显示面板及其制造方法及显示装置制造方法及图纸

技术编号:24096970 阅读:23 留言:0更新日期:2020-05-09 10:52
本发明专利技术是关于一种显示面板及其制造方法及显示装置,属于电子技术应用领域。所述显示面板包括:柔性基板,所述柔性基板具有显示区域和非显示区域;围堰结构,位于所述柔性基板的非显示区域,且围绕所述显示区域设置,在所述显示区域与所述围堰结构之间的非显示区域上设置有至少一个凹槽;有机封装层,覆盖所述显示区域和至少部分非显示区域,且覆盖所述至少一个凹槽。本发明专利技术提高了显示面板有机封装层的平坦度,增大了有机封装层与其所设置的基底的接触面积,提升了制成的显示面板的质量。

Display panel and its manufacturing method and display device

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制造方法及显示装置
本专利技术涉及显示
,特别涉及一种显示面板及其制造方法及显示装置。
技术介绍
柔性显示装置以其可变型可弯曲的特点成为目前显示领域极具应用前景的显示器件。柔性显示装置包括显示面板和透明盖板,显示面板一般包括:柔性基板,显示功能膜层和封装层,其中,有机封装层的形成通常是采用薄膜封装(英文:Thin-FilmEncapsulation;简称:TFE)工艺实现,这种工艺是通过交替形成多层的有机薄膜与无机薄膜得到有机封装层来完成对显示面板的封装。在相关技术中,封装层通常包括第一无机封装层,有机封装层和第二无机封装层,在封装过程中,用于形成有机封装层的有机材料在显示面板的非显示区域的流平存在差异,这会造成最终制成的显示面板的有机封装层不够平坦,导致显示面板的显示亮度均匀性较低,其中,流平是指有机材料在涂覆后,且尚未干燥成膜之前,由于表面张力的作用对有机材料的流动速度的影响;同时,由于形成的有机封装层与其所设置的基底的接触面积较小,极易导致有机封装层与基底(即位于该有机封装层与柔性基板之间,且与该有机封装本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:/n柔性基板,所述柔性基板具有显示区域和非显示区域;/n围堰结构,位于所述柔性基板的非显示区域,且围绕所述显示区域设置,在所述显示区域与所述围堰结构之间的非显示区域上设置有至少一个凹槽;/n有机封装层,覆盖所述显示区域和至少部分非显示区域,且覆盖所述至少一个凹槽。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
柔性基板,所述柔性基板具有显示区域和非显示区域;
围堰结构,位于所述柔性基板的非显示区域,且围绕所述显示区域设置,在所述显示区域与所述围堰结构之间的非显示区域上设置有至少一个凹槽;
有机封装层,覆盖所述显示区域和至少部分非显示区域,且覆盖所述至少一个凹槽。


2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述至少一个凹槽为间隔设置的多个凹槽。


3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
平坦层,位于所述柔性基板上,所述平坦层至少覆盖所述显示区域;
所述多个凹槽包括:至少一个第一凹槽和至少一个第二凹槽中的至少一种,
所述至少一个第一凹槽位于所述显示区域与所述平坦层的边缘之间的区域;
所述至少一个第二凹槽位于所述平坦层的边缘与所述围堰结构之间的区域。


4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,
所述至少一个第一凹槽位于所述平坦层上或者位于所述柔性基板上。


5.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,
所述至少一个第二凹槽位于所述柔性基板上。


6.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,
所述多个第一凹槽沿远离所述显示区域的方向深度逐渐减小;
所述多个第二凹槽沿远离所述显示区域的方向深度逐渐减小。


7.根据权利要求4至6任一所述的显示面板,其特征在于,
所述柔性基板包括依次叠加的第一有机层、第一无机层、第二有机层和第二无机层,所述至少一个第一凹槽和所述至少一个第二凹槽中的至少一种位于所述第二有机层靠近第二无机层的一侧。


8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
每个所述凹槽的开口的宽度大于底部的宽度。


9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述至少一个凹槽包括间断的凹槽和非间断的凹槽中的至少一种。


10.一种显示装置,其特征在于,包括:
透明盖板;
以及权利要求1至8任一所述的显示面板;
所述透明盖板扣置在所述显示面板上。


11.根据权利要求10所述的显示面板,其特征在于,
所述透明盖板包括透明基板,以及位于在所述透明基板上的偏光片和触控线;
所述透明基板设置有所述偏光片和所述触控线的一侧扣置在所述显示面板上。


12.根据权利要求11所述的显示面板,其特征在于,
所述透明盖板包括透明基板...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘莹毛明彭于航
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司成都京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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