【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光掩膜、显示装置以及显示装置的制造方法
本专利技术涉及一种光掩膜、使用光掩膜的显示装置以及显示装置的制造方法。
技术介绍
已知一种显示装置包括：边缘罩(绝缘膜)，其覆盖有机发光二极管的阳极电极(下部电极)的周向边缘部；以及感光间隔物(肋)，其形成于上述阳极电极上，作为用于蒸镀上述发光材料的精密金属掩模的间隔物发挥功能(专利文献1)。上述边缘罩以覆盖阳极电极的周向边缘部的状态形成，阳极电极从形成于该边缘罩上的窗口中露出。之后，在该边缘罩上形成感光间隔物。现有技术文献专利文献专利文献1：日本公开专利公报：“特开2001-195008号公报(2001年7月19日公开)”
技术实现思路
专利技术要解决的课题如果使用具有灰色调图案的光掩膜统一形成上述边缘罩与上述感光间隔物，则2次的曝光工序只要1次的曝光工序就能完成，因此是有利的。然而，当形成多个小感光间隔物时，出现如下现象：在烧结时产生热流挂，感光间隔物变形，并且感光间隔物的高度降低。这种现象在高清显示装置中
【技术保护点】
1.一种光掩膜，其是用于形成显示装置的光掩膜中的、用于统一形成边缘罩的光掩膜，所述显示装置包括：多个第一电极；所述边缘罩，其覆盖所述第一电极的端部；岛状发光层，其覆盖所述第一电极与所述边缘罩的一部分；以及第二电极，所述光掩膜特征在于，/n所述边缘罩包括在所述第一电极处开口的开口部、平坦部、以及高于所述平坦部的多个感光间隔部，/n所述光掩膜包括：透过部，其形成所述开口部；半透射光部，其形成所述平坦部；以及遮光部，其形成所述感光间隔部，/n所述遮光部在排列成格子状的多个所述透过部之间形成为岛状，/n夹于2个所述透过部的所述遮光部的端部形成为沿所述透过部的外缘延伸。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光掩膜，其是用于形成显示装置的光掩膜中的、用于统一形成边缘罩的光掩膜，所述显示装置包括：多个第一电极；所述边缘罩，其覆盖所述第一电极的端部；岛状发光层，其覆盖所述第一电极与所述边缘罩的一部分；以及第二电极，所述光掩膜特征在于，
所述边缘罩包括在所述第一电极处开口的开口部、平坦部、以及高于所述平坦部的多个感光间隔部，
所述光掩膜包括：透过部，其形成所述开口部；半透射光部，其形成所述平坦部；以及遮光部，其形成所述感光间隔部，
所述遮光部在排列成格子状的多个所述透过部之间形成为岛状，
夹于2个所述透过部的所述遮光部的端部形成为沿所述透过部的外缘延伸。
2.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，
所述透过部形成为四边形状。
3.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，
所述半透射光部具有多个带状图案相互平行形成的图案。
4.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，
所述遮光部形成为其周向边缘部与所述半透射光部相接。
5.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，
所述遮光部形成为其周向边...
【专利技术属性】
技术研发人员：郡司辽佑，冈部达，谷山博己，市川伸治，斋田信介，神村浩治，仲田芳浩，井上彬，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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