氧化物陶瓷工件的清洗方法技术

本发明专利技术实施例公开了一种氧化物陶瓷工件的清洗方法，包括以下过程：将所述氧化物陶瓷工件置于碱性清洗剂中进行浸泡；将浸泡后的所述氧化物陶瓷工件用酸溶液进行冲洗，所述冲洗的时间为10s～60s。本发明专利技术的上述技术方案中，碱性清洗剂不与氧化物陶瓷反应，即使长时间浸泡氧化物陶瓷工件，也不会损伤氧化物陶瓷工件，之后，用酸溶液冲洗，极大的缩短了酸溶液与氧化物陶瓷工件的接触时间，避免酸溶液对氧化物陶瓷工件的损伤，因此，本发明专利技术在不损伤氧化物工件的前提下提高了对氧化物陶瓷工件的去污能力。

【技术实现步骤摘要】
氧化物陶瓷工件的清洗方法
本专利技术涉及清洗
，更具体地，涉及一种氧化物陶瓷工件的清洗方法。
技术介绍
氧化物陶瓷是指由一种或数种氧化物制成的陶瓷。氧化物陶瓷因具有较高的熔融温度、电绝缘性、机械强度和化学稳定性等，被广泛应用在光学材料、发光材料、晶体材料、磁性材料、电池材料、电子陶瓷、工程陶瓷、催化剂等领域。氧化物陶瓷按组份可分为单一氧化物陶瓷，如氧化铝陶瓷、氧化铍陶瓷、二氧化钛陶瓷、氧化钇陶瓷等，以及复合氧化物陶瓷，如尖晶石MgO·Al2O3、莫来石3Al2O3·2SiO2、锆钛酸铅PZT陶瓷等。氧化钇粒径小、活性高，具有极强的光、电、磁性质、超导性、高化学活性等，被用来应用在陶瓷面板中，通过用熔射的方式在陶瓷面板表面镀上氧化钇陶瓷层，该氧化钇陶瓷层能够显著改善陶瓷面板的抗高温稳定性等。在陶瓷面板的加工过程中，氧化钇陶瓷层上会形成一层污染层，该污染层包含有Si、F、Cl、Al的化合物和各种耐酸难溶物质，现有方法是采用盐酸浸渍面板，去除面板表面的污染层，但是，盐酸中Cl原子核非常小，电负性很强，具有较强的剥离作用，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，包括以下过程：/n将所述氧化物陶瓷工件置于碱性清洗剂中进行浸泡；/n将浸泡后的所述氧化物陶瓷工件用酸溶液进行冲洗，所述冲洗的时间为10s～60s。/n

【技术特征摘要】
1.一种氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，包括以下过程：
将所述氧化物陶瓷工件置于碱性清洗剂中进行浸泡；
将浸泡后的所述氧化物陶瓷工件用酸溶液进行冲洗，所述冲洗的时间为10s～60s。


2.根据权利要求1所述的氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，所述碱性清洗剂为质量浓度为10％～50％的强碱溶液。


3.根据权利要求2所述的氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，所述强碱溶液为NaOH溶液。


4.根据权利要求1所述的氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，所述浸泡的时间为1h～10h。


5.根据权利要求1～4中任意一项所述的氧化物陶瓷工件的清洗方法，其特征在于，所述碱性清洗剂的温度为40℃～60℃。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊志红，郑思温，
申请(专利权)人：深圳仕上电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44