显示器件、曝光装置、显示器件的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示器件，具备多个图像元素，在多个图像元素中分别形成阳极(22)，以形成阳极(22)的开口的方式形成覆盖阳极(22)的外周的覆盖层(23A)，覆盖层(23A)与相邻的其他阳极(22)的覆盖层(23A)相互分离。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显示器件、曝光装置、显示器件的制造方法
本专利技术涉及一种显示器件等。
技术介绍
以往，已知有平板显示器等各种显示器件(例如，参照专利文献1)。通常，显示器件是叠层具有各种功能的层而形成的。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015-22914号公报(2015年02月02日公开)
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题近年来，期望增大显示器件的画面尺寸，并且使图像高精细化。因此，显示器件的构成部件的微细化正在进步。在显示器件的制造工序中，为了进行微细加工而使用光刻法。在光刻法中，使用光掩模来控制光对感光性树脂的照射。在要制造的产品的画面尺寸大于光掩模的情况下，对尺寸比光掩模大的基板使用光刻法。在这种情况下，需要进行几次配置光掩模并照射光的工序。但是，在数次进行上述工序时，在光掩模的边缘重叠的部分，有时会在结果物的表面产生凹凸，有可能会产生不良情况。本专利技术的一个方式的目的在于，提供一种能够防止通过连接光掩模而产生的不良情况的发生的显示器件的制造方法以及显示器件。解决问题的手段本专利技术的一个方式所涉及的显示器件，具备多个图像元素，在所述多个图像元素中分别形成第一电极，以形成所述第一电极的开口的方式，形成覆盖所述第一电极的外周的覆盖层，所述覆盖层与相邻的其他所述第一电极的覆盖层相互分离。本专利技术的一个方式所涉及的曝光装置，对覆盖形成于平坦化膜的表面的多个第一电极的感光性有机材料膜，利用光刻法进行图案形成，所述曝光装置具备：发出对所述感光性有机材料膜进行曝光的光的光源；以及阻断来自所述光源的光的一部分的光掩模，所述光掩模包括：阻断来自所述光源的光的一部分的半透光部；以及使所述光透过的透光部，所述半透光部以如下方式形成：通过透过该半透光部的光，对于所述多个第一电极，分别以形成所述第一电极的开口的方式形成覆盖所述第一电极的外周的覆盖层，所述透光部以如下方式形成：通过透过所述透光部的光，形成使多个所述覆盖层的至少一部分相互分离的分离区域。本专利技术的一个方式所涉及的曝光装置，对覆盖形成于平坦化膜的表面的多个第一电极的感光性有机材料膜，利用光刻法进行图案形成，所述曝光装置具备：发出对所述感光性有机材料膜进行曝光的光的光源；以及阻断来自所述光源的光的一部分的光掩模，所述光掩模包括：阻断来自所述光源的光的一部分的半透光部；以及阻断所述光的遮光部，所述半透光部以如下方式形成：通过透过该半透光部的光，对于所述多个第一电极，分别以形成所述第一电极的开口的方式形成覆盖所述第一电极的外周的覆盖层，所述遮光部以如下方式形成：通过由所述遮光部阻断光，形成使多个所述覆盖层的至少一部分相互分离的分离区域。根据本专利技术的一个方式所涉及的显示器件的制造方法，包括如下工序：用感光性有机材料覆盖形成于平坦化膜的表面的多个第一电极的感光层形成工序；以及使用阻断来自光源的光的一部分的光掩模对所述感光性有机材料进行曝光后，以进行显影而形成所述第一电极的开口的方式，形成覆盖所述第一电极的外周的覆盖层的覆盖层形成工序，所述光掩模包括：阻断来自所述光源的光的一部分的半透光部；以及使所述光透过的透光部，在所述覆盖层形成工序中，变更所述光掩模的位置并进行多次曝光，所述覆盖层以与相邻的其他所述第一电极的覆盖层相互分离的方式形成。专利技术效果根据本专利技术的一个方式，能够防止通过连接光掩模而产生的不良情况的发生。附图说明图1是表示显示器件的制造方法的一个例子的流程图。图2是表示显示器件的显示部的结构例的截面图。图3是表示显示器件的结构例的俯视图。图4是表示覆盖层和隔离物的形成方法的截面图，(a)表示烧固前的状态，(b)表示烧固后的状态。图5是表示显示器件中的子像素、覆盖层以及隔离物的配置的俯视图。图6是表示成膜装置的结构的框图。图7是表示曝光装置的结构的概念图。图8是概念性地表示光掩模的结构的一个例子的俯视图。图9是用于说明本实施方式的曝光方法的效果的图。图10是表示比较例的显示器件的显示部的结构例的截面图。图11是表示比较例的显示器件中的子像素、覆盖层以及隔离物的配置的俯视图。图12是表示成膜装置中的处理的流程的一个例子的流程图。图13是表示EL器件制造装置的结构的框图。图14是表示负型的光掩模的结构的一个例子的俯视图。图15是表示实施方式4中的显示器件的显示部的结构例的截面图。图16是表示显示区域及其周围的结构的俯视图。图17是图16的A-A线截面图。具体实施方式图1是表示显示器件(电子器件)的制造方法的一个例子的流程图。图2是表示显示器件的显示部的结构例的截面图。图3是表示显示器件的结构例的俯视图。以下，“同层”的含义是指在同一工序中由相同材料形成，“下层”的含义是指在比较对象的层之前的工序中形成，“上层”的含义是指在比较对象的层之后的工序中形成。在制造柔性的显示器件的情况下，如图1～图3所示，首先，在透光性的支撑基板(例如，母玻璃基板)上形成树脂层12(步骤S1)。接着，形成阻挡层3(步骤S2)。接着，形成包括端子TM和端子布线TW的TFT层4(步骤S3)。接着，形成顶部发射型的发光元件层(例如，OLED元件层)5(步骤S4)。接着，形成密封层6(步骤S5)。接着，在密封层6上贴附上表面膜(步骤S6)。接着，隔着支撑基板对树脂层12的下表面照射激光，使支撑基板和树脂层12之间的结合力降低，将支撑基板从树脂层12剥离(步骤S7)。接着，在树脂层12的下表面贴附下表面膜10(步骤S8)。接着，将包括下表面膜10、树脂层12、阻挡层3、TFT层4、发光元件层5、密封层6的叠层体切断，得到多个单片(步骤S9)。接着，在所得到的单片上贴附功能膜39(步骤S10)。接着，将电子电路基板安装于外部连接用的端子(例如IC芯片)(步骤S11)。接着，实施边缘折叠加工(将图3的折弯部CL折弯180度的加工)，成为显示器件2(步骤S12)。接着，进行断线检查，如果存在断线，则进行修正(步骤S13)。另外，上述各步骤由后述的显示器件制造装置进行。作为树脂层12的材料，可以举出例如聚酰亚胺、环氧、聚酰胺等。作为下表面膜10的材料，可以举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。阻挡层3是防止在显示器件使用时水分或杂质到达TFT层4或发光元件层5的层，例如可以由通过CVD形成的氧化硅膜、氮化硅膜或氮氧化硅膜、或者它们的叠层膜构成。TFT层4包括半导体膜15、比半导体膜15靠上层的无机绝缘膜16(栅极绝缘膜)、比无机绝缘膜16靠上层的栅极GE、比栅极GE靠上层的无机绝缘膜18、比无机绝缘膜18靠上层的电容布线CE、比电容布线CE靠上层的无机绝缘膜20、比无机绝缘膜20靠上层的源极布线SH和端子TM以及比源极布线SH和端子TM靠上层的平坦化膜21。以包括半导体膜15、无机绝缘膜16(栅极绝缘本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示器件，其具备多个图像元素，所述显示器件的特征在于，/n在所述多个图像元素中分别形成第一电极，/n以形成所述第一电极的开口的方式，形成覆盖所述第一电极的外周的覆盖层，/n所述覆盖层与相邻的其他所述第一电极的覆盖层相互分离。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种显示器件，其具备多个图像元素，所述显示器件的特征在于，
在所述多个图像元素中分别形成第一电极，
以形成所述第一电极的开口的方式，形成覆盖所述第一电极的外周的覆盖层，
所述覆盖层与相邻的其他所述第一电极的覆盖层相互分离。


2.根据权利要求1所述的显示器件，其特征在于，
在多个所述第一电极之间设置有与所述覆盖层形成于相同层的隔离物，
所述隔离物以比所述覆盖层高的高度形成，
所述隔离物的外缘部与所述覆盖层的外缘部分离。


3.根据权利要求2所述的显示器件，其特征在于，
还具备与所述第一电极相对的第二电极，
所述第一电极和所述覆盖层形成于平坦化膜的表面，
以包围包含所述多个图像元素的显示区域的方式在所述平坦化膜上形成狭缝，所述第二电极与薄层晶体管层的布线经由该狭缝电导通，
以包围所述显示区域和所述狭缝的方式形成与所述覆盖层相同层的框状隔离物，所述框状隔离物与所述隔离物的高度相同。


4.一种曝光装置，其对覆盖形成于平坦化膜的表面的多个第一电极的感光性有机材料膜，利用光刻法进行图案形成，所述曝光装置的特征在于，具备：
发出对所述感光性有机材料膜进行曝光的光的光源；以及
阻断来自所述光源的光的一部分的光掩模，
所述光掩模包括：阻断来自所述光源的光的一部分的半透光部；以及使所述光透过的透光部，
所述半透光部以如下方式形成：通过透过该半透光部的光，对于所述多个第一电极，分别形成所述第一电极的开口和覆盖所述第一电极的外周的覆盖层，
所述透光部以如下方式形成：通过透过所述透光部的光，形成使多个所述覆盖层的至少一部分相互分离的分离区域。


5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

【专利技术属性】
技术研发人员：市川伸治，谷山博己，斋田信介，郡司辽佑，冈部达，仲田芳浩，神村浩治，井上彬，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP