空隙层、层叠体、空隙层的制造方法、光学构件及光学装置制造方法及图纸

技术编号:24178389 阅读:79 留言:0更新日期:2020-05-16 05:32
本发明专利技术的目的在于,提供粘合剂或粘接剂不易向空隙浸透的空隙层。为了实现上述目的,本发明专利技术的空隙层的特征在于,其包含用具有表面取向性的化合物进行了表面改性的纳米粒子,并且空隙率为35体积%以上。

Manufacturing method, optical components and optical devices of void layer, laminated body and void layer

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】空隙层、层叠体、空隙层的制造方法、光学构件及光学装置
本专利技术涉及空隙层、层叠体、空隙层的制造方法、光学构件及光学装置。
技术介绍
在光学器件中,例如,利用低折射率的空气层作为全反射层。具体而言,例如,液晶器件中的各光学膜构件(例如,导光板和反射板)夹隔着空气层而层叠。然而,如果各构件间被空气层隔开,则特别是在构件为大型的情况下等,有可能会引起构件的挠曲等问题。另外,由于器件薄型化的趋势,期望各构件的一体化。因此,进行了利用粘合粘接剂将各构件一体化而不在其间夹隔空气层(例如专利文献1)。然而,如果没有发挥全反射作用的空气层,则有可能会导致漏光等光学特性降低。因此,提出了使用低折射率层来代替空气层。例如,在专利文献2中记载了在导光板与反射板之间插入折射率比导光板低的层的结构。作为低折射率层,例如,为了将折射率尽量设为接近空气的低折射率,使用具有空隙的空隙层。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2012-156082号公报专利文献2:日本特开平10-62626号公报<br>
技术实现思路
<本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种空隙层,其包含用具有表面取向性的化合物进行了表面改性的纳米粒子,且空隙率为35体积%以上。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170929 JP 2017-1907471.一种空隙层,其包含用具有表面取向性的化合物进行了表面改性的纳米粒子,且空隙率为35体积%以上。


2.根据权利要求1所述的空隙层,其中,
所述具有表面取向性的化合物为烷氧基硅烷衍生物,
所述烷氧基硅烷衍生物含有氟原子数为5~17的氟烷基。


3.根据权利要求1或2所述的空隙层,其含有相对于所述空隙层的骨架成分为10~50质量%的所述纳米粒子。


4.一种层叠体,其是将权利要求1~...

【专利技术属性】
技术研发人员:服部大辅岸敦史
申请(专利权)人:日东电工株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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