一种电弧沉积设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种电弧沉积设备，包括电镀组件，所述电镀组件包括真空室和靶材，所述靶材固定于所述真空室的外表面，还包括消磁组件，所述消磁组件包括磁块、隔磁片和导热板，且所述导热板套设于所述磁块的外表面，所述隔磁片卡接于所述导热板，并位于所述导热板的外表面，所述导热板的内部开设有容纳冷却水的空腔；在进行使用的过程中，在导热板的内部开设有空腔，并且，冷却水盛设在该空腔内，在导热板的作用下，即将磁块与冷却水相隔离，并且，在隔磁片的作用下，便可避免磁块长时间浸泡在冷却水中出现消磁的现象，使电弧沉积设备能够顺利的进行工作。

An arc deposition equipment

【技术实现步骤摘要】
一种电弧沉积设备
本技术属于电弧沉积
，尤其涉及一种电弧沉积设备。
技术介绍
电弧离子镀是工业镀膜生产以及科学研究中最重要的技术之一，由于其结构简单，离化率高(70％-80％)，入射粒子能量高，绕射性好，可实现低温沉积等一系列优点，使电弧离子镀技术得到快速发展并获得广泛应用，展示出很大的经济效益和工业应用前景。目前市场上的电弧沉积设备在进行使用的过程中，磁块长时间浸泡在冷却液内部，易导致磁块出现消磁的现象，进而影响电弧沉积设备的正常使用。
技术实现思路
本技术提供一种电弧沉积设备，旨在解决目前市场上的电弧沉积设备在进行使用的过程中，磁块长时间浸泡在冷却液内部，易导致磁块出现消磁的现象，进而影响电弧沉积设备的正常使用问题。本技术是这样实现的，一种电弧沉积设备，包括电镀组件，所述电镀组件包括真空室和靶材，所述靶材固定于所述真空室的外表面，还包括消磁组件，所述消磁组件包括磁块、隔磁片和导热板，且所述导热板套设于所述磁块的外表面，所述隔磁片卡接于所述导热板，并位于所述导热板的外表面，所述导热板的内部开设有容纳冷却水本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电弧沉积设备，包括电镀组件(1)，所述电镀组件(1)包括真空室(11)和靶材(15)，所述靶材(15)固定于所述真空室(11)的外表面，其特征在于，还包括消磁组件(2)，所述消磁组件(2)包括磁块(21)、隔磁片(24)和导热板(26)，且所述导热板(26)套设于所述磁块(21)的外表面，所述隔磁片(24)卡接于所述导热板(26)，并位于所述导热板(26)的外表面，所述导热板(26)的内部开设有容纳冷却水的空腔(25)。/n

【技术特征摘要】
1.一种电弧沉积设备，包括电镀组件(1)，所述电镀组件(1)包括真空室(11)和靶材(15)，所述靶材(15)固定于所述真空室(11)的外表面，其特征在于，还包括消磁组件(2)，所述消磁组件(2)包括磁块(21)、隔磁片(24)和导热板(26)，且所述导热板(26)套设于所述磁块(21)的外表面，所述隔磁片(24)卡接于所述导热板(26)，并位于所述导热板(26)的外表面，所述导热板(26)的内部开设有容纳冷却水的空腔(25)。


2.如权利要求1所述的一种电弧沉积设备，其特征在于，所述电镀组件(1)还包括基体(12)、引弧针(13)、引弧线圈(14)和导磁块(16)，所述导磁块(16)固定连接于所述靶材(15)，并位于所述靶材(15)的外表面，所述基体(12)与所述靶材(15)向对应，并固定连接于所述真空室(11)，所述引弧线圈(14)固定于所述真空室(11)的外壁，且所述引弧针(13)的一端固定连接于所述引弧线圈(14)。


3.如权利要求1所述的一种电弧沉积设备，其特征在于，所述消磁组件(2)还包括冷却套(22)，所述冷...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛山，周健，章国良，
申请(专利权)人：苏州虎伏新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32