数据存储介质及其制备方法和应用方法技术

本发明专利技术提供的一种数据存储介质，包括石英衬底及设置于所述石英衬底上的若干数据行，每一所述数据行包括等间距排设的第一数据源位点、第二数据源位点或两者的结合，所述第一数据源位点为开设于所述石英衬底上的凹槽，所述第二数据源位点相对于所述第一数据源位点呈凸起。本发明专利技术采用自身结构稳定性高的石英材料作为衬底，使得数据存储介质能够抗磨损，使用寿命极长，能够满足古代字画、历史文献等珍稀文物藏品的数据存储。尤其是高纯石英的应用下，结构更为稳定，其存储效果更好更长久。同时利用四氟化碳产生等离子体进行刻蚀，刻蚀速率快，制备效率高。借以位点的优化设计以及校验位设置，确保了数据存储和读取的正确性。

Data storage medium and its preparation and Application

【技术实现步骤摘要】
数据存储介质及其制备方法和应用方法
本专利技术涉及数据存储
，特别是指一种数据存储介质及该数据存储介质的制备方法和该数据存储介质的应用方法。
技术介绍
本部分旨在为权利要求书中陈述的本专利技术的实施方式提供背景或上下文。此处的描述不因为包括在本部分中就承认是现有技术。目前市场上的存储介质均采用光盘、硬盘、磁带进行数据的存储。例如光盘，通常采用聚碳酸酯制作，通过无数的能反射光线的凹凸坑标记无数的0和1记录和存储数据，大量的0和1组合可以表现出各种各样的音像文件、图像文件等。但现有光盘，甚至硬盘、磁带等数据存储介质基于自身材料性能和结构的限制以及长时间使用或存储不当极易磨损乃至损坏，造成数据丢失，因此记载于现有存储介质上的文件普遍保存时间不长，难以用于存储珍稀文物资料，限制其应用。
技术实现思路
鉴于以上内容，有必要提供一种改进的数据存储介质，具有结构稳定，不易损坏，使用寿命长的特点。本专利技术的另一目的提供一种数据存储介质的制备方法。本专利技术的又一目的在于提供一种数据存储介质的应用方法。本专利技术提供的技术方案为：一种数据存储介质，包括石英衬底及设置于所述石英衬底上的若干数据行，每一所述数据行包括等间距排设的第一数据源位点、第二数据源位点或两者的结合，所述第一数据源位点为开设于所述石英衬底上的凹槽，所述第二数据源位点相对于所述第一数据源位点呈凸起。进一步地，所述石英衬底的纯度为90％以上。进一步地，所述石英衬底的纯度为99％以上。进一步地，所述石英衬底的纯度为99.9％-99.99％进一步地，所述石英衬底为扇形、圆形、多边形或它们的变形体。进一步地，所述石英衬底为双面刻蚀。进一步地，所述石英衬底的厚度大于所述凹槽深度的双倍。进一步地，每一所述数据行中的所有位点呈环向阵列或线性阵列分布，且多个所述数据行等间距设置。进一步地，所述凹槽横截面为圆形，其直径为220-245μm，所述凹槽的深度为15-25μm，每一所述数据行中所述凹槽邻近边缘的最小间距为90-110μm。本专利技术还提供所述的数据存储介质的制备方法，包括以下步骤：准备所述石英衬底；采用四氟化碳气体被电离产生的F-等离子体对所述石英衬底进行刻蚀，得到若干数据行上预设的所述第一数据源位点，从而形成数据存储介质。其中，所述数据存储介质包括石英衬底及设置于所述石英衬底上的若干数据行，每一所述数据行包括等间距排设的第一数据源位点、第二数据源位点或两者的结合，所述第一数据源位点为开设于所述石英衬底上的凹槽，所述第二数据源位点相对于所述第一数据源位点呈凸起。进一步地，所述四氟化碳混合有氧气，两者的体积比为3:1-1:1，所述刻蚀速度为150-200nm/s。进一步地，所述四氟化碳气体在20-100pa微正压环境下通过射频电源的正负极之间而被电离，所述正负极构成的电极嘴的直径小于所述凹槽横截面的直径。进一步地，所述凹槽横截面的直径为220μm，所述电极嘴的直径为170-190μm。进一步地，所述凹槽横截面的直径为220μm，所述电极嘴的直径为180μm。本专利技术进一步提供所述的数据存储介质的应用方法，通过视觉传感器按照预设距离逐行读取所述第一数据源位点和/或所述第二数据源位点构成的数据段，其中所述第一数据源位点和所述第二数据源位点分别标记为1和0，所述数据段中每间隔预设数量位点设置校验位，通过对比所述校验位识别的数据与设定值的一致性来验证数据的正确性。其中，所述数据存储介质包括石英衬底及设置于所述石英衬底上的若干数据行，每一所述数据行包括等间距排设的第一数据源位点、第二数据源位点或两者的结合，所述第一数据源位点为开设于所述石英衬底上的凹槽，所述第二数据源位点相对于所述第一数据源位点呈凸起。进一步地，视觉传感器读取的预设距离为相邻位点的中心距离。进一步地，所述数据段中每间隔16个位点设置校验位来验证数据的正确性。与现有技术相比，本专利技术提供的一种数据存储介质，包括石英衬底及设置于所述石英衬底上的若干数据行，每一所述数据行包括等间距排设的第一数据源位点、第二数据源位点或两者的结合，所述第一数据源位点为开设于所述石英衬底上的凹槽，所述第二数据源位点相对于所述第一数据源位点呈凸起。本专利技术采用自身结构稳定性高的石英材料作为衬底，使得数据存储介质能够抗磨损，使用寿命极长，能够满足古代字画、历史文献等珍稀文物藏品的数据存储。尤其是高纯石英的应用下，结构更为稳定，其存储效果更好更长久。同时利用四氟化碳产生等离子体进行刻蚀，刻蚀速率快，制备效率高。借以位点的优化设计以及校验位设置，确保了数据存储和读取的正确性。附图说明下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明。图1为本专利技术一实施方式中数据存储介质的结构示意图。图2为本专利技术另一实施方式中数据存储介质的结构示意图。图3为图1所示的第一数据源位点的制备原理图。附图标记说明:数据存储介质100数据行10石英衬底1第一数据源位点3第二数据源位点5如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本专利技术实施例。具体实施方式为了能够更清楚地理解本专利技术实施例的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术进行详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施方式中的特征可以相互组合。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术实施例，所描述的实施方式仅是本专利技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本专利技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本专利技术实施例保护的范围。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术实施例的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本专利技术实施例。请参阅图1和图2，本专利技术提供一种数据存储介质100，用于图像、音频、文字等数据文件的记录，保存及读取等操作，主要包括石英衬底1及设置于所述石英衬底1上的若干数据行10，每一所述数据行10包括等间距排设的第一数据源位点3、第二数据源位点5或两者的结合，所述第一数据源位点3为开设于所述石英衬底1上的凹槽，所述第二数据源位点5相对于所述第一数据源位点3呈凸起。所述石英衬底1为数据存储介质100的成型层，作为包括记录数据文件的信号分区的载体，该数据文件由基本数据0和1组成。现有衬底材料多为聚碳酸酯，耐湿耐热易成型，但使用较长时间后易磨损，会造成数据文件的丢失，因而使得使用寿命不长。现阶段，光盘的一般平均寿命约为20年～30年，磁带的平均使用寿命约为10万次，硬盘的理论寿命为3万小时以上，在长期使用磨损本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种数据存储介质，其特征在于：包括石英衬底及设置于所述石英衬底上的若干数据行，每一所述数据行包括等间距排设的第一数据源位点、第二数据源位点或两者的结合，所述第一数据源位点为开设于所述石英衬底上的凹槽，所述第二数据源位点相对于所述第一数据源位点呈凸起。/n

【技术特征摘要】
1.一种数据存储介质，其特征在于：包括石英衬底及设置于所述石英衬底上的若干数据行，每一所述数据行包括等间距排设的第一数据源位点、第二数据源位点或两者的结合，所述第一数据源位点为开设于所述石英衬底上的凹槽，所述第二数据源位点相对于所述第一数据源位点呈凸起。


2.根据权利要求1所述的数据存储介质，其特征在于：所述石英衬底的纯度为90％以上。


3.根据权利要求2所述的数据存储介质，其特征在于：所述石英衬底的纯度为99％以上。


4.根据权利要求3所述的数据存储介质，其特征在于：所述石英衬底的纯度为99.9％-99.99％。


5.根据权利要求1所述的数据存储介质，其特征在于：每一所述数据行中的所有位点呈环向阵列或线性阵列分布，且多个所述数据行等间距设置。


6.根据权利要求1所述的数据存储介质，其特征在于：所述凹槽横截面为圆形，其直径为220-245μm，所述凹槽的深度为15-25μm，每一所述数据行中所述凹槽邻近边缘的最小间距为90-110μm。


7.根据权利要求1至6中任一项所述的数据存储介质的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
准备所述石英衬底；
采用四氟化碳气体被电离产生的F-等离子体对所述石英衬底进行刻蚀，得到若干数据行上预设的所述第一数据源位点，从而形成数据存储介质。

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【专利技术属性】
技术研发人员：张帆，刘志忠，曹珊珊，胡海洋，苏海燕，江金金，
申请(专利权)人：中天科技光纤有限公司，江苏中天科技股份有限公司，江东科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32