一种待渡板液流导正结构及PTH生产线制造技术

本实用新型专利技术公开了一种待渡板液流导正结构及PTH生产线，其中，待渡板液流导正结构包括：药水反应箱，所述药水反应箱上端开设有入板口，并在上端靠近入板口处设置有用于将药水排放至药水反应箱的导流管；药水反应箱下端开设有用于排出药水的药水排放管。基于此，本实用新型专利技术所提供的待渡板液流导正结构，药水从上端的药水喷头进入药水反应箱，并从下端的药水排出口排出药水反应箱，使药水反应箱内形成自上而下的药流，在待渡板进入药水反应箱时顺着药水流动方向下降，不会受到药水阻力，有效解决了现有技术中通过飞靶夹持较薄的待渡板，由于待渡板下端悬空，进入药水反应箱时受药水阻力较大，容易造成待渡板折损的问题。

A positive structure of liquid flow and PTH production line

【技术实现步骤摘要】
一种待渡板液流导正结构及PTH生产线
本技术涉及电镀设备
，尤其涉及的是一种待渡板液流导正结构及PTH生产线。
技术介绍
PTH（PlatedThroughHole）为镀通孔之意，作用为将原非金属之孔壁使其镀上一层薄铜（即金属化），以利后续电镀铜顺利镀上，使其上下铜层或与内层铜顺利达到相连通之目的；此工艺是通过化学药液的化学反应来完成。飞靶是用于夹持待渡板并带动待渡板完成整个电镀过程的常用部件，在待渡板电镀过程中，飞靶夹持待渡板的上端，使待渡板其余部分可充分接触药水，电镀效果较好。但在待渡板厚度较薄时，由于下端悬空，进入药水反应箱时受药水阻力较大，容易造成待渡板折损。可见，现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
鉴于上述现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种待渡板液流导正结构及PTH生产线，旨在解决现有技术中通过飞靶夹持较薄的待渡板，由于待渡板下端悬空，进入药水反应箱时受药水阻力较大，容易造成待渡板折损的问题。本技术的技术方案如下：一种待渡板液流导正结构，其包括：药水反应箱，所述药水反应箱上端开设有入板口，并在上端靠近入板口处设置有用于将药水排放至药水反应箱的导流管；药水反应箱下端开设有用于排出药水的药水排放管。在进一步地优选方案中，所述入板口两侧分别设置有第一导正板及第二导正板，所述第一导正板与第二导正板之间形成有导正槽，所述导正槽的上端口即为入板口。在进一步地优选方案中，所述第一导正板的上端设置有第一导正斜面，所述第二导正板的上端设置有第二导正斜面，所述第一导正斜面与第二导正斜面相对设置，形成上宽下窄的入板口。在进一步地优选方案中，所述导流管设置有至少一组，每组导流管包括镜像对称设置的第一导流管及第二导流管，所述第一导流管开设有倾斜向下的第一导流孔，所述第二导流管开设有倾斜向下的第二导流孔。在进一步地优选方案中，所述药水反应箱内设置有多个若干个呈矩阵式排布的第一药水喷头，所述待渡板液流导正结构还包括：进药管及多个第一喷药管，所述进药管贯穿药水反应箱设置，多个所述第一喷药管沿工位排布方向依次连接于进药管，且每个第一喷药管上设置有多个第一药水喷头。在进一步地优选方案中，所述药水反应箱内设置有多个若干个呈矩阵式排布的第二药水喷头；所述待渡板液流导正结构还包括：进药管及多个第二喷药管，所述进药管贯穿药水反应箱设置，多个所述第二喷药管沿工位排布方向依次连接于进药管，且每个第二喷药管上设置有多个第二药水喷头。在进一步地优选方案中，所述待渡板液流导正结构还包括多个第三喷药管，所述第三喷药管上设置有第三药水喷头及第四药水喷头；所述第四药水喷头与第一药水喷头高度相同，所述第三药水喷头与第二药水喷头高度相同。在进一步地优选方案中，所述第一药水喷头及第三药水喷头的喷药端朝飞靶移动方向倾斜设置，且第一药水喷头与第三药水喷头镜像对称设置。在进一步地优选方案中，所述第二药水喷头及第四药水喷头的喷药端朝飞靶移动方向倾斜设置，且第二药水喷头与第四药水喷头镜像对称设置。一种PTH生产线，其中，所述PTH生产线包括如上所述的待渡板液流导正结构。与现有技术相比，本技术提供的待渡板液流导正结构，包括：药水反应箱，所述药水反应箱上端开设有入板口，并在上端靠近入板口处设置有用于将药水排放至药水反应箱的导流管；药水反应箱下端开设有用于排出药水的药水排放管。基于此，本技术所提供的待渡板液流导正结构，药水从上端的导流管进入药水反应箱，并从下端的药水排放管排出药水反应箱，使药水反应箱内形成自上而下的药流，在待渡板进入药水反应箱时顺着药水流动方向下降，不会受到药水阻力，有效解决了现有技术中通过飞靶夹持较薄的待渡板，由于待渡板下端悬空，进入药水反应箱时受药水阻力较大，容易造成待渡板折损的问题。附图说明图1是本技术优选实施例待渡板液流导正结构第一视角的结构示意图。图2是图1中局部D的放大图。图3是本技术优选实施例待渡板液流导正结构第二视角的结构示意图。图4是本技术优选实施例待渡板液流导正结构第三视角的结构示意图。图5是本技术所用第一药水喷头及第二药水喷头固定连接于药水反应箱内壁的结构示意图。图6是图5中局部A的放大图。图7是图5中局部B的放大图。图8是本技术优选实施例所用药水反应箱内的零件配置示意图。图9是本技术优选实施例所用喷药管及药水喷头的位置排布示意图。图10是本技术优选实施例所用过滤箱的内部结构示意图。图11是图10中局部C的放大图。具体实施方式本技术提供一种待渡板液流导正结构及PTH生产线，为使本技术的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实例对本技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。本技术的具体实施方式是为了便于对本技术的构思、所解决的技术问题、构成技术方案的技术特征和带来的技术效果做更为详细的说明。需要说明的是，对于这些实施方式的解释说明并不构成对本技术保护范围的限定。此外，下文所述的实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间不构成冲突就可以相互组合。由于静止的药水会对待渡板的下降造成较大阻力，在待渡板较薄时，容易在下降过程中因阻力较大被折弯损坏，因此，若能使药水向下方或侧下方流动，即令药水流动方向与待渡板的下降方向相同或相近，则可降低甚至于消除药水阻力带来的不良影响。基于上述思路，本技术提供了一种待渡板液流导正结构，包括：药水反应箱100，如图1至图8所示，药水反应箱100是待渡板进行药水反应的容器，PTH生产线设置有多个药水反应箱100，飞靶从上料位进入第一个药水反应箱100，或者从一个药水反应箱100进入下一药水反应箱100等过程中，一般是先上升再下降（或者药水反应箱100升降，飞靶只进行横移），也就是说，待渡板一般是从上方下降至药水反应箱100，为此，药水反应箱100会在上端开设入板口735a，以便待渡板进入。如图3所示，所述药水反应箱100的上端开设有入板口735a，并且药水反应箱100上端靠近入板口735a处设置有导流管，所述导流管用于将药水排放至药水反应箱100；药水反应箱100的下端则设置有药水排放管300，所述药水排放管300用于将药水反应箱100内的药水排出。所述导流管与药水排放管300联合作用，以便药水从药水反应箱100上端进入，下端排出，形成自上而下的液流方向，此处需要注意的是，由于待渡板在电镀过程中不仅要与药水发生反应，一般还会在中间工序夹杂水洗工艺，以免待渡板上的特殊药水残留与其他药水发生不良反应，因此，本技术中所指的药水可以是反应药水，也可能是清洗药水（比如清水）。进一步地，所述入板口735a两侧分别设置有第一导正板730及第二导正板740，所述第一导正板730与第二导正板740之间形成有导本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种待渡板液流导正结构，其特征在于，包括：药水反应箱，所述药水反应箱上端开设有入板口，并在上端靠近入板口处设置有用于将药水排放至药水反应箱的导流管；药水反应箱下端开设有用于排出药水的药水排放管。/n

【技术特征摘要】
1.一种待渡板液流导正结构，其特征在于，包括：药水反应箱，所述药水反应箱上端开设有入板口，并在上端靠近入板口处设置有用于将药水排放至药水反应箱的导流管；药水反应箱下端开设有用于排出药水的药水排放管。


2.根据权利要求1所述的待渡板液流导正结构，其特征在于，所述入板口两侧分别设置有第一导正板及第二导正板，所述第一导正板与第二导正板之间形成有导正槽，所述导正槽的上端口即为入板口。


3.根据权利要求2所述的待渡板液流导正结构，其特征在于，所述第一导正板的上端设置有第一导正斜面，所述第二导正板的上端设置有第二导正斜面，所述第一导正斜面与第二导正斜面相对设置，形成上宽下窄的入板口。


4.根据权利要求2所述的待渡板液流导正结构，其特征在于，所述导流管设置有至少一组，每组导流管包括镜像对称设置的第一导流管及第二导流管，所述第一导流管开设有倾斜向下的第一导流孔，所述第二导流管开设有倾斜向下的第二导流孔。


5.根据权利要求1所述的待渡板液流导正结构，其特征在于，所述药水反应箱内设置有多个若干个呈矩阵式排布的第一药水喷头，所述待渡板液流导正结构还包括：进药管及多个第一喷药管，所述进药管贯穿药水反应箱设置，多个所述第一喷药管沿工位排布方向依次...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱茂雄，
申请(专利权)人：惠州竞铭机械有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44