【技术实现步骤摘要】
纳米结构DLC薄膜、增硬玻璃、制备装备及制备方法
本专利技术涉及真空溅射
,尤其涉及的是一种纳米结构DLC薄膜、增硬玻璃、制备装备及制备方法。
技术介绍
对于目前广泛应用于手机、显示器等数码产品的盖板玻璃,现有的抛光加工手段使玻璃表面非常容易划伤,严重影响玻璃性能和美观。而DLC(DiamondLikeCarbon)膜作为一种非晶态薄膜,具有良好的光透过率、高硬度、低摩擦系数、高耐磨性、高导热、绝缘、合适的禁带宽度的特点,是手机、显示器等数码产品良好的透明材料(主要为玻璃)的保护层。但是,由于DLC薄膜具有很高的内应力,往往膜层的厚度超过0.3微米以上,就容易出现薄膜开裂、脱落等问题,为解决此类问题,一般都会对DLC薄膜进行掺杂,但掺杂后会导致DLC薄膜硬度下降,影响其保护作用。因此,如何制得一种DLC薄膜,使其在具备不易脱落和保证硬度的情况下,还能与玻璃非常好地结合,这是一个亟待解决的问题。因此,现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种纳米结构DLC薄膜、增 ...
【技术保护点】
1.一种纳米结构DLC薄膜,其特征在于,包括由下到上依次设置的第一氮化硅层(1)、至少一层第二材料层和第一DLC薄膜层(4),所述第二材料层包括由下到上依次设置第二DLC薄膜层(2)和第二氮化硅层(3),各层第二材料层中的第二DLC薄膜层(2)厚度一致或不相等,各层第二材料层组中的第二氮化硅层(3)厚度一致或不相等。/n
【技术特征摘要】
1.一种纳米结构DLC薄膜,其特征在于,包括由下到上依次设置的第一氮化硅层(1)、至少一层第二材料层和第一DLC薄膜层(4),所述第二材料层包括由下到上依次设置第二DLC薄膜层(2)和第二氮化硅层(3),各层第二材料层中的第二DLC薄膜层(2)厚度一致或不相等,各层第二材料层组中的第二氮化硅层(3)厚度一致或不相等。
2.根据权利要求1所述的纳米结构DLC薄膜,其特征在于,所述第二材料层设置至少10层。
3.根据权利要求1或2任一所述的纳米结构DLC薄膜,其特征在于,所述第二材料层设置10至15层。
4.根据权利要求1所述的纳米结构DLC薄膜,其特征在于,所述第一氮化硅层(1)的厚度为10-100纳米。
5.根据权利要求1所述的纳米结构DLC薄膜,其特征在于,所述第二DLC薄膜层(2)的厚度为5-15纳米。
6.根据权利要求1所述的纳米结构DLC薄膜,其特征在于,所述第二氮化硅层(3)的厚度为2-10纳米。
7.根据权利要求1所述的纳米结构DLC薄膜,其特征在于,所述第一DLC薄膜层(4)的厚度为10-100纳米。
8.一种增硬玻璃,其特征在于,包括玻璃基体(A1)和如权利要求1-7任一所述的纳米结构DLC薄膜(A2),所述纳米结构DLC薄膜设置在玻璃基体上,第一氮化硅层与玻璃基体贴合。
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【专利技术属性】
技术研发人员:胡琅,徐平,胡强,侯立涛,程远达,侯少毅,何斌,
申请(专利权)人:季华实验室,
类型:发明
国别省市:广东;44
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