一种紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体及形成图像的方法技术

本发明专利技术提供了一种紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体，所述的平版印刷版前体包含:（a）底基、（b）覆盖在底基上方的内涂层、（c）覆盖在内涂层上方的外涂层。所述的内涂层包含一种衍生自马来酰亚胺单体的重复单元并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P，其中马来酰亚胺除外的其它重复单元衍生自酸度系数pKa大于8的可聚合单体；所述的外涂层包含一种光敏剂和不同于内涂层的另一种聚合物粘合剂Q。如此设计使得该平版印刷版前体不仅可对最大波长为350~450 nm的辐射敏感，而且所制成的可成像印版前体还对化学溶剂具有良好的耐抗性，在使用过程中不易发生被印刷化学品侵蚀、溶解的现象，从而有利于延长平版印刷版的使用寿命。

A UV and Visible Light Sensitive Photolithographic Printing Plate Precursor and Image Forming Method

The invention provides an ultraviolet and visible light sensitive lithographic lithographic plate precursor, which comprises: (a) a base, (b) an inner coating covering the top of the base, and (c) an outer coating covering the top of the inner coating. The inner coating comprises a repetitive unit derived from maleimide monomer and a polymer binder P soluble in alkaline developer, in which the other repetitive units except maleimide derive from a polymerizable monomer whose acidity coefficient pKa is greater than 8; the outer coating comprises a photosensitizer and another polymer binder Q different from the inner coating. This design makes the lithographic plate precursor not only sensitive to radiation with a maximum wavelength of 350-450 nm, but also has a good resistance to chemical solvents. It is not easy to be eroded and dissolved by printing chemicals in the use process, which is conducive to prolonging the service life of lithographic plate.

【技术实现步骤摘要】
一种紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体及形成图像的方法
本专利技术属于平版胶印用印刷版材领域，具体涉及一种紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体。本专利技术也涉及使用该前体获得平版印刷版的方法。
技术介绍
用于制备平版印刷版材的可成像元件通常包含施加在载体亲水表面（或中间层）上的一个或多个可成像层，该可成像层包含一种或多种分散在粘结剂中的辐射敏感成分。在辐射成像后，通过合适的显影剂将可成像层的曝光区域或非曝光区域除去，露出下方的载体亲水表面。如果除去的是曝光区域，该可成像元件则被认为是阳图制版，相反地，如果除去的是非曝光的区域，该可成像元件被认为是阴图制版。无论哪种情况，可成像层中未被除去的区域是油墨接受性的，而通过显影过程露出的亲水表面则是接受水或水性溶液（通常是润版液）而排斥油墨的。现有技术中用于阳图制版的可成像元件的辐射敏感成分通常是含有酚醛清漆或其它酚醛聚合物粘结剂和重氮醌成像组分的可成像组合物。除此之外，还有基于各种酚醛树脂和红外辐射吸收化合物的可成像组合物。在实际的平版印刷中，常用的印刷室化学品对可成像组合物具有侵蚀作用，例如印版清洗剂、转印布洗涤剂和润版液中的醇替代物，尤其是在使用可紫外线固化的油墨的印刷方法中所用到的具有高的酯类、醚类或酮类含量的漂洗剂。因此，为了保证可紫外线固化油墨的正常印刷，可成像组合物中使用的辐射敏感性组合物必须要有良好的耐侵蚀性。然而，现有技术中常用的醌二叠氮化合物和酚醛树脂辐射敏感性组合物均可溶于清洁印刷版用的二醇醚溶剂，并不利于可紫外线固化油墨的印刷。因此，如何提高可成像组合物对溶剂和印刷室化学品的耐受性已成为本领域亟待解决的一个技术问题。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题在于克服现有的用于平版制版的可成像组合物易受印刷室化学品侵蚀的缺陷，进而提供一种对印刷室化学品具有良好耐抗性的光敏感组合物及利用该组合物制得的平版印刷版前体。本专利技术解决上述技术问题的技术方案为：一种紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体，其特征在于包含：（a）底基，（b）覆盖在底基上方的内涂层,所述内涂层包含一种衍生自马来酰亚胺单体的重复单元并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P，其中马来酰亚胺除外的其它重复单元衍生自酸度系数pKa大于8的可聚合单体；（c）覆盖在内涂层上方的外涂层，所述外涂层包含一种光敏剂和不同于内涂层的另一种聚合物粘结剂Q。所述的内涂层所包含的聚合物粘结剂P由下面构造式（I）表示：—(A)x—(B)y—(I)其中A表示衍生自马来酰亚胺单体()的重复单元，B表示衍生自一种或多种具有的烯键式不饱和基团并且酸度系数pKa大于8可聚合单体的其它重复单元；以及基于聚合物粘结剂P的总重量，x占3-30wt%，y占70-93wt%。并且所述聚合物粘合剂P与内涂层总重量之比为0.40:1~0.99:1，即占内涂层总重量的40-99wt%。所述的内涂层还包含一种背景对比染料，所述背景对比染料为在可见光区域中具有高吸收的染料，优选油溶性染料和/或碱性染料中的一种或多种混合。所述背景对比染料的添加量占所述内涂层总重量的0.1~8wt%。所述的内涂层还包含一种产酸剂，所述产酸剂为鎓盐、三嗪、重氮萘醌磺酸酯中的一种或多种。所述产酸剂的添加量占所述内涂层总重量的0.1~10wt%。所述内涂层还包含一种聚合物粘结剂P1，所述聚合物粘结剂P1可选自酚醛树酯、聚苯乙烯衍生物、聚氨酯和不同于聚合物粘结剂P的聚丙烯酸（酯）中的一种或多种，所述粘结剂P1的添加量占所述内涂层总重量的1~40wt%。所述的外涂层至少包含一种具有波长吸收范围在350-450nm之间的光敏剂，所述光敏剂优选自重氮萘醌磺酸酯类化合物的一种或多种。所述光敏剂的添加量占所述组合物总重量的5~50wt%。所述的外涂层包含一种聚合物粘结剂Q，可选自酚醛树酯、聚（羟基苯乙烯）、聚氨酯和聚丙烯酸（酯）中的一种或多种，所述聚合物粘结剂Q的添加量占所述外涂层总重量的50~95wt%。所述外涂层还包含一种溶解抑制剂，所述溶解抑制剂为三芳基甲烷染料、鎓盐、酮或酯类化合物中的一种或多种，所述溶解抑制剂的添加量占所述外涂层总重量的0.1~20wt%。所述的外涂层还可能包含一种产酸剂，所述产酸剂可选自鎓盐、三嗪的一种或多种，所述产酸剂的添加量占所述内涂层总重量的0.2~10wt%。所述的平版印刷版前体的底基为经电解粗糙化及阳极氧化处理的铝基材。所述的紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体形成图像的方法，所述方法包括：A)用紫外和可见光辐射对所述平版印刷版前体实施按图像曝光，从而形成含曝光和未曝光区域的已成像元件，B)使所述已成像元件与碱性显影剂接触以仅除去所述曝光区域，制成的平版印刷版。所述按图像曝光采用波长350-450nm辐射的紫外和可见光激光器进行，并且所述碱性显影剂是pH值小于14的水性溶液。本文中用到的术语"可成像元件"和"平版印刷版前体"具有相同的意思。本专利技术所述的多层可成像元件可以有多种方式使用，优选的用途是作为平版印刷印版的前体，但这不意味着是本专利技术的唯一用途。例如，本专利技术的可成像元件也可用来制备光刻胶、印刷电路板、微电子和微光学装置，或具有其它非成像用途如用在油漆组合物中。（一）可成像元件的组份本专利技术的可成像元件通常包含底基、内涂层(也称"底层")和覆盖在所述内涂层上的外涂层(也称"顶层")。热成像前，所述外涂层不可被碱性显影剂除去，但在热成像后，所述外涂层的成像(曝光)区域可被碱性显影剂除去,所述内涂层也可同时被碱性显影剂除去。本专利技术的可成像元件中存在辐射吸收化合物，所述辐射吸收化合物通常为吸收波长在350-450nm范围的紫外和可见光吸收化合物。优选该化合物全部单独存在于外涂层中，但也可选择同时分别存在于外涂层和内涂层中。本专利技术的可成像元件的底基通常具有亲水表面，且在使用条件下是坚固、稳定、韧性及尺寸不变。通常，所述底基可为任何自支撑材料，包括聚合物膜(如聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、纤维素酯聚合物和聚苯乙烯膜)、玻璃、陶瓷、金属板或箔、或硬纸(包括树脂涂布纸和镀金属纸)或任何这些材料的叠合物(如铝箔与聚酯膜的叠合物)。金属底基包括铝、铜、锌、钛及其合金的板或箔。优选的底基由铝载体组成，所述铝载体可用本领域熟知的技术处理，所述技术包括物理磨版、电化学磨版、化学磨版和阳极氧化处理。所述的化学磨版和阳极氧化处理的铝载体可进一步采用例如硅酸盐、糊精、六氟硅酸、含碱金属卣化物(如氟化钠）的碱金属磷酸盐溶液、聚（乙烯基膦酸)(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物、聚(丙烯酸)或丙烯酸共聚物处理形成一层亲水层。本专利技术优选磨版和阳极化处理的铝载体用已知程序经碱金属磷酸盐溶液处理以改进表面亲水性。底基的厚度可变，但应足以承受来自印刷的磨损而又足够薄以包绕印刷机滚筒。优选的实施方案包括厚度0.1-0.6|mm的铝箔。底基也可为其上施加各种层组合物的柱面并从而构成印刷机的一体部分。这类成像滚筒的使用见述于例如美国专利5713287中。本专利技术的可成像元件的内涂层包含至少一种衍生自马来酰亚胺单体的重复单元并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P，由下面构造式（I）表示：—(A)x—(B)y—(I)其中A表示衍生自马来酰亚胺单体()的重复单元，占聚合物粘结剂P总重量的3-3本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体，其特征在于包含：（a）底基，（b）覆盖在底基上方的内涂层, 所述内涂层包含一种衍生自马来酰亚胺单体的重复单元并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P， 其中马来酰亚胺除外的其它重复单元衍生自酸度系数pKa大于8的可聚合单体；（c）覆盖在内涂层上方的外涂层，所述外涂层包含一种光敏剂和不同于内涂层的另一种聚合物粘结剂Q。

【技术特征摘要】
1.一种紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体，其特征在于包含：（a）底基，（b）覆盖在底基上方的内涂层,所述内涂层包含一种衍生自马来酰亚胺单体的重复单元并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P，其中马来酰亚胺除外的其它重复单元衍生自酸度系数pKa大于8的可聚合单体；（c）覆盖在内涂层上方的外涂层，所述外涂层包含一种光敏剂和不同于内涂层的另一种聚合物粘结剂Q。2.根据权利要求1所述的紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体，其特征在于：所述的内涂层所包含的聚合物粘结剂P由下面构造式（I）表示：—(A)x—(B)y—(I)其中A表示衍生自马来酰亚胺单体()的重复单元，B表示衍生自一种或多种具有的烯键式不饱和基团并且酸度系数pKa大于8可聚合单体的其它重复单元；以及基于聚合物粘结剂P的总重量，x占3-30wt%，y占70-93wt%。3.根据权利要求1所述的紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体,其特征在于：所述聚合物粘合剂P与内涂层总重量之比为0.40:1~0.99:1。4.根据权利要求1所述的紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体,其特征在于：其中所述的内涂层还包含一种背景对比染料，所述背景对比染料为在可见光区域中具有高吸收的染料，所述背景对比染料的添加量占所述内涂层总重量的0.1~8wt%。5.根据权利要求4所述的紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体，其特征在于：所述背景对比染料为油溶性染料和/或碱性染料中的一种或多种混合。6.根据权利要求1所述的紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体,其特征在于：其中所述内涂层还包含一种产酸剂，所述产酸剂的添加量占所述内涂层总重量的0.1~10wt%。7.根据权利要求6所述的紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体，其特征在于：所述产酸剂为鎓盐、三嗪、重氮萘醌磺酸酯中的一种或多种。8.根据权利要求1所述的紫外和可见光敏感的阳图型平版印刷版前体,其特征在于：所述内涂层还包含一种聚合物粘结剂P1，所述聚合物粘结剂P1选自酚醛树酯、聚苯乙烯衍生物、聚氨酯和不同于聚合物粘结剂P的聚丙烯...

【专利技术属性】
技术研发人员：翁银巧，陶烃，徐能平，高邈，应作挺，马显瑶，金剑臣，王林勇，
申请(专利权)人：浙江康尔达新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33