图案检查装置以及图案检查方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及图案检查装置以及图案检查方法。本发明专利技术的一方式的图案检查装置具备：光学图像取得机构，从形成有多个图形图案的基板取得多个区域的光学图像数据；多个比较处理电路，进行裸片－裸片检查处理与裸片－数据库检查处理中的一方的处理，该裸片－裸片检查处理将光学图像数据彼此进行比较，该裸片－数据库检查处理将光学图像数据与根据设计图案数据制作的参照图像数据进行比较；以及检查处理电路，以如下方式进行控制，按多个区域的每个区域，分别将该区域的光学图像数据向多个比较处理电路中的按每个区域可变地设定的数量的比较处理电路输出，对光学图像数据的输出目的地的各比较处理电路进行裸片－裸片检查处理或裸片－数据库检查处理。

Pattern checking device and pattern checking method

【技术实现步骤摘要】
图案检查装置以及图案检查方法
本专利技术涉及图案检查装置以及图案检查方法。例如，涉及对成为用于半导体制造的试样的物体的图案缺陷进行检查的图案检查技术，涉及对制作半导体元件、液晶显示器(LCD)时所使用的光掩模、晶片、或液晶基板等的极小的图案的缺陷进行检查的方法。
技术介绍
近年，伴随着大规模集成电路(LSI)的高集成化以及大容量化，半导体元件所要求的电路线宽越来越窄。这些半导体元件通过如下方式来制造：使用形成有电路图案的原图图案(也称为掩模或中间掩膜。以下，统称为掩模)，通过所谓的被称作步进曝光装置的缩小投影曝光装置将图案曝光转印到晶片上而形成电路。因此，在制造用于将该微细的电路图案转印于晶片的掩模时，采用使用了能够描绘微细的电路图案的电子束的图案描绘装置。有时也使用该图案描绘装置直接在晶片上描绘图案电路。或者，除了电子束以外还尝试开发使用激光束进行描绘的激光束描绘装置。而且，对耗费高昂的制造成本的该LSI的制造而言，成品率的提高是必不可少的。但是，如1千兆位级的DRAM(随机读取存储器)所代表的那样，构成LSI的图案要从亚微米变成纳米的量级。作为使成品率降低的主要因素之一，可列举出利用光刻技术在半导体晶片上曝光、转印出超微细图案时所使用的掩模的图案缺陷。近年，伴随着形成于半导体晶片的LSI图案尺寸的微细化，必须检测为图案缺陷的尺寸也变得极小。因此，检查LSI制造中所使用的转印用掩模的缺陷的图案检查装置的高精度化变得必要。作为检查方法，已知有如下方法：通过将使用放大光学系统以规定的倍率拍摄了形成于光刻掩模等试样上的图案而得到的光学图像与设计数据、或拍摄了试样上的同一图案而得到的光学图像进行比较来进行检查。例如，作为图案检查方法，有将拍摄了同一掩模上的不同地方的同一图案而得到的光学图像数据彼此进行比较的“dietodie(裸片—裸片)检查”、对检查装置输入将经图案设计的CAD数据转换为在掩模上描绘图案时用于描绘装置输入的装置输入格式而得到的描绘数据(设计数据)，在此基础上生成设计图像(参照图像)，并将该设计图像与拍摄了图案而得到的成为测定数据的光学图像进行比较的“dietodatabase(裸片—数据库)检查”。在该检查装置的检查方法中，试样被载置于台架上，通过台架移动使得光束在试样上扫描，而进行检查。通过光源以及照明光学系统对试样照射光束。透射试样或在试样反射后的光经由光学系统在传感器上成像。由传感器拍摄到的图像作为测定数据被向比较电路发送。在比较电路中，在图像彼此对位后，按照适当的算法将测定数据与参照数据进行比较，在不落入许可范围内的情况下，判定为有图案缺陷。在此，上述的裸片－裸片(DD)检查与裸片－数据库(DB)检查独立地动作。因此，在检查一张基板时，在希望进行上述的裸片－裸片检查的区域与希望进行裸片－数据库检查的区域混合存在的情况下，需要特意实施两次检查。因此，在进行两次检查的情况下，需要进行两次的扫描动作与两次的设置动作，存在检查时间长期化的问题。在此，公开了如下技术：配置能够进行裸片－裸片检查与裸片－数据库检查这两者的多个检查比较部，针对由一次拍摄所得的图像数据，在相同的检查比较部内，首先进行裸片－数据库检查，然后，在判断为没有缺陷的情况下，判断为该图像数据为ok，接着，在相同的检查比较部内，在成为ok的图像数据与其他图像数据之间进行裸片－裸片检查，在判定为有缺陷的情况下，判断为该其他图像数据有缺陷(例如，参照日本特开2005－134347号公报)。但是，该技术只不过是通过裸片－数据库检查来寻找成为能够用于裸片－裸片检查的母片(master)的裸片的图像数据。
技术实现思路
本专利技术的一方式提供一种即使在希望进行裸片－裸片检查的区域与希望进行裸片－数据库检查的区域混合存在的情况下，也能够高效地进行检查处理的图案检查装置以及图案检查方法。本专利技术的一方式的图案检查装置具备：光学图像取得机构，从形成有多个图形图案的基板取得多个区域的光学图像数据；多个比较处理电路，进行裸片－裸片检查处理与裸片－数据库检查处理中的一方的处理，该裸片－裸片检查处理将光学图像数据彼此进行比较，该裸片－数据库检查处理将光学图像数据与根据设计图案数据制作的参照图像数据进行比较；以及检查处理电路，以如下方式进行控制，按多个区域的每个区域，将该区域的光学图像数据分别向多个比较处理电路中的按每个区域可变地设定的数量的比较处理电路输出，对光学图像数据的输出目的地的各比较处理电路进行裸片－裸片检查处理或裸片－数据库检查处理。本专利技术的一方式的图案检查方法为，从形成有多个图形图案的基板取得多个区域的光学图像数据，按多个区域的每个区域，将该区域的光学图像数据分别向多个比较处理电路中的按每个区域可变地设定的数量的比较处理电路输出，该多个比较处理电路进行将光学图像数据彼此进行比较的裸片－裸片检查处理与将光学图像数据与根据设计图案数据制作的参照图像数据进行比较的裸片－数据库检查处理中的一方的处理，通过光学图像数据的输出目的地的各比较处理电路，对该区域的光学图像数据进行裸片－裸片检查处理或裸片－数据库检查处理，并输出结果。附图说明图1是表示实施方式一中的图案检查装置的构成的构成图。图2是用于说明实施方式一中的检查区域的概念图。图3是表示实施方式一中的检查方法的主要部分工序的流程图。图4是表示实施方式一中的比较电路种运算电路的内部构成的一例的图。图5是表示实施方式一中的裸片－裸片(DD)区域/裸片－数据库(DB)区域的一例的图。图6是用于说明实施方式一中的基于数据量的不同而产生的区域分割数的图。图7是用于说明实施方式一中的基于图形数的不同而产生的区域分割数的图。图8是用于说明实施方式一中的基于图案密度的不同而产生的区域分割数的图。图9是用于说明实施方式一中的基于图案线宽的不同而产生的区域分割数的图。图10是表示实施方式一中的分配电路的内部构成的一例的图。图11是表示实施方式一中的分配处理工序的内部工序的一例的流程图。图12是用于说明实施方式一中的滤波处理的图。图13是表示实施方式一中的各比较电路的内部构成的图。图14是表示实施方式一中的分配区域与检查时间的关系的一例的图。具体实施方式以下，在实施方式中，对即使存在希望进行裸片－裸片检查的区域与希望进行裸片－数据库检查的区域混合存在的情况，也能够高效地进行检查处理的检查装置以及方法进行说明。实施方式一.图1是表示实施方式一中的图案检查装置的构成的构成图。在图1中，对形成于检查对象基板例如掩模的图案的缺陷进行检查的检查装置100具备光学图像取得机构150、以及控制系统电路160。光学图像取得机构150具有光源103、照明光学系统170、以能够移动的方式配置的XYθ工作台102、放大光学系统104、光电二极管阵列105(传感器的一例)、传感器电路106、条带图案存储本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图案检查装置，具备：/n光学图像取得机构，从形成有多个图形图案的基板取得多个区域的光学图像数据；/n多个比较处理电路，进行裸片－裸片检查处理与裸片－数据库检查处理中的一方的处理，该裸片－裸片检查处理将光学图像数据彼此进行比较，该裸片－数据库检查处理将光学图像数据与根据设计图案数据制作的参照图像数据进行比较；以及/n检查处理电路，以如下方式进行控制，按所述多个区域的每个区域，将该区域的光学图像数据分别向所述多个比较处理电路中的按每个所述区域可变地设定的数量的比较处理电路输出，对所述光学图像数据的输出目的地的各比较处理电路进行所述裸片－裸片检查处理或所述裸片－数据库检查处理。/n

【技术特征摘要】
20181115 JP 2018-2145741.一种图案检查装置，具备：
光学图像取得机构，从形成有多个图形图案的基板取得多个区域的光学图像数据；
多个比较处理电路，进行裸片－裸片检查处理与裸片－数据库检查处理中的一方的处理，该裸片－裸片检查处理将光学图像数据彼此进行比较，该裸片－数据库检查处理将光学图像数据与根据设计图案数据制作的参照图像数据进行比较；以及
检查处理电路，以如下方式进行控制，按所述多个区域的每个区域，将该区域的光学图像数据分别向所述多个比较处理电路中的按每个所述区域可变地设定的数量的比较处理电路输出，对所述光学图像数据的输出目的地的各比较处理电路进行所述裸片－裸片检查处理或所述裸片－数据库检查处理。


2.如权利要求1所述的图案检查装置，其特征在于，
所述图案检查装置还具备面积比率运算处理电路，该面积比率运算处理电路按每个所述区域，运算该区域内进行所述裸片－裸片检查处理的区域部分与进行所述裸片－数据库检查处理的区域部分的面积比率，
所述检查处理电路，根据所述面积比率，可变地控制作为所述光学图像数据的输出目的地的进行所述裸片－裸片检查处理的比较处理电路的数量与进行所述裸片－数据库检查处理的比较处理电路的数量。


3.如权利要求1所述的图案检查装置，其特征在于，
所述图案检查装置还具备：
数据尺寸运算处理电路，按每个所述区域，运算该区域的设计图案数据的数据尺寸；以及
数据量比率运算处理电路，运算所述数据尺寸与数据量阈值之间的数据量比率，
所述检查处理电路，按每个所述区域，根据所述数据量比率，可变地控制进行所述裸片－数据库检查处理的比较处理电路的数量。


4.如权利要求1所述的图案检查装置，其特征在于，
所述图案检查装置，还具备：
困难度运算处理电路，按每个所述区域，使用该区域的设计图案数据来运算该区域的参照图像制作的困难度；以及
困难度比率运算处理电路，运算所述困难度与困难度阈值之间的困难度比率，
所述检查处理电路，按每个所述区域，根据所述困难度比率，可变地控制进行所述裸片－数据库检查处理的比较处理电路的数量。


5.如权利要求1所述的图案检查装置，其特征在于，
所述图案检查装置还具备区域判定处理电路，该区...

【专利技术属性】
技术研发人员：井上贵文，中岛和弘，矶部学，秋山裕照，
申请(专利权)人：纽富来科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP