空隙层、层叠体、空隙层的制造方法、光学构件及光学装置制造方法及图纸

本发明专利技术的目的在于，提供粘合剂或粘接剂不易向空隙浸透的空隙层。为了实现上述目的，本发明专利技术的空隙层的特征在于，其包含用具有表面取向性的化合物进行了表面改性的纳米粒子，并且空隙率为35体积％以上。

Manufacturing method, optical components and optical devices of void layer, laminated body and void layer

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】空隙层、层叠体、空隙层的制造方法、光学构件及光学装置
本专利技术涉及空隙层、层叠体、空隙层的制造方法、光学构件及光学装置。
技术介绍
在光学器件中，例如，利用低折射率的空气层作为全反射层。具体而言，例如，液晶器件中的各光学膜构件(例如，导光板和反射板)夹隔着空气层而层叠。然而，如果各构件间被空气层隔开，则特别是在构件为大型的情况下等，有可能会引起构件的挠曲等问题。另外，由于器件薄型化的趋势，期望各构件的一体化。因此，进行了利用粘合粘接剂将各构件一体化而不在其间夹隔空气层(例如专利文献1)。然而，如果没有发挥全反射作用的空气层，则有可能会导致漏光等光学特性降低。因此，提出了使用低折射率层来代替空气层。例如，在专利文献2中记载了在导光板与反射板之间插入折射率比导光板低的层的结构。作为低折射率层，例如，为了将折射率尽量设为接近空气的低折射率，使用具有空隙的空隙层。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-156082号公报专利文献2：日本特开平10-62626号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题空隙层例如隔着粘合粘接层与其它层层叠而使用。然而，如果将空隙层与粘合粘接层层叠，则构成上述粘合粘接层的粘合剂或粘接剂会浸透到上述空隙层的空隙内部，导致上述空隙被填埋，从而可能会使空隙率降低。而且，上述空隙层的空隙率越高，上述粘合剂或粘接剂越容易浸透。另外，在高温的环境中，由于上述粘合剂或粘接剂的分子运动，上述粘合剂或粘接剂变得容易浸透到上述空隙。为了抑制或防止上述粘合剂或粘接剂对上述空隙的浸透，作为上述粘合剂或粘接剂，尽可能使用弹性模量高(硬)的粘合剂或粘接剂即可。然而，如果上述粘合剂或粘接剂的弹性模量高(硬)，则可能会使粘合力或粘接力降低。相反，如果上述粘合剂或粘接剂的弹性模量低(柔软)，则容易得到高的粘合力或粘接力，但可能会使上述粘合剂或粘接剂变得容易浸透到上述空隙。为了抑制或防止上述粘合剂或粘接剂对上述空隙的浸透，例如，也考虑了使用除上述粘合剂或粘接剂以外的物质在上述空隙层上形成可抑制上述粘合剂或粘接剂的浸透的层(浸透抑制层)。然而，在该情况下，除上述空隙层的形成工序以外，另外需要上述浸透抑制层的形成工序，因此，会导致制造工序的增加。由于这样的理由，需要粘合剂或粘接剂不易向空隙浸透的空隙层。因此，本专利技术的目的在于，提供粘合剂或粘接剂不易向空隙浸透的空隙层、层叠体、空隙层的制造方法、光学构件及光学装置的提供。解决问题的方法为了实现上述目的，本专利技术的空隙层的特征在于，其包含用具有表面取向性的化合物进行了表面改性的纳米粒子，且空隙率为35体积％以上。本专利技术的层叠体是将上述本专利技术的空隙层和粘合粘接层直接层叠而成的。本专利技术的空隙层的制造方法是上述本专利技术的空隙层的制造方法，该方法包含：涂敷含有上述纳米粒子的分散液的涂敷工序；以及使涂敷后的上述分散液干燥的干燥工序。本专利技术的光学构件包含上述本专利技术的层叠体。本专利技术的光学装置包含上述本专利技术的光学构件。专利技术的效果根据本专利技术，可以提供粘合剂或粘接剂不易向空隙浸透的空隙层、层叠体、空隙层的制造方法、光学构件及光学装置。附图说明图1是示意性地示出本专利技术中在树脂膜10上形成本专利技术的层叠体的方法的一例的工序剖面图，所述本专利技术的层叠体是空隙层21、中间层22及粘合粘接层30层叠而成的。图2是示意性地示出卷状的层叠膜(层叠膜卷)的制造方法中的工序的一部分和其中使用的装置的一例的图。图3是示意性地示出层叠膜卷的制造方法中的工序的一部分和其中使用的装置的另一例的图。图4是实施例1制造的层叠体的剖面照片。图5是比较例1制造的层叠体的剖面照片。图6是比较例2制造的层叠体的剖面照片。符号说明10基材20空隙层20’涂敷膜(干燥后)20”溶胶粒子液21强度提高了的空隙层22中间层30粘合粘接层101送出辊102涂敷辊110烘箱区域111热风器(加热装置)120化学处理区域121灯(光照射装置)或热风器(加热装置)130a粘合粘接层涂敷区域130中间体形成区域131a粘合粘接层涂敷装置131热风器(加热装置)105卷取辊106辊201送出辊202贮液部203刮刀(doctorknife)204微型凹版涂布机210烘箱区域211加热装置220化学处理区域221光照射装置或加热装置230a粘合粘接层涂敷区域230中间体形成区域231a粘合粘接层涂敷装置231热风器(加热装置)251卷取辊具体实施方式接下来，举例对本专利技术更具体地进行说明。然而，本专利技术不受以下说明的任何限制。在本专利技术的空隙层中，例如，上述具有表面取向性的化合物是烷氧基硅烷衍生物，上述烷氧基硅烷衍生物可以含有氟原子数为5～17或5～10的氟烷基。上述氟烷基可以是仅氢的一部分被氟取代了的烷基，但也可以是氢全部被氟取代了的烷基(全氟烷基)。本专利技术的空隙层例如可以含有相对于上述空隙层的骨架成分为10～50质量％的上述纳米粒子。对于本专利技术的空隙层的制造方法而言，例如可以在上述空隙层的形成的同时，在上述空隙层内部形成包含上述纳米粒子的层。对于本专利技术的空隙层而言，粘合剂或粘接剂不易向空隙浸透。因此，不需要其它浸透抑制层的形成，可以使上述本专利技术的空隙层与粘合粘接层直接层叠。因此，可以避免由上述浸透抑制层的形成工序导致的制造工序的增加。在上述本专利技术的空隙层中，粘合剂或粘接剂不易向空隙浸透的理由(机理)例如考虑如下。首先，利用具有表面取向性的化合物(例如具有全氟烷基的化合物)的表面取向性(向空气界面的移动性)，对用上述化合物进行了表面改性的纳米粒子本身赋予表面取向性。在此，仅通过具有表面取向性的化合物就可以进行空隙层的表面改性，但对于抑制宏观的粘合剂的浸透而言是不充分的。因此，通过纳米粒子填埋空隙层的最表面的空隙而物理性地抑制粘合剂或粘接剂的浸透。然而，未进行表面改性的纳米粒子没有表面取向性，因此，仅通过存在于空隙层中而不在空隙层表面进行取向，无法发挥浸透抑制效果。通过具有表面取向性的化合物对上述纳米粒子进行改性，由此，使上述纳米粒子具有对空隙层的表面取向性。由此，如上所述，上述纳米粒子填埋空隙层的最表面的空隙而物理性地抑制粘合剂或粘接剂的浸透。即，用具有表面取向性的化合物进行了改性的纳米粒子填埋空隙层的最表面的空隙，由此，在上述最表面(表层)形成粘合剂或粘接剂的浸透抑制层。由此，如上所述，不需要形成其它浸透抑制层的工序，可以避免由上述浸透抑制层的形成工序导致的制造工序的增加。然而，这些机理仅为示例，不对本专利技术构成任何限定。为了制造本专利技术的空隙层，例如，如后本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种空隙层，其包含用具有表面取向性的化合物进行了表面改性的纳米粒子，且空隙率为35体积％以上。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170929 JP 2017-1907471.一种空隙层，其包含用具有表面取向性的化合物进行了表面改性的纳米粒子，且空隙率为35体积％以上。


2.根据权利要求1所述的空隙层，其中，
所述具有表面取向性的化合物为烷氧基硅烷衍生物，
所述烷氧基硅烷衍生物含有氟原子数为5～17的氟烷基。


3.根据权利要求1或2所述的空隙层，其含有相对于所述空隙层的骨架成分为10～50质量％的所述纳米粒子。


4.一种层叠体，其是将权利要求1～...

【专利技术属性】
技术研发人员：服部大辅，岸敦史，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP