一种红外辐射敏感的阳图型可成像元件及其形成图像的方法技术

本发明专利技术提供了一种红外辐射敏感的阳图型可成像元件，所述的可成像元件包含:（a）底基、（b）覆盖在底基上方的内涂层、（c）覆盖在内涂层上方的外涂层。所述的内涂层包含一种衍生自马来酰亚胺单体和（甲基）丙烯酰胺单体的重复单元、并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P；所述的外涂层包含一种红外辐射吸收化合物和一种不同于内涂层的聚合物粘合剂Q。如此设计使得该可成像元件不仅可对最大波长为700~1200 nm的辐射敏感，而且当其用作平版印刷版前体时对化学溶剂具有良好的耐抗性，在使用过程中不易发生被印刷化学品侵蚀、溶解的现象，从而有利于延长平版印刷版的使用寿命。

A positive pattern imageable element sensitive to infrared radiation and its method of image formation

【技术实现步骤摘要】
一种红外辐射敏感的阳图型可成像元件及其形成图像的方法
本专利技术涉及一种红外辐射敏感材料及其由该材料制造的、具有改进耐化学品性能的阳图型可成像元件。本专利技术具体地涉及印刷领域的一种红外辐射敏感的阳图型平版印刷版前体，及使用该前体获得平版印刷版的方法。
技术介绍
用于制备平版印刷版材的可成像元件通常包含施加在载体亲水表面（或中间层）上的一个或多个可成像层，该可成像层包含一种或多种分散在粘结剂中的辐射敏感成分。在辐射成像后，通过合适的显影剂将可成像层的曝光区域或非曝光区域除去，露出下方的载体亲水表面。如果除去的是曝光区域，该可成像元件则被认为是阳图制版，相反地，如果除去的是非曝光的区域，该可成像元件被认为是阴图制版。无论哪种情况，可成像层中未被除去的区域是油墨接受性的，而通过显影过程露出的亲水表面则是接受水或水性溶液（通常是润版液）而排斥油墨的。现有技术中用于阳图制版的可成像元件的辐射敏感成分通常是含有酚醛清漆或其它酚醛聚合物粘结剂和重氮醌成像组分的可成像组合物。除此之外，还有基于各种酚醛树脂和红外辐射吸收化合物的可成像组合物。在实际的平版印刷中，常用的印刷室化学品对可成像组合物具有侵蚀作用，例如印版清洗剂、转印布洗涤剂和润版液中的醇替代物，尤其是在使用可紫外线固化的油墨的印刷方法中所用到的具有高的酯类、醚类或酮类含量的漂洗剂。因此，为了保证可紫外线固化油墨的正常印刷，可成像组合物中使用的辐射敏感性组合物必须要有良好的耐侵蚀性。然而，现有技术中常用的醌二叠氮化合物和酚醛树脂辐射敏感性组合物均可溶于清洁印刷版用的二醇醚溶剂，并不利于可紫外线固化油墨的印刷。因此，如何提高可成像组合物对溶剂和印刷室化学品的耐受性已成为本领域亟待解决的一个技术问题。
技术实现思路
本专利技术要解决的主要技术问题在于克服现有用于阳图型可成像元件的材料易受化学品侵蚀的缺陷，进而提供一种对含醇类化学品具有良好耐抗性的红外敏感可成像元件及利用该材料制得的平版印刷版前体。本专利技术解决上述技术问题的技术方案为：一种红外辐射敏感的阳图型可成像元件，其包含：（a）底基；（b）覆盖在底基上方的内涂层,其中包含一种衍生自马来酰亚胺单体和（甲基）丙烯酰胺单体的重复单元、并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P；（c）覆盖在内涂层上方的外涂层，包含一种红外辐射吸收化合物和一种不同于内涂层的聚合物粘结剂Q。所述的内涂层所包含的聚合物粘结剂P可由下面构造式（I）表示：—(A)x—(B)y—(C)z—(I)A代表衍生自一种或多种马来酰亚胺单体()的重复单元，其中R可以任选取代或非取代的烷基、取代或非取代的环烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的杂芳基、羟基、取代或非取代的烷氧基；B代表衍生自一种或多种（甲基）丙烯酰胺单体()的重复单元，其中R1可以任选氢，取代或非取代的烷基、取代或非取代的环烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的杂芳基、羟基、取代或非取代的烷氧基；R2可以任选氢或甲基；C代表衍生自一种或多种不同于A和B的其它烯键式不饱和可聚合单体的重复单元；其中基于构造式（I）聚合物粘结剂P的总重量x+y+z=100％，可以选择x为1~85wt%、y为1~80wt%、z为1~80wt%的任意组合;并且所述聚合物粘合剂P占内涂层总重量的40~99.9wt%。所述的内涂层还可以选择包含一种背景对比染料，所述背景对比染料为在可见光区域中具有高吸收的染料，优选自油溶性染料和/或碱性染料中的一种或多种混合。所述背景对比染料的添加量占所述内涂层总重量的0.1~8wt%。所述的内涂层还可以选择包含一种红外辐射吸收化合物，所述红外辐射吸收化合物的波长吸收范围为700-1200nm，优选自花菁染料、蒽醌染料、酞菁染料、醌亚胺染料或甲川菁染料的一种或多种。所述红外辐射吸收化合物的添加量占所述内涂层总重量的0.1~10wt%。所述的内涂层还可以选择包含一种产酸剂，所述产酸剂为鎓盐、三嗪、酸酐、磺酸酯中的一种或多种。所述产酸剂的添加量占所述内涂层总重量的0.1~10wt%。所述内涂层还包含有一种聚合物粘结剂P1，所述聚合物粘结剂P1可选自酚醛树酯、聚苯乙烯衍生物、聚氨酯和不同于聚合物粘结剂P的聚丙烯酸（酯）中的一种或多种，所述聚合物粘结剂P1的添加量占所述内涂层总重量的1~40wt%。所述的外涂层包含一种具有波长吸收范围在700-1200nm之间的红外辐射吸收化合物一种不同于内涂层的聚合物粘结剂Q，所述红外辐射吸收化合物的添加量占所述外涂层总重量的0.5~20wt%；所述聚合物粘结剂Q的添加量占所述外涂层总重量的80~99.5wt%。所述的红外辐射吸收化合物可选自花菁染料、蒽醌染料、酞菁染料、醌亚胺染料或甲川菁染料的一种或多种，而所述的聚合物粘结剂Q可衍生自酚醛树酯、聚羟基苯乙烯、聚氨酯和不同于内涂层聚合物粘结剂P的聚丙烯酸酯中的一种或多种。所述的外涂层还可以选择包含一种溶解抑制剂，所述溶解抑制剂可选自三芳基甲烷染料、鎓盐、酮和酯类化合物中的一种或多种，所述溶解抑制剂的添加量占所述外涂层总重量的0.1~20wt%。所述的外涂层还可以选择包含一种产酸剂，所述产酸剂可选自鎓盐、三嗪、酸酐、磺酸酯的一种或多种，所述产酸剂的添加量占所述内涂层总重量的0.2~10wt%。所述的阳图型可成像元件为一种具有亲水性底基的阳图型平版印刷版前体。并且所述亲水性底基优选一种经电解粗糙化及阳极氧化处理的铝基材。本专利技术还提供—种形成图像的方法，所述方法包括：A)采用波长700-1200nm辐射的红外激光器对所述的可成像元件实施按图像曝光，从而形成含曝光和未曝光区域的已成像元件，B)使所述已成像元件与pH值小于14的碱性显影剂接触以仅除去所述曝光区域，制成已成像并显影的元件。本专利技术还提供根据上述形成图像的方法获得的平版印刷版。本文中用到的术语"可成像元件"和"平版印刷版前体"具有类似的性能。本专利技术所述的多层可成像元件可以有多种方式使用，优选的用途是作为平版印刷版前体，但这不意味着是本专利技术的唯一用途。例如，本专利技术的可成像元件也可用来制备光刻胶、印刷电路板、微电子和微光学装置，或具有其它非成像用途如用在油漆或涂料组合物中。（一）可成像元件的组份本专利技术的可成像元件通常包含底基、内涂层(也称"底层")和覆盖在所述内涂层上的外涂层(也称"顶层")。热成像前，所述外涂层不可被碱性显影剂除去，但在热成像后，所述外涂层的成像(曝光)区域可被碱性显影剂除去，同时所述内涂层也可被碱性显影剂除去。本专利技术的可成像元件中存在辐射吸收化合物，所述辐射吸收化合物通常为吸收波长在700-1200nm范围的近红外辐射吸收化合物。优选该化合物全部单独存在于外涂层中，但也可以选择同时分别存在于外涂层和内涂层中。本专利技术的可成像元件的底基通常采用具有平整表面的材料，且在使用条件下是坚固、稳定、韧性及尺寸不变。所述底基可为任何自支承材料，包括聚合物膜(如聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、纤本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种红外辐射敏感的阳图型可成像元件，其特征在于包含：/n（a）底基；/n（b）覆盖在底基上方的内涂层, 所述内涂层包含一种衍生自马来酰亚胺单体和（甲基）丙烯酰胺单体的重复单元、并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P；/n（c）覆盖在内涂层上方的外涂层，所述外涂层包含一种红外辐射吸收化合物和一种不同于内涂层的聚合物粘结剂Q。/n

【技术特征摘要】
1.一种红外辐射敏感的阳图型可成像元件，其特征在于包含：
（a）底基；
（b）覆盖在底基上方的内涂层,所述内涂层包含一种衍生自马来酰亚胺单体和（甲基）丙烯酰胺单体的重复单元、并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P；
（c）覆盖在内涂层上方的外涂层，所述外涂层包含一种红外辐射吸收化合物和一种不同于内涂层的聚合物粘结剂Q。


2.根据权利要求1所述的阳图型可成像元件，其特征在于：所述的内涂层所包含的聚合物粘结剂P可由下面构造式（I）表示：
—(A)x—(B)y—(C)z—(I)
A代表衍生自一种或多种马来酰亚胺单体()的重复单元，其中R可以任选取代或非取代的烷基、取代或非取代的环烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的杂芳基、羟基、取代或非取代的烷氧基；B代表衍生自一种或多种（甲基）丙烯酰胺单体()的重复单元，其中R1可以任选氢、取代或非取代的烷基、取代或非取代的环烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的杂芳基、羟基、取代或非取代的烷氧基；R2可以任选氢或甲基；C代表衍生自一种或多种不同于A和B的其它烯键式不饱和可聚合单体的重复单元；其中基于构造式（I）聚合物粘结剂P的总重量x+y+z=100％，其中x为1~85wt%、y为1~80wt%、z为1~80wt%的任意组合。


3.根据权利要求1所述的阳图型可成像元件,其特征在于：所述聚合物粘合剂P占内涂层总重量的40~99.9wt%。


4.根据权利要求1所述的阳图型可成像元件,其特征在于：所述的内涂层还包含一种背景对比染料，所述背景对比染料为在可见光区域中具有高吸收的染料，所述背景对比染料的添加量占所述内涂层总重量的0.1~8wt%。


5.根据权利要求4所述的阳图型可成像元件，其特征在于：所述背景对比染料为油溶性染料和/或碱性染料中的一种或多种混合。


6.根据权利要求1所述的阳图型可成像元件,其特征在于：所述的内涂层还包含一种红外辐射吸收化合物，所述红外辐射吸收化合物的波长吸收范围为700-1200nm，所述红外辐射吸收化合物的添加量占所述内涂层总重量的0.1~10wt%。


7.根据权利要求6所述的阳图型可成像元件，其特征在于：所述红外辐射吸收化合物为花菁染料、蒽醌染料、酞菁染料、醌亚胺染料或甲川菁染料中的一种或多种。


8.根据权利要求1所述的阳图型可成像元件，其特征在于：所述的内涂层还包含一种产酸剂，所述产酸剂的添加量占所述内涂层总重量的0.1~10wt%。


9.根据权利要求8...

【专利技术属性】
技术研发人员：翁银巧，陶烃，高邈，徐能平，应作挺，马显瑶，焦乐泽，
申请(专利权)人：浙江康尔达新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33