【技术实现步骤摘要】
图案检查装置以及图案检查方法
本专利技术涉及图案检查装置以及图案检查方法。例如，涉及对成为用于半导体制造的试样的物体的图案缺陷进行检查的图案检查技术，涉及对制作半导体元件、液晶显示器(LCD)时所使用的光掩模、晶片、或液晶基板等的极小的图案的缺陷进行检查的方法。
技术介绍
近年，伴随着大规模集成电路(LSI)的高集成化以及大容量化，半导体元件所要求的电路线宽越来越窄。这些半导体元件通过如下方式来制造：使用形成有电路图案的原图图案(也称为掩模或中间掩膜。以下，统称为掩模)，通过所谓的被称作步进曝光装置的缩小投影曝光装置将图案曝光转印到晶片上而形成电路。因此，在制造用于将该微细的电路图案转印于晶片的掩模时，采用使用了能够描绘微细的电路图案的电子束的图案描绘装置。有时也使用该图案描绘装置直接在晶片上描绘图案电路。或者，除了电子束以外还尝试开发使用激光束进行描绘的激光束描绘装置。而且，对耗费高昂的制造成本的该LSI的制造而言，成品率的提高是必不可少的。但是，如1千兆位级的DRAM(随机读取存储器)所代表的那样，构成LSI的图...
【技术保护点】
1.一种图案检查装置，具备：/n光学图像取得机构，从形成有多个图形图案的基板取得多个区域的光学图像数据；/n多个比较处理电路，进行裸片－裸片检查处理与裸片－数据库检查处理中的一方的处理，该裸片－裸片检查处理将光学图像数据彼此进行比较，该裸片－数据库检查处理将光学图像数据与根据设计图案数据制作的参照图像数据进行比较；以及/n检查处理电路，以如下方式进行控制，按所述多个区域的每个区域，将该区域的光学图像数据分别向所述多个比较处理电路中的按每个所述区域可变地设定的数量的比较处理电路输出，对所述光学图像数据的输出目的地的各比较处理电路进行所述裸片－裸片检查处理或所述裸片－数据库检查处理。/n
【技术特征摘要】
20181115 JP 2018-2145741.一种图案检查装置，具备：
光学图像取得机构，从形成有多个图形图案的基板取得多个区域的光学图像数据；
多个比较处理电路，进行裸片－裸片检查处理与裸片－数据库检查处理中的一方的处理，该裸片－裸片检查处理将光学图像数据彼此进行比较，该裸片－数据库检查处理将光学图像数据与根据设计图案数据制作的参照图像数据进行比较；以及
检查处理电路，以如下方式进行控制，按所述多个区域的每个区域，将该区域的光学图像数据分别向所述多个比较处理电路中的按每个所述区域可变地设定的数量的比较处理电路输出，对所述光学图像数据的输出目的地的各比较处理电路进行所述裸片－裸片检查处理或所述裸片－数据库检查处理。
2.如权利要求1所述的图案检查装置，其特征在于，
所述图案检查装置还具备面积比率运算处理电路，该面积比率运算处理电路按每个所述区域，运算该区域内进行所述裸片－裸片检查处理的区域部分与进行所述裸片－数据库检查处理的区域部分的面积比率，
所述检查处理电路，根据所述面积比率，可变地控制作为所述光学图像数据的输出目的地的进行所述裸片－裸片检查处理的比较处理电路的数量与进行所述裸片－数据库检查处理的比较处理电路的数量。
3.如权利要求1所述的图案检查装置，其特征在于，
所述图案检查装置还具备：
数据尺寸运算处理电路，按每个所述区域，运算该区域的设计图案数据的数据尺寸；以及
数据量比率运算处理电路，运算所述数据尺寸与数据量阈值之间的数据量比率，
所述检查处理电路，按每个所述区域，根据所述数据量比率，可变地控制进行所述裸片－数据库检查处理的比较处理电路的数量。
4.如权利要求1所述的图案检查装置，其特征在于，
所述图案检查装置，还具备：
困难度运算处理电路，按每个所述区域，使用该区域的设计图案数据来运算该区域的参照图像制作的困难度；以及
困难度比率运算处理电路，运算所述困难度与困难度阈值之间的困难度比率，
所述检查处理电路，按每个所述区域，根据所述困难度比率，可变地控制进行所述裸片－数据库检查处理的比较处理电路的数量。
5.如权利要求1所述的图案检查装置，其特征在于，
所述图案检查装置还具备区域判定处理电路，该区...
【专利技术属性】
技术研发人员：井上贵文，中岛和弘，矶部学，秋山裕照，
申请(专利权)人：纽富来科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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