【技术实现步骤摘要】
一种ITO旋转靶绑定设备
本技术涉及ITO旋转靶绑定设备
，尤其是涉及一种ITO旋转靶绑定设备。
技术介绍
ITO旋转靶材呈空心圆管状，能够围绕固定的条状磁铁组件旋转，可360度均匀刻蚀靶面，具有利用率高，镀膜连续性好、镀膜成分均匀等优点。ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，被广泛应用于平面相似等领域。ITO是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡，ITO的材料脆硬，ITO旋转靶材在绑定过程中由于背管与变形、绑定焊料的流动性不佳导致焊合率低、靶材受热不均等多个因素影响ITO旋转靶材绑定的质量不稳定，ITO旋转靶材的绑定直接影响厚度镀膜工艺的稳定性和成膜的质量等。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术的目的是提供一种ITO旋转靶绑定设备，ITO靶材绑定质量稳定，绑定效果好，生产效率高。为了实现上述目的，本技术所采用的技术方案是：一种ITO旋转靶绑定设备，包括用于加热旋转靶背管的背管内加热装置、升降平台和工装定位装置，背管内加热装置固定于地面，升降平台滑动安装于背管内加热装置的一侧，背管内加热装置包括加热管和底座，底座固定于地面，加热管竖直安装于底座；工装定位装置包括工装底盘、用于限定背管端头至第一节ITO靶材距离的定位环、拉杆和端盖，加热管穿过工装底盘，工装底盘的一端活动放置于底座，工装底盘的另一端安装有定位环，背管的一端插入至定位环，背管的另一端安装有端盖，工装底盘的边缘设置有底盘孔，端盖的边缘设置有端盖孔，端盖孔与底盘孔的位置相对应，拉杆的两端分别安装于位置对应的端盖孔和底盘孔。<...
【技术保护点】
1.一种ITO旋转靶绑定设备，其特征在于：包括用于加热旋转靶背管(10)的背管内加热装置(20)、升降平台(60)和工装定位装置，背管内加热装置(20)固定于地面，升降平台(60)滑动安装于背管内加热装置(20)的一侧，背管内加热装置(20)包括加热管(21)和底座(22)，底座(22)固定于地面，加热管(21)竖直安装于底座(22)；/n工装定位装置包括工装底盘(31)、用于限定背管(10)端头至第一节ITO靶材距离的定位环(40)、拉杆(12)和端盖(50)，加热管(21)穿过工装底盘(31)，工装底盘(31)的一端活动放置于底座(22)，工装底盘(31)的另一端安装有定位环(40)，背管(10)的一端插入至定位环(40)，背管(10)的另一端安装有端盖(50)，工装底盘(31)的边缘设置有底盘孔(32)，端盖(50)的边缘设置有端盖孔(51)，端盖孔(51)与底盘孔(32)的位置相对应，拉杆(12)的两端分别安装于位置对应的端盖孔(51)和底盘孔(32)。/n
【技术特征摘要】
1.一种ITO旋转靶绑定设备，其特征在于：包括用于加热旋转靶背管(10)的背管内加热装置(20)、升降平台(60)和工装定位装置，背管内加热装置(20)固定于地面，升降平台(60)滑动安装于背管内加热装置(20)的一侧，背管内加热装置(20)包括加热管(21)和底座(22)，底座(22)固定于地面，加热管(21)竖直安装于底座(22)；
工装定位装置包括工装底盘(31)、用于限定背管(10)端头至第一节ITO靶材距离的定位环(40)、拉杆(12)和端盖(50)，加热管(21)穿过工装底盘(31)，工装底盘(31)的一端活动放置于底座(22)，工装底盘(31)的另一端安装有定位环(40)，背管(10)的一端插入至定位环(40)，背管(10)的另一端安装有端盖(50)，工装底盘(31)的边缘设置有底盘孔(32)，端盖(50)的边缘设置有端盖孔(51)，端盖孔(51)与底盘孔(32)的位置相对应，拉杆(12)的两端分别安装于位置对应的端盖孔(51)和底盘孔(32)。
2.根据权利要求1所述的一种ITO旋转靶绑定设备，其特征在于：所述工装底盘(31)的底面设置有一保护限位部(35)，保护限位部(35)的形状与所述加热管(21)的形状相匹配，保护限位部(35)与加热管(21)间隙配合，保护限位部(35)在竖直方向比所述背管(10)的内壁距离更近于所述加热管(21)外壁。
3.根据权利要求2所述的一种ITO旋转靶绑定设备，其特征在于：所述工装底盘(31)的上部向内凹陷形成一定位安装部，所述定位环(40)活动卡合放置于定位安装部。
4.根据权利要求3所述的一种ITO旋转靶绑定设备，其特征在于：所述定位环(40)的下部的外侧壁向中部内缩形成一卡位部(42)，卡位部(42)卡位放置于所述定位安装部，定位环(40)上部的内侧壁向外扩展形成一背管放置平台...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈明恒，
申请(专利权)人：东莞市欧莱溅射靶材有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。