述第一发光结构包括层叠的第一透明阳极、第一发光层、第一阴极，所述第二发光结构包括层叠的第二反射阳极、第二发光层和第二阴极。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，包括：基底、设置在所述基底上的驱动结构层，设置在所述驱动结构层上的发光结构层，所述发光结构层包括第一发光结构和第二发光结构，从靠近所述驱动结构层向远离所述驱动结构层的方向上，所述第一发光结构包括层叠的第一透明阳极、第一发光层、第一阴极，所述第二发光结构包括层叠的第二反射阳极、第二发光层和第二阴极。


2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二阴极的厚度小于所述第一阴极的厚度。


3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二发光结构还包括设置在所述第二反射阳极靠近所述驱动结构层一侧的第二透明阳极，且所述第一透明阳极和所述第二透明阳极同层设置。


4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一发光层和所述第二发光层同层设置，所述第一阴极和所述第二阴极同层设置。


5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一阴极的厚度为80nm到150nm，所述第二阴极的厚度为10nm到20nm。


6.根据权利要求1至5任一所述的显示基板，其特征在于，所述第二反射阳极包括叠设的第一反射层、第二反射层和第三反射层，所述第一反射层和所述第三反射层使用氧化铟锡制成，所述第一反射层的厚度为60nm到80nm，所述第三反射层的厚度为60nm到80nm，所述第二反射层使用银制成，所述第二反射层的厚度为80nm到120nm。


7.根据权利要求1至5任一所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括多个发光单元构成的阵列，每个发光单元包...

【专利技术属性】
技术研发人员：马坤，贾聪聪，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11